双光子聚合基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 德国
  • 厂家
  • Nanoscribe
双光子聚合企业商机

多年来,Nanoscribe在微观和纳米领域一直非常出色,并且参与了很多3D打印的项目,包括等离子体技术、微光学等工业微加工相关项目。如今,Nanoscribe正在与美因兹大学和帕德博恩大学在内的其他行业带领机构一起开发频率和功率稳定的小型二极管激光器。该团队的项目为期三年,名为Miliquant,由德国联邦教育和研究部(简称BMBF)提供资助。他们的研发成果——3D打印光源组件,将用于量子技术创新,并可以应用在医疗诊断、自动驾驶和细胞红外显微镜成像之中。研发团队将开展多项实验,开发工业传感器和成像系统,这就需要复杂的研发工作,还需要开发可靠的组件,以及组装和制造的新方法。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维带您一起了解飞秒激光双光子聚合微纳加工。内蒙古TPP双光子聚合无掩光刻

内蒙古TPP双光子聚合无掩光刻,双光子聚合

作为基于双光子聚合技术(2PP)的微细加工领域市场带领者,Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。“我们为我们拥有特别先进的2PP技术而感到自豪,凭借我们的技术支持,我们的客户实现了一个又一个突破性创新想法。我们是一家充满活力、屡获殊荣的公司,与客户保持良好密切的合作关系是我们保持优于市场地位的关键”Nanoscribe联合创始人兼首席执行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识,Nanoscribe为前列科学研究和工业创新提供强大的技术支持,并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展。“我们非常期待加入CELLINK集团,共同探索双光子聚合技术在未来所带来的更大机遇”MartinHermatschweiler说道。山西TPP双光子聚合微纳加工系统科学家们运用Nanoscribe的双光子聚合技术,实现微流道母版制造和密闭通道系统内部的芯片内直接打印。

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Nanoscribe称,QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术(two-photongrayscalelithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目,打印队列支持连续执行一系列打印作业。

Nanoscribe称,QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术(two-photongrayscalelithography,2GL)的工业系统,目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合,可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换,物镜和样品夹持器识别会自动运行。多层衍射光学元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成,从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示,折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力,可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列,以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状,如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业,并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目,打印队列支持连续执行一系列打印作业。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨什么是双光子聚合微纳加工系统。

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Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。如何让双光子聚合技术应用锦上添花,请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。内蒙古TPP双光子聚合无掩光刻

德国Nanoscribe拥有超高精度双光子聚合微纳3D打印设备。内蒙古TPP双光子聚合无掩光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessional设备可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上(例如孔状硅材及二氧化硅)。突出特点是不再像常规的双光子聚合(2PP)那样在基体表面进行直写,而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量,从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术(通过激光束曝光控制的亚表面折射率)可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时,对折射率的调节范围甚至超过0.3。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力,科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件,例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜(如图示)。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。通过组合不同折射率的透镜可帮助降低透镜的色差。在给出的例子中,成像中的荧光强度和折射率高度相关,同时将打印的双透镜中的每个单独透镜可视化。内蒙古TPP双光子聚合无掩光刻

纳糯三维科技(上海)有限公司依托可靠的品质,旗下品牌Nanoscribe以高质量的服务获得广大受众的青睐。纳糯三维经营业绩遍布国内诸多地区地区,业务布局涵盖PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等板块。我们强化内部资源整合与业务协同,致力于PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等实现一体化,建立了成熟的PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统运营及风险管理体系,累积了丰富的仪器仪表行业管理经验,拥有一大批专业人才。纳糯三维始终保持在仪器仪表领域优先的前提下,不断优化业务结构。在PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等领域承揽了一大批高精尖项目,积极为更多仪器仪表企业提供服务。

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