导读:二极管是由半导体组成的器件，是半导体设备中的一种如常见的器件，我们接触如多的就是发光二极管了。本文主要讲述的是二极管原理，感兴趣的盆友们快来了解|下~~~二极管原理一简介极管又称晶体二极管,简称二极管，它是一种具有单向传导电流的电子器件，用符号"D“表示。在半导体二极管内部有一个PN结两个引线端子，这种电子器件按照外加电压的方向，具备单向电流的转导性。一般来讲，晶体二极管是一个由p型半导体和n型半导体烧结形成的PN结界面，在其界面的两侧形成空间电荷层，构成自建电场。LD是激光二极管的英文缩写，激光二极管的物理架构是在发光二极管的结间安置一层具有光活性的半导体。辽宁多功能激光二极管
激光二极管的结构随着技术和工艺的发展，目前实际使用的半导体激光二极管具有复杂的多层结构。图2为日本三洋公司的红光半导体激光二极管的结构。图3为小功率激光管剖视图，由图可见，激光芯片贴在用来散热的热沉上，在管座上靠近激光芯片下部封有PIN光电二极管图4为普通激光二极管的外形，由图可见，小功率激光管有三条引脚，这是因为在管内还封装有一个光电二极管，用于监控激光管工作电流。3.半导体激光二极管的常用参数有:(1)波长:即激光管工作波长,目前可作光电开关用的激光管波长有635nm650nm70nm690nm、780nm、810nm、860nm、980nm等(2)值电流Ith:即激光管开始产生激光振荡的电流，对一般小功率激光管而言，其值多功能激光二极管单价由于p-n结两边载流子浓度差引起的扩散电流和自建电场引起的漂移电流相等而处于电平衡状态。
半导体激光二极管的工作原理，理论上与气体激光器相同。常用参数⑴波长：即激光管工作波长，目前可作光电开关用的激光管波长有635nm、650nm、670nm、690nm、780nm、810nm、860nm、980nm等。⑵阈值电流Ith：即激光管开始产生激光振荡的电流，对一般小功率激光管而言，其值约在数十毫安，具有应变多量子阱结构的激光管阈值电流可低至10mA以下。⑶工作电流Iop：即激光管达到额定输出功率时的驱动电流，此值对于设计调试激光驱动电路较重要。⑷垂直发散角θ⊥：激光二极管的发光带在垂直PN结方向张开的角度，一般在15˚~40˚左右。⑸水平发散角θ∥：激光二极管的发光带在与PN结平行方向所张开的角度，一般在6˚~10˚左右。⑹监控电流Im：即激光管在额定输出功率时，在PIN管上流过的电流。激光二极管在计算机上的光盘驱动器，激光打印机中的打印头，条形码扫描仪，激光测距、激光医疗，光通讯，激光指示等小功率光电设备中得到了***的应用，在舞台灯光、激光手术、激光焊接和激光武器等大功率设备中也得到了应用。
如果激光二极管通过放大得到的增益（Gain）高于内部损耗和磁镜损耗，则产生振荡。即存在振荡电流阈值。比较大输出受到扭折（电流-光输出直线的折弯）、COD（端面光破坏）、温度引起的热饱和等的限制。测量激光二极管的光输出时使用光功率计。如下图所示，设置受光面时，使激光的所有光束都入射到光功率计的受光面上。将受光面相对光轴倾斜5~20°，以避免来自光功率计受光面的反射光返回到激光二极管。I-L特性表示正向电流 (IF) 和光输出 (PO) 的关系，可读取阈值电流 (Ith) 和工作电流 (Iop) 。监视电流 (Im) 是用内置的光电二极管监视从激光芯片后面射出的激光时的输出电流。激光二极管就选深圳市凯轩业科技，竭诚为您服务。
④在较高温度下工作，会增大阀值电流，较低转化频率，加速器件的老化。在调整光输入量时，要用光功率表检测，防止超过大额定输出。⑤输出功率高于指定参数工作，会加速元件老化。⑥机器需要充分散热或在制冷条件下使用，激光二极管的温度严格控制在20度以下，保证寿命。⑦激光二极管属于ESD静电敏感器件，在人体有良好的情况下才可以拿取，防静电可以采用防静电手镯的方法。⑧激光器的输出波长受工作电流与散热的影响，要保持良好的散热条件，降低工作时管芯的温度。加散热器防止激光二极管在工作中温升过高。在双向光接收机的回传模块中，上行发射一般都采用量子阱激光二极管作为光源。广东微型激光二极管
晶体二极管为一个由p型半导体和n型半导体形成的p-n结，在其界面处两侧形成空间电荷层，并建有自建电场。辽宁多功能激光二极管
DFB-LD多采用Ⅲ和Ⅴ族元素组成的三元化合物、四元化合物，在1550nm波段内，**成熟的材料是InGaAsP/InP。新型AIGaInAs/InP材料的研发日趋成熟，国际上*少数几家厂商可提供商用产品。优化器件结构，有源区为应变超晶格QW。有源区周边一般为双沟掩埋或脊型波导结构。有源区附近的光波导区为DFB光栅，采用一些特殊的设计，如：波纹坡度可调分布耦合、复耦合、吸收耦合、增益耦合、复合非连续相移等结构，提高器件性能。生产技术中，金属有机化学汽相淀积MOCVD和光栅的刻蚀是其关键工艺。MOCVD可精确控制外延生长层的组分、掺杂浓度、薄到几个原子层的厚度，生长效率高，适合大批量制作，反应离子束刻蚀能保证光栅几何图形的均匀性，电子束产生相位掩膜刻蚀可一步完成阵列光栅的制作。1550nmDFB-LD开始大量用于622Mb/s、2.5Gb/s光传输系统设备，对波长的选择使DFB-LD在大容量、长距离光纤通信中成为主要光源。辽宁多功能激光二极管
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