增材制造（AM）是近年来特别热门和相当有**性的制造工艺之一。这种新型制造工艺只要把设计输入机器里，然后把功能部件从机器的另一边取出来即可，这种想法以前出现在上一代人的科幻小说里，虽然现在我们仍离《星际迷航》电影里那样复制人类的技术还很遥远，但我们正在缩小这个差距。塑料、橡胶、陶瓷、油墨、贵金属和一些特殊合金材料，每天都在不同的行业中被制造及应用，其应用领域非常广，包括普通玩具、模具，甚至到人体部位等。现在这一切都可以利用3D打印（增材制造）技术打印出来。Nanoscribe公司作为精密之傲高精度3D打印系统制造商，于2018年在中国成立了分公司，加强了德国高科技公司在中国销售活动，完善了整个亚太地区的客户服务范围。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您简述增材制造技术的应用。浙江微机械增材制造Quantum X
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到比较高水平的生产力和打印质量。作为一款真正意义上的全能机型，该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的。重庆TPP增材制造微纳光刻增材制造技术正在推动制造业的数字化转型和创新。
全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的头一个用于熔融石英玻璃微纳结构3D微纳加工的商用高精度增材制造工艺和材料。新型光刻胶GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心内容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微纳加工的光刻胶。这种打印材料因其高光透性，出色的热稳性，机械性能和化学稳定性脱颖而出。这为探索生命科学，微流控，微纳光学，材料工程和其他微纳技术领域的新应用开辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓宽了注重耐高温特性，化学和机械稳定性以及光透性的高精度3D微纳加工应用。双光子聚合技术（2PP）的高精度结合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推动者生命科学，微流控，微纳光学及其他领域新应用的发展和探索。“尽管所需的后期热处理要求很高，GP-Silica在我们研究制造复杂的微流体系统方面具有巨大的潜力。”瑞士弗里堡大学工程与建筑学院助理教授兼图像打印系主任NicolasMuller博士总结道。借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。
Nanoscribe 将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产3D 微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500 多名用户在使用我们突破性的 3D 微纳加工技术和定制应用解决方案。 Nanoscribe 凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场的主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求增材制造需求，欢迎咨询纳糯三维科技（上海）有限公司.
Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨增材制造技术发展趋势和应用。广东实验室增材制造微纳加工系统
增材制造有助于提高制造效率和降低成本。浙江微机械增材制造Quantum X
Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高.浙江微机械增材制造Quantum X
