这种设计策略不仅可用于改进现有的传感器，该项目还旨在展示具有动态移动部件的新型传感器概念的可行性。在第二种设计中，研究人员在一根光纤的端面3D打印了一个微型转子。从转子上反射出的光脉冲可以被读取，因此该传感器可以被用于分析流速。
FabryPérot传感器进行温度和折射率感应的测试装置图。图片：资料来源见本文下方。通过动态可旋转的3D微纳加工概念，研究人员展示了智能设计如何改进现有的传感器，并为整个新的微型化传感器概念铺平道路的能力。 Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您揭秘什么是双光子灰度光刻系统。北京Nanoscribe灰度光刻技术3D打印
Nanoscribe成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，拥有卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的技术背景和卡尔蔡司公司的支持。经过十几年的不断研究和成长，Nanoscribe已成为微纳米生产的先驱和3D打印市场的带领者，推动着诸如力学超材料，微纳机器人，再生医学工程，微光学等创新领域的研究和发展，并提供优化制程方案。全新的QuantumX无掩模光刻系统能够数字化制造高精度2维和。作为世界上头一个双光子灰度光刻系统，在充分满足设计自由的同时，一步制造具有光学质量表面以及高形状精度要求的微光学元件，达到所见即所得。黑龙江2GL灰度光刻3D光刻该技术还可以与双光子聚合技术结合，实现高速打印高设计自由度和超高精度的特点,进一步扩展了其应用范围。
这是一款兼顾微观和宏观的高精度3D无掩模光刻产品，名为3D无掩模光刻。无论您是进行科学研究还是制作工业手板，这款产品都能满足您的需求。它不仅高效，而且精度非常高，能够适用于多种尺度和多种应用领域，极大地节省了加工时间。您可以轻松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，无论您是在微观尺度还是宏观尺度进行制作。如果您想要在科学研究或工业生产中得到更好的效果，3D无掩模光刻是您的比较好选择。它能够为您节省时间和精力，让您专注于更重要的事情。立即购买，体验高效、高精度的3D无掩模光刻吧！
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件，可以直接作为原型使用，也可以作为批量生产母版工具。 Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。灰度光刻技术可以实现高分辨率的微纳米结构制造。
传感器对可控技术的重要性，在众多领域都是显而易见的，无论是从简单的家用电器，还是到可穿戴设备，甚至到航空应用，只有控制良好的流程才有被优化的可能。理想的传感器应该具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等优点。光纤端面的微型传感器在这个方面具有巨大的潜力。这些传感器空间占有率小，可以轻松多路复用，并且不需要额外的外部能源供应。对于这些基于光纤的传感器的加工，双光子聚合技术已被证明是其完美的搭档。事实上，任何设计模型都能在微观尺寸上被实现。然而，大多数设计都是静态的，打印出来的部件在被加工出来后不能进行进一步的活动。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨灰度光刻技术的发展现状。灰度光刻无掩光刻
灰度光刻技术具有高精度、高效率的特点。北京Nanoscribe灰度光刻技术3D打印
Nanoscribe是卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的子公司，开发并提供用于纳米、微米和中尺度的3D打印机以及光敏材料和工艺解决方案。其口号是：“我们让小物件变得重要”，公司创始人开发出一种技术，对智能手机、手持设备和医疗技术领域至关重要的3D打印产品。通过基于双光子聚合（2PP）的3D打印机投入市场，他们已经为全球的大学和新兴行业提供了新的解决方案，致力于3D微打印生命科学研究以及纳米级3D打印光学，甚至利用他们的技术来开发创新的设备，例如用于类固醇洗脱的3D微支架人工耳蜗。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。北京Nanoscribe灰度光刻技术3D打印
