企业商机
XRD衍射仪基本参数
  • 品牌
  • 布鲁克
  • 型号
  • D8
XRD衍射仪企业商机

纳米多层薄膜物相随深度变化引言掠入射X射线衍射(GID)是表征薄膜材料的有效手段。通过控制不同的入射角度,进而控制X射线在薄膜中的穿透深度,可以确定薄膜材料的结构随深度变化的信息。实例45nmNiO/355nmSnO2/玻璃薄膜的GID测试由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户,都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的:配置仪器时,免工具、免准直,同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不只如此——布鲁克提供基于NIST标样刚玉(SRM1976)的准直保证。目前,在峰位、强度和分辨率方面,市面上尚无其他粉末衍射仪的精度超过D8ADVANCE。残余应力分析、织构和极图、微区X射线衍射、广角X射线散射(WAXS)。苏州弛豫检测分析

苏州弛豫检测分析,XRD衍射仪

D2PHASER—数据质量D2PHASER所具备的数据质量和数据采集速度远超目前人们对台式XRD系统的认知。得益于出色的分辨率、低角度和低背景,该仪器是从相识别、定量相分析到晶体结构分析的所有粉末衍射应用的理想解决方案。不仅如此——只有布鲁克AXS才能在整个角度范围内,保证实现仪器对准(精度等于或优于±0.02°2θ)。加上遵循着严格的仪器验证协议,它可为所有应用提供准确数据。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。苏州HRXRD检测分析样品台的卡口座允许在测角仪上快速准确地更换整个样品台,较大限度地提高实验灵活性。

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RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一个纳米到几个微米之间的单层或者多层材料。由于厚度比较薄,薄膜材通常依附于一定的衬底材料之上。常规的XRD测试,X射线的穿透深度一般在几个微米到几十个微米,这远远大于薄膜的厚度,导致薄膜的信号会受到衬底的影响(图1)。另外,如果衍射简单较高,那么X射线只能辐射到部分样品,无法利用整个样品的体积,衍射信号弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解绝了以上问题。所谓掠入射是指使X射线以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大减小了在薄膜中的穿透深度,同时增加衍射颗粒的数目和x射线在薄膜中的光程。这里有两点说明:GID需要硬件配置;常规GID只适合多晶薄膜和非晶薄膜,不适合单晶外延膜。

不论您的预算如何,D8ADVANCEECO系列都能通过仪器配置为您带来好的性能。由于降低了对水和电力等资源的需求,其运营成本降低。出色的仪器质量为可靠性提供了保证,同时布鲁克还为之提供组件质量保证。无外部供水成本1kW高效发生器降低电力成本,无外部冷却器耗电延长了X射线管的使用寿命X射线管质量保证:D8ADVANCEECO可用的所有高亮度X射线源均享有3年保修测角仪质量保证:测角仪采用免维护的坚固设计,可为您带来机械强度和较长的使用寿命,因此能够为您提供好的数据质量。其中,布鲁克提供10年保修。仪器准直保证探测器质量保证全能运动概念确保当样品在移动时,感兴趣区域始终在测角仪中心,从φ旋转到XYZ平移和ψ倾斜,有5个自由度。

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D8DISCOVER特点:微焦源IµS配备了MONTEL光学器件的IµS微焦源可提供小X射线束,非常适合小范围或小样品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.绿色环保设计:低功耗、无耗水、使用寿命延长3.MONTEL光学器件可优化光束形状和发散度4.与布鲁克大量组件、光学器件和探测器完全兼容。5.提供各种技术前列的全集成X射线源,用于产生X射线。6.工业级金属陶瓷密封管,可实现线焦斑或点焦斑。7.专业的TWIST-TUBE(旋转光管)技术,可快速简便地切换线焦斑和点焦斑。8.微焦斑X射线源(IµS)可提高极小焦斑面积上的X射线通量,而功耗却很低。9.TURBOX射线源(TXS)旋转阳极可为线焦斑、点焦斑和微焦斑等应用提供比较高X射线通量。10.性液态金属靶METALJET技术,可提供无出其右的X射线光源亮度。11.高效TurboX射线源(TXS-HE)可为点焦斑和线焦斑应用提供比较高X射线通量,适用于D8DISCOVERPlus。12.这些X射线源结合指定使用X射线光学元件,可高效捕获X射线,并将之转化为针对您的应用而优化的X射线束。所有样品台都是DIFFRAC.DAVINCI概念的组成部分,因此元件及其电动驱动装置可在安装时自动完成识别和配置。苏州D8 VENTURE检测分析

MONTEL光学器件可优化光束形状和发散度,与布鲁克大量组件、光学器件和探测器完全兼容。苏州弛豫检测分析

超薄HfO2薄膜XRR测试引言随着晶体管节点技术的发展,薄膜厚度越来越薄。比如高-栅介电薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在该技术节点的a20范围内。超薄膜的均匀性是制备Hf基栅氧化物的主要工艺难题之一。为了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的测量技术。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户,都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的:配置仪器时,免工具、免准直,同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不止如此——布鲁克提供基于NIST标样刚玉(SRM1976)的准直保证。目前,在峰位、强度和分辨率方面,市面上尚无其他粉末衍射仪的精度超过D8ADVANCE。苏州弛豫检测分析

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