集成电路制作工艺，集成电路按制作工艺可分为半导体集成电路和膜集成电路。膜集成电路又分类厚膜集成电路和薄膜集成电路。集成度高低，集成电路按集成度高低的不同可分为：SSIC 小规模集成电路(Small Scale Integrated circuits)；MSIC 中规模集成电路(Medium Scale Integrated circuits)；LSIC 大规模集成电路(Large Scale Integrated circuits)；VLSIC 超大规模集成电路(Very Large Scale Integrated circuits)；ULSIC特大规模集成电路(Ultra Large Scale Integrated circuits)；GSIC 巨大规模集成电路也被称作极大规模集成电路或超特大规模集成电路(Giga Scale Integration)。电子芯片的制造需要经过晶圆加工、光刻、蚀刻和金属化等多道工序。REG1117FA-2.5
集成电路或称微电路（microcircuit）、微芯片（microchip）、芯片（chip）在电子学中是一种把电路（主要包括半导体装置，也包括被动元件等）小型化的方式，并通常制造在半导体晶圆表面上。前述将电路制造在半导体芯片表面上的集成电路又称薄膜（thin-film）集成电路。另有一种厚膜（thick-film）混成集成电路（hybrid integrated circuit）是由单独半导体设备和被动元件，集成到衬底或线路板所构成的小型化电路。本文是关于单片（monolithic）集成电路，即薄膜集成电路。SNJ54LS04WTPS630xx系列是TI电源芯片的降压升压（Buck-Boost）转换器系列，适用于多种应用，如便携式设备等。
随着EDA工具(电子设计自动化工具)的发展，PCB设计方法引入IC设计之中，如库的概念、工艺模拟参数及其仿真概念等，设计开始进入抽象化阶段，使设计过程可以单独于生产工艺而存在。有远见的整机厂商和创业者包括风险投资基金(VC)看到ASIC的市场和发展前景，纷纷开始成立专业设计公司和IC设计部门，一种无生产线的集成电路设计公司(Fabless)或设计部门纷纷建立起来并得到迅速的发展。同时也带动了标准工艺加工线(Foundry)的崛起。全球头一个Foundry工厂是1987年成立的中国台湾积体电路公司，它的创始人张忠谋也被誉为"晶芯片加工之父"。
典型的如英国雷达研究所的科学家达默，他在1952年的一次会议上提出：可以把电子线路中的分立元器件，集中制作在一块半导体晶片上，一小块晶片就是一个完整电路，这样一来，电子线路的体积就可较大程度上缩小，可靠性大幅提高。这就是初期集成电路的构想，晶体管的发明使这种想法成为了可能，1947年在美国贝尔实验室制造出来了头一个晶体管，而在此之前要实现电流放大功能只能依靠体积大、耗电量大、结构脆弱的电子管。晶体管具有电子管的主要功能，并且克服了电子管的上述缺点，因此在晶体管发明后，很快就出现了基于半导体的集成电路的构想，也就很快发明出来了集成电路。LP8752是德州仪器(Texas Instuments)公司推出的低噪声、高PSRR、高效率4通道同步降压DCIDC转换器芯片。
集成电路检测常识：1、检测前要了解集成电路及其相关电路的工作原理，检查和修理集成电路前首先要熟悉所用集成电路的功能、内部电路、主要电气参数、各引脚的作用以及引脚的正常电压、波形与外部元件组成电路的工作原理。2、测试避免造成引脚间短路，电压测量或用示波器探头测试波形时，避免造成引脚间短路，较好在与引脚直接连通的外部印刷电路上进行测量。任何瞬间的短路都容易损坏集成电路，尤其在测试扁平型封装的CMOS集成电路时更要加倍小心。IC产业已开始进入以客户为导向的阶段。SNJ54LS04W
电子芯片设计过程中需要综合考虑功耗、散热和信号完整性等因素。REG1117FA-2.5
ADI 亚德诺命名描述：ADV 视频产品VIDEO，ADM 接口或监控 R 电源产品，ADP 电源产品，不尽详述，但标准产品一般以 AD 开头。命名范例，例如：AD644ASH/883B，命名规则：AD 644 A S H /883B，1 2 3 4 5 6，规则 1：“AD” 表示 “ADI 前缀”，AD —— 模拟器件，HA —— 混合 A/D，HD —— 混合 D/A，规则 2：“644” 表示 “器件编号”，644 —— 器件编号，XXX —— 器件编号，XX ——器件编号，规则 3：“A” 表示 “附加说明”，A —— 第二代产品，DI —— 介质隔离产品，Z —— 工作在+12V 的产品，E —— ECL，空 —— 无。REG1117FA-2.5
