Nanoscribe公司推出针对微光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻胶。全新光敏树脂材料具有高折射率，高色散和低阿贝数的特性，这些特性对于3D微纳加工创新微光学元件设计尤为重要，尤其是在没有旋转对称性和复合三维光学系统的情况下。由于在红外区域吸收率不高，因此光敏树脂成为了红外微光学的优先，同时也是光通讯、量子技术和光子封装等需要低吸收损耗应用的相当好的选择。全新IP-n162光刻胶是为基于双光子聚合技术的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可实现具有高精度形状精度的创新微光学设计，并将高精度微透镜和自由曲面3D微光学提升到一个新的高度。由于其光学特性，高折射率聚合物可促进许多运用突破性技术的各种应用，例如光电应用中，他们可以增加显示设备、相机或投影仪镜头的视觉特性。此外，这些材料在3D微纳加工技术应用下可制作更高阶更复杂更小尺寸的3D微光学元件。3D打印技术以其独特的优势和广泛的应用前景，正逐渐改变着我们的生活和工作方式。高精度3D打印无掩膜光刻
工业级3D打印技术正以惊人的速度改变着制造业的面貌。作为一种创新的制造方式，它不仅能够提高生产效率，降低成本，还能够实现个性化定制和快速原型制作。本文将为您介绍工业级3D打印的优势以及其在不同行业的应用。工业级3D打印技术的优势主要体现在以下几个方面。首先，它能够实现复杂结构的制造。相比传统的制造方式，3D打印可以通过逐层堆积材料的方式，打印出任意形状的产品，无论是内部结构还是外部形态，都能够实现精确控制。其次，3D打印可以实现个性化定制。传统制造方式需要大规模生产，而3D打印可以根据客户需求，快速制造出符合个性化要求的产品。此外，3D打印还能够实现快速原型制作，缩短了产品开发周期。高精度3D打印无掩膜光刻Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微纳3D打印系统。
Nanoscribe的PhotonicProfessional设备可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上（例如孔状硅材及二氧化硅）。突出特点是不再像常规的双光子聚合（2PP）那样在基体表面进行直写，而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量，从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术（通过激光束曝光控制的亚表面折射率）可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时，对折射率的调节范围甚至超过0.3。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力，科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件，例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜（如图示）。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。
微纳米3D打印技术的发展离不开创新和合作。各大科研机构和制造企业纷纷投入研发，推动技术的不断突破和进步。然而，微纳米3D打印技术也面临一些挑战。首先是材料选择的问题，目前可用于微纳米3D打印的材料种类有限，需要进一步研发和改进。其次是成本的问题，微纳米3D打印设备和材料的价格较高，限制了其在大规模生产中的应用。尽管存在一些挑战，但微纳米3D打印技术的前景依然广阔。随着技术的不断进步和成本的降低，相信微纳米3D打印技术将会在未来的制造业中发挥越来越重要的作用，为我们带来更多的创新和机遇。3D打印实际是对传统制造的补充。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之，该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性（如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统（MEMS）等）高分辨率的3D打印技术可以生产出比传统制造工艺更小、更精确的零件。河北微纳米3D打印Nanoscribe
双光子聚合3D打印技术的带领者UpNano公司成功地利用其NanoOne打印机制造出了所需的厘米范围内的测试样件。高精度3D打印无掩膜光刻
Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。高精度3D打印无掩膜光刻
