光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位，其成本约占IC制造工艺的20-30%，光刻胶去胶效果太弱影响生产效率，去胶效果太强容易造成基底损伤，影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶，成本低效率高，但随着技术不断选代更新，越来越多IC制造商开始采用干法式去胶，干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺，它不需要浸泡化学溶剂，也不用烘干，去胶过程更容易控制，避免过多算上基底，提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶，其原理同等离子清洗类似，主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶，由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的，主要的气体为氧气、氩气等，通过射频产生氧离子，轰击清洗物件，以获得表面光滑的较大化，并且结果是亲水性增大。在线式等离子清洗机的清洗速度比传统清洗方法快。其清洗过程中，不需要预热和冷却，可以直接进行清洗。江西plasma等离子清洗机答疑解惑
复合材料边框的耐腐蚀能力较差，容易导致边框在长期使用过程中发生断裂或变形，影响光伏组件的整体结构稳定性和使用寿命。为了有效解决这一问题，可以使用等离子处理，活化复合材料边框表面，提高其表面能，从而提高密封胶点胶质量。经plasma等离子处理后能够在复合材料表面形成极性基团，提高其表面自由能，从而有助于增强其表面附着力，使其更容易与密封胶等粘合剂结合，显著提高密封胶的附着力，避免脱落等问题，从而确保光伏组件的密封性能，提高整体光伏系统的稳定性和可靠性。吉林晶圆等离子清洗机技术指导等离子清洗机表面预处理和等离子清洗为塑料、金属、铝或玻璃的后续涂层提供了先决条件。
随着汽车行业标准的逐渐提高，消费者购车时对车辆的外观、内饰、智能化的要求也随之提高。新的需求推动了新技术和新材料的应用，目前，等离子处理技术正被积极应用在汽车内外饰行业中，该技术通过高密度的等离子体对材料表面进行表面清洗活化和改性处理，提升材料的表面性能，从而提高内外饰件粘接、贴合、植绒等工艺段质量，汽车内外饰件品质与技术的双重飞跃。汽车大尺寸内饰塑胶件普遍呈弯曲、凹凸等非平面造型，火焰法处理与常压等离子均处理时会存在无法处理到的死角，使用大腔体真空等离子可高效、均匀进行表面活化处理，提高润湿性，从而提高粘接强度，不同规格的内饰件可定制相应尺寸的腔体。
等离子表面处理技术在光伏电池制程中也有着广泛的应用，可用于玻璃基板表面活化，阳极表面改性，涂保护膜前处理等，在提高光伏元件表面亲水性、附着力等方面具有明显的优势。大气等离子清洗机SPA-2800采用稳定性高的移相全桥软开关电路，拥有稳定的模拟通信数据传输方式，等离子体均匀，能够实现高效清洗，效果稳定且时效性长，能够满足光伏边框的表面处理需求。等离子处理完成后，可使用接触角测量仪验证其处理后的效果，通过对比前后的接触角数据、极性分量、色散分量、表面能等数值有效分析和判断等离子处理的有效性。真空等离子适用于面积较大、形状复杂的材料清洗，可搭配多路工艺气体，定制真空等离子流水线设备。
在微电子封装领域，Plasma封装等离子清洗机发挥着至关重要的作用。随着集成电路技术的不断发展，芯片尺寸不断缩小，对封装过程中的表面清洁度要求也越来越高。传统的湿法清洗方法难以彻底去除芯片表面的微小颗粒和有机物残留，而Plasma封装等离子清洗机则能够在分子级别上实现表面的深度清洁，有效去除这些污染物，提高封装的可靠性和稳定性。此外，等离子体还能对芯片表面进行改性，提高其与封装材料的粘附力，降低封装过程中的失效风险。因此，Plasma封装等离子清洗机已成为微电子封装生产线上的必备设备。等离子清洗机可以用于活化不锈钢片表面，提高材料表面活性，提高润湿性和表面附着力，解决粘接不良的问题。江西在线式等离子清洗机常用知识
通过等离子表面活化，可以提高玻璃基板表面亲水性，有效优化表面附着力，提升电池的稳定性和品质。江西plasma等离子清洗机答疑解惑
等离子清洗机在技术上不断推陈出新，以满足日益增长的市场需求。现代等离子清洗机普遍采用高频电源驱动技术，能够提供更稳定、更高效的等离子体产生能力，提高清洗效率和稳定性。同时，智能控制系统的引入使得设备能够自动监测清洗过程中的各项参数，并根据实时数据进行调节和优化，降低了人工成本和操作难度。此外，新型等离子产生技术的出现，如微波等离子清洗技术、射频等离子清洗技术等，进一步提高了等离子体的产生效率和稳定性，拓宽了等离子清洗机的应用范围。在绿色环保和可持续发展理念的推动下，等离子清洗机在设计和制造过程中更加注重环保性能，采用低能耗、低排放的设计理念，符合绿色生产和可持续发展的要求。江西plasma等离子清洗机答疑解惑
