场效应管（FieldEffectTransistor，简称FET）是一种利用场效应原理工作的半导体器件。它具有输入阻抗高、噪声低、动态范围大、功率小、易于集成等特点。在电路中，场效应管通常用字母“Q”表示。场效应管一般具有3个极，即栅极（G）、源极（S）和漏极（D）。它的工作原理是当栅极接的负偏压增大时，沟道减少，漏极电流减小；当栅极接的负偏压减小时，耗尽层减小，沟道增大，漏极电流增大。漏极电流受栅极电压的控制，因此场效应管是电压控制器件，即通过输入电压的变化来控制输出电流的大小，从而达到放大等目的。场效应管在电路中被广泛应用于放大、调制、阻抗变换、恒流源、可变电阻等场合。此外，它还有许多其他应用，如开关电源、逆变器、电子镇流器等。场效应管在电路设计和电子设备中扮演着非常重要的角色。场效应管的工作温度范围较宽。台州P沟增强型场效应管供应
场效应管在开关电路中的应用也非常的。当栅极电压高于一定阈值时，场效应管导通，相当于一个闭合的开关的；当栅极电压低于阈值时，场效应管截止，相当于一个断开的开关。由于场效应管的开关速度快的、损耗小，因此在数字电路的和功率电子领域中得到了大量的应用。例如，在计算机主板上的，场效应管被用于控制电源的开关，实现对各个部件的供电控制。在电动汽车的电机驱动系统中的，场效应管则作为功率开关，实现对电机的高效控制。绍兴N沟耗尽型场效应管价格场效应管是一种具有多种应用场景和优点的半导体器件，在现代电子电路中扮演着非常重要的角色。
场效应管的特征场效应管具备放大功用，可以构成放大电路，它与双极性三极管相比之下具以下特征：（1）场效应管是电压控制器件，它通过UGS来操纵ID；（2）场效应管的输入端电流极小，因此它的输入电阻很高；（3）它是运用多数载流子导电，因此它的温度稳定性较好；（4）它构成的放大电路的电压放大系数要低于三极管构成放大电路的电压放大系数；（5）场效应管的抗辐射能力强。三.符号：“Q、VT”，场效应管简称ＦＥＴ，是另一种半导体器件，是通过电压来支配输出电流的，是电压控制器件场效应管分三个极：Ｄ颇为漏极（供电极）Ｓ颇为源极（输出极）Ｇ极为栅极（控制极）Ｄ极和Ｓ极可互换使用场效应管图例：四.场效应管的分类：场效应管按沟道分可分成Ｎ沟道和Ｐ沟道管。
MOS三个极怎么识别判断2、寄生二极管我们看到D极和S极之间存在着一个二极管，这个二极管叫寄生二极管。MOS的寄生二极管怎么来的呢?在网上查了一番资料才知道，它是由生产工艺造成的，大功率MOS管漏极从硅片底部引出，就会有这个寄生二极管。小功率MOS管例如集成芯片中的MOS管是平面结构，漏极引出方向是从硅片的上面也就是与源极等同一方向，没有这个二极管。模拟电路书里讲得就是小功率MOS管的结构，所以没有这个二极管。但D极和衬底之间都存在寄生二极管，如果是单个晶体管，衬底当然接S极，因此自然在DS之间有二极管。如果在IC里面，N—MOS衬底接比较低的电压，P—MOS衬底接最高电压，不一定和S极相连，所以DS之间不一定有寄生二极管。那么寄生二极管起什么作用呢?当电路中产生很大的瞬间反向电流时，可以通过这个二极管导出来，不至于击穿这个MOS管。(起到保护MOS管的作用)寄生二极管方向判定：3、MOS管的应用1）开关作用现在电子主板上用得多的电子器件便是MOS管，可见MOS管在低功耗方面应用得非常广。 场效应管的尺寸小，适合集成电路应用。
场效应管是场效应晶体管（FieldEffectTransistor,FET）的简称。它属于电压型半导体器件，具有输入电阻高、噪声小、功耗低、没有二次击穿现象、安全工作区域宽、受温度影响小等，特别适用于高灵敏度和低噪声的电路，现已成为普通晶体管的强大竞争者。普通晶体管（三极管）是一种电流元件，工作时，多数载流子和少数载流子都参与运行，所以被称为双极型晶体管；而场效应管（FET）是一种电压器件（改变其栅源电压就可以改变其漏极电流），工作时，只有一种载流子参与导电，因此它是单极型晶体管。场效应管和三极管一样都能实现信号的和放大，但由于他们构造和工作原理截然不同，所以二者的差异很大。在某些特殊应用方面，场效应管优于三极管，是三极管无法替代的。 P沟道MOS场效应管和N沟道MOS场效应管总是在相反的状态下工作，其相位输入端和输出端相反。绍兴isc场效应管生产
在开关电路中，场效应管可以用于控制电流的开关状态，例如在电源管理电路中控制电源的开关。台州P沟增强型场效应管供应
P沟道结型场效应管除偏置电压的极性和载流子的类型与N沟道结型场效应管不同外，其工作原理完全相同。绝缘栅型场效应管（MOS管）中，目前常用的是以二氧化硅SiO2作为金属铝栅极和半导体之间的绝缘层，简称MOS管。
它有N沟道和P沟道两类，而每一类又分增强型和耗尽型两种。所谓增强型就是UGS=0时，漏源之间没有导电沟道，即使在漏源之间加上一定范围内的电压，也没有漏极电流；
反之，在UGS=0时，漏源之间存在有导电沟道的称为耗尽型。N沟道增强型MOS管是一块杂质浓度较低的P型硅片作为衬底B，在其中扩散两个N+区作为电极，分别称为源极S和漏极D。
半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层，在漏源极间的绝缘层上再制造一层金属铝，称为栅极G。这就构成了一个N沟道增强型MOS管。显然它的栅极与其它电极间是绝缘的。沟道增强型MOS管结构图MOS管的源极和衬底通常是接在一起的(大多数管子在出厂前已连接好)，N沟道增强型MOS管在UGS＜UT(开启电压)时，导电沟道不能形成，ID=0，这时管子处于截止状态。
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