江西绝缘积水胶带推荐厂家

Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。经过多次比较，我们发现积水胶带在性价比方面具有明显优势。江西绝缘积水胶带推荐厂家

    提升生产性特征干膜式的临时键合使操作更加安全稳定通过产生气体实现无损伤剥离优良的耐热性，耐药性使用例：传感器（CIS，指纹等）防止晶圆翘曲产品规格品名类型高耐热剥离方法基材种类器件侧粘着种类支撑剂侧粘着种类UV波长(nm)UV照射量(mj/cm2)用途例HW两面○剥离气体剥离耐热膜UV固化粘着剂气体产生2000玻璃支撑测试结果背部研磨测试测试条件结果晶圆厚度700μm⇒50～30μm边缘部分耐药性测试玻璃+双面SELFA+晶圆贴合后3小时进入测试实施Acid(SC2:HCl+H2O2+H20)：3時間Base()：3時間无Pre-UV边缘浮起边缘浮起有Pre-UV端部OK端部OK耐热测试a)220℃×2小时b)260℃无铅回流焊条件热板烘烤玻璃+双面SELFA+晶圆贴合后进行耐热性测试无变化：2小时OK无变化：3次OKUV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面保护用的胶带.。 江苏双面积水胶带日本进口，SEKISUI积水单面胶带：252、835、830、738、730、733、781、600、600V、500、504NS…等。

LCD部件固定用胶带积水#550R6BW/积水#550P8BW是固定背光源模组和LCD模组而开发的双面胶带采用特殊黑白3800系列LCD部件固定用双面胶带积水3800BWC，积水3805BWC积水3806BWC耐反制力3800BWH积水3803BWH积水3804BWH积水3805BWH积水3806BWH积水3808BWH积水3810BWH积水3812BWH积水3815BWH片面积水3800BWS积水3805BWS积水3809BWS再使用3800BWAP积水3800BWSH积水3805BWSH积水3806BWAP积水3808BWAP遮光应力缓和3800BC积水3805BC积水3806BC积水3808BC耐反制力积水3800BH积水3800BHB积水3802BH积水3803BH积水3804BH积水3805BH积水3805BHB积水3806BH积水3806BHB积水3808BH积水3808BHB积水3810BH积水3812BH积水3815BH积水3820BH窄边框用3800BZ积水3802BZ积水3803BZ片面3800BS积水3801BXS积水3803BS积水3805BS积水3808BS积水3810BS再使用积水3800BAP积水3800BSH积水3805BAP积水3805BSH积水3806BAP积水3806BSH积水3808BAP积水3808BSH各种粘接用途透明应力缓和积水3800积水3803积水3805耐反制力积水3800H积水3803H积水3805H积水3808H积水3810H积水3812H积水3815H积水3820H再使用积水3800AP积水3805AP极薄积水3800X3801X反射耐反制3800WH积水3803WH积水3805WH积水3806WH积水3808WH积水3810WH。

    高耐久类型（离型）Tackwell157SD,SD-S防止由于溶剂引起的离型层脱落，即使是高粘连性的液状湿膜，可容易从底片剥离。有些无卤型和封装基板用液状绿漆使用特殊溶剂，该溶液会使离型层脱落，因此经过几次曝光后就必须更换胶带。TACKWELL＃157SD可防止此类溶剂引起的离型层脱落，并且通过大幅提高TACKWELL的耐久性，在使用液状绿漆时保护膜的更换次数可减少到小限度。而且，由于具有杰出的光学特性，也适用于BGA等高密度封装基板。离型层脱落测试积水测试方法按照实际的基板曝光方式，多次曝光，进行测试。POTOMASK白色评价评价方法各曝光数次后POTOMASK的HAZEl值的测定积水评价方法（密着曝光评价）根据实基板的曝水的形状，重复进行曝光，实施测试。绿漆太阳油墨AUS308基板（t）玻璃纤维环氧树脂铜厚35微米两面真空密接-75cmHg×1分钟记载的数值为测量值，非保证值。高耐久型（防静电，离型）Tackwell157ASD在深受好评的157SD的高耐久离型层的基础上，加上高耐久的防静电功能和抑制气泡（贴合时产生的气泡）的功能。抗静电功能贴合时的气泡抑制功能使用maskKodak。 德莎tesa7475測試膠帶。

    防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni。Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。 sekisui积水胶带，5225PSB型号齐全！嘉兴5782积水胶带咨询问价

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。积水化学拥有高耐热性的单面HS系列，高耐热的双面临时键合材料HW系列，以及高耐药液性的MP系列等的产品系列，我们可以从中选择适合您应用场景的型号进行提案。耐热SELFA系列SELFAHS耐热SELFA系列SELFAHWUV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MPSELFA系列的特征凭借高耐热性及特殊剥离技术来实现崭新的半导体工艺适用无铅回流焊等新的工艺适用于超薄器件宽泛的工艺窗口通过气体的产生实现无损伤的剥离即使在高温后也能够实现无残胶一般UV胶带SELFA一般UV胶带SELFA耐热性×（150度以下）220℃@2hr+Reflow残胶×无残胶单面耐热SELFAHS系列在诸如回流焊等封装的热制程中保护器件特征优良的耐热性，耐药性同时兼备强粘着+低残胶两种性能使用例产品规格品名类型高耐热剥离方法基材种类器件侧粘着种类支持剂侧粘着种类UV波长(nm)UV照射量(mj/cm2)用途案例HS单面○剥离耐热膜UV固化粘着剂-4053000reflow双面耐热SELFAHW系列实现干膜式的干法临时键合工艺。江西绝缘积水胶带推荐厂家