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光电测试系统基本参数
  • 品牌
  • MIKORN,IMPAC,INFRAMET
  • 型号
  • LAFT;DT;SIM,热成像光电测试系统
  • 产地
  • 上海
光电测试系统企业商机

NVS夜视设备多功能测试系统是一个模块化的测试系统,可测试长程夜视瞄准设备,同时支持测试短程夜视镜及双目夜视镜。因此NVS测试系统是一个多功能测试系统。NVS测试系统采用模块化设计,包括一组可切换的透射式光管、可移动的光源和一组靶标等模块。NVS测试系统的测试过程是基于MIL系列标准的建议。NVS测量系统投影一个标准靶标的图像到水平固定的被测夜视仪。通过调节两个旋钮,操作者可以控制透射到被测量夜视仪光的强度和靶标的类型。被测量器件生成一个畸变的标准靶标的图像。通过人眼观察或者借助测量工具如亮度计来评估这个畸变的图像,得到被测量器件的重要参数。光电精确测量,保障医疗器械精确操作。重庆光电测试系统设备制造

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SAFT是专业用来测量成像距离只有几米的短距热像仪的小型模块化设备。绝大多数的商用热像仪属于这一范畴SAFT不使用折射光管作为投射装置,所以分辨率片到被测成像仪的距离须比较短。所以SAFT一般推荐用来检测上面提到的小型短距,小口径,宽FOV的热像仪。如果需要测试大口径或者比较窄视野的热像仪时,我们也提供额外的折射光管供客户选择。由于SAFT把一系列的分辨率片装在了电动光栅上所以它可以快速地测量热像仪的各种参数。一般SAFT由TCB-2D黑体,一组分辨率片,ARC-500屏蔽装置,PC,抓帧器,TAM软件,还有一些可选模块组成。SAFT可以直接投射不同的分辨率片到被测热像仪上,根据被测热像仪所产生的扭曲图像副本再结合软件或者主观判断我们可以衡量出该被测热像仪的性能,另外热像仪的一些重要参数也都包含在了测量项目中。四川光电测试系统安装Inframet OPO 望远瞄准测试系统,提升电子产品生产线质量控制。

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靶标是用于测试光电成像系统时创建参考图像的模块。Inframet提供的靶标可分为两类:1)无源靶标,2)有源靶标。无源靶标需要由黑体或标定光源产生均匀光束照射,生成参考图像模式的图像。这些靶标通常是大型测试系统位于平行光管焦平面的小模块。无源靶标的工作不需要电力供应。这些标准的小尺寸靶标作为Inframet制造的大型模块化测试系统(如DT,TAIM,TVT,MS)的一部分。有源靶标是通过其自身的热辐射或由人造光源发出的反射光创建参考图案。这些目标通常是大型的单独模块(尺寸从500mm到3000mm),需要电才能正常工作。被测光电成像仪可直接看到有源靶标。这些靶标用于测试融合成像仪的融合算法或作为热像仪/VIS-NIR相机分辨率靶标的流行解决方案。FUT系列靶标是有源靶标,通常用于测试融合成像系统或热像仪。经典热图像与可见光图像的融合成像系统拥有更强的监视能力。融合系统通常使用一个多传感器成像系统,由一个热像仪和一个可见光相机(或夜视设备和可见光相机)组成,图像的融合可以采用光学方法或数字图像处理方法。

OPO测试系统为计算机化的系统,用于对被测望远瞄准系统生成的参考图像进行分析。OPO测试系统由以下模块组成:TG-OP目标发生器,CTG控制器,一组靶标,一组圆孔,CPO10100投射式平行光管,MP-A机械平台,MP-B机械平台,MP-C平台,DPM66屈光度计,计算机,图像采集卡,一组孔径调节器以及TOPO测试软件。

产品参数如下

表1被测光学系统范围

参数:数值

入射口径范围:10-60mm

出射口径范围:2-60mm

放大率范围:-30x

表2测试调节范围

参数:数值

模拟距离50m,100m,200m,250m,300m,400m,600m,∞

离轴角范围:0°-30°


Inframet TFEV测温仪测试系统,提升玻璃制造行业透明度检测。

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InframetLS-SAL多通道宽波段可见光-短波红外光源适用于VIS-SWIR相机,有五种工作模式:1)色温是2856K的卤素,适用于VIS-SWIR波段;2)色温超过5000K的白色宽带LED,适用于可见光;3)混合模式,卤素灯和白色宽带LED按照一定光强比例工作;4)校准单色1550nm光源;5)校准短波红外光源。其次,LS-SAL光源配备一套滤波片,当工作在卤素灯模式时,可用于选择所需的波段。

基础工作模式

①卤素灯-无滤光片②可见光LED③混合模式,卤素灯和白色宽带LED④带1550nm窄带滤光片的卤素灯⑤只带短波红外滤光片的卤素灯 Inframet NVS 夜视设备多功能测试 系统,助力航空航天器热防护系统测试。四川光电测试系统安装

Inframet TAlM热瞄准镜和热像仪夹测 试系统,赋能环保监测,守护绿水青山。重庆光电测试系统设备制造

在国际市场提供的典型面源黑体(包括Inframet提供的TCB/MTB黑体)被优化,以模拟在常用的红外辐射光谱带中的黑体目标:约1μm至约15μm。这种黑体的发射面的高发射率是通过温度受控的金属板,与其涂覆的高吸收性涂料薄层来实现。由于这种黑体的发射率在波长约0.1mm处开始下降,并且在波长超过约1mm变得非常低,所以典型的面源黑体不能用于模拟THz带(0.1mm至1mm)和亚THz带(1mm至10mm的波长)的黑体目标温度。在典型的红外黑体中使用的高辐射率涂层对于太赫兹光学辐射而言变得部分半透明,特别是在长波处大约0.5mm。由于以下几个原因,太赫兹区域黑体的设计是一个技术挑战:a)需要THz/短波频谱带中高吸收率涂层的发射体以确保高发射率;b)由于THz/微波成像仪的低分辨率,所以需要大面积的黑体;c)需要很高的温度均匀性、温度稳定性和准确度,以便能够对THz/微波传感器进行准确校准。重庆光电测试系统设备制造

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