皮拉尼真空计利用惠斯通电桥的补偿原理,通过测量一个发热体与一个接收发热体之间的热传导程度来判断气体的压力。具体来说,当加热灯丝(一般为铂丝)被恒定电流加热时,其温度会升高。对于给定大小的电流,加热丝的温度取决于通过传导和对流向周围介质(即气体)散热的速率。在真空或低压环境中,加热丝的热导率(即将热量散发给周围介质的能力)会降低,导致加热丝变得更热。这种温度变化会引起导线电阻的变化,这种变化可以通过惠斯通电桥来测量。当气体分子密度发生变化时,热量从金属丝传递到气体会受到影响。这种热损失取决于气体类型和压力,使金属丝保持在一定温度下所需的能量也相应变化。因此,可以通过测量这种能量变化来间接测量真空压力。电容真空计与热传导式真空计在测量原理上有所不同。苏州皮拉尼真空计生产企业

3. 电离真空计电离真空计通过电离气体分子来测量压力,适用于高真空和超高真空范围。(1)热阴极电离真空计原理:利用热阴极发射电子电离气体分子,通过离子电流测量压力。测量范围:10⁻¹⁰ Torr 到 10⁻³ Torr。优点:精度高、测量范围广。缺点:热阴极易损坏,需要较高维护。应用:高真空和超高真空系统。(2)冷阴极电离真空计原理:利用冷阴极放电电离气体分子,通过离子电流测量压力。测量范围:10⁻¹² Torr 到 10⁻³ Torr。优点:无需热阴极,寿命长。缺点:启动时间较长,稳定性稍差。应用:高真空和超高真空系统。重庆mems电容真空计电容真空计通常适用于中低真空范围的测量,如从大气压到几千帕甚至更低。

皮拉尼真空计是一种基于热传导原理的真空测量仪器,用于低真空到中真空范围的测量。其工作原理是通过测量气体分子对热丝的热传导变化来确定压力。工作原理皮拉尼真空计的部件是一根加热的金属丝(通常是钨或铂),其工作原理如下:加热与热传导:金属丝通电加热,热量通过气体分子传导。压力变化:气体压力越高,分子越多,热传导越强,金属丝温度下降。电阻变化:金属丝温度变化导致电阻变化,通过测量电阻变化间接测量压力。主要特点宽量程:适用于低真空到中真空范围(通常为10^-1 Pa到10^5 Pa)。快速响应:对压力变化反应迅速。结构简单:易于制造和维护。成本较低:相比其他真空计,价格较为经济。
1. 机械式真空计机械式真空计通过物理形变或液柱高度差来测量压力,适用于粗真空和低真空范围。(1)U型管压力计原理:利用液柱(如水或汞)的高度差测量压力。测量范围:通常为大气压到约 1 Torr(133 Pa)。优点:结构简单、成本低。缺点:精度较低,不适用于高真空。应用:实验室粗真空测量。(2)布尔登压力计原理:利用金属管(布尔登管)在压力作用下的形变来测量压力。测量范围:大气压到约 10⁻³ Torr。优点:结构简单、耐用。缺点:精度有限,不适用于高真空。应用:工业粗真空和低真空测量。如何选择真空计才具有更高的性价比?

陶瓷真空计是一种用于测量真空系统中压力的仪器,广泛应用于半导体制造、真空镀膜、科研实验等领域。其**部件由陶瓷材料制成,具有耐高温、耐腐蚀、绝缘性能好等优点。主要特点耐高温:陶瓷材料能在高温环境下稳定工作。耐腐蚀:适用于腐蚀性气体环境。绝缘性能:良好的电绝缘性,适合高电压环境。高精度:提供精确的真空度测量。
陶瓷真空计通过测量气体分子对陶瓷元件的热传导或压力效应来确定真空度,常见类型包括:热电偶真空计:利用气体热传导变化测量压力。皮拉尼真空计:基于气体热传导与压力的关系。电容式真空计:通过陶瓷薄膜的形变测量压力。应用领域 选择真空计的原则有哪些?重庆mems电容真空计供应商
真空计的读数通常是不变的,这是因为它们通常使用一个固定的参考压力来校准仪器。苏州皮拉尼真空计生产企业
选择适合的真空计对确保测量精度和系统稳定运行至关重要。以下是选择真空计时需要考虑的关键因素:1. 测量范围真空度需求:根据应用需求选择适合的测量范围,如低真空、中真空、高真空或超高真空。量程匹配:确保真空计的量程覆盖所需测量范围。2. 精度与分辨率精度要求:选择满足精度要求的真空计,高精度应用需选择高精度型号。分辨率:确保分辨率足够高,能检测到微小压力变化。3. 响应时间快速响应:对压力变化敏感的应用需选择响应时间短的真空计。稳定性:在快速变化环境中,选择稳定性好的真空计。4. 环境适应性温度范围:确保真空计能在工作温度范围内正常运行。耐腐蚀性:在腐蚀性气体环境中,选择耐腐蚀材料制成的真空计。5. 气体类型气体种类:不同气体对真空计测量有影响,选择适合测量特定气体的真空计。气体清洁度:在污染气体环境中,选择不易受污染的真空计。苏州皮拉尼真空计生产企业
真空泵的工作原理真空泵通过机械或物理方式移除气体分子。旋片泵通过旋转叶片压缩气体排出;涡轮分子泵利用高速叶片撞击气体分子;低温泵则通过冷却表面吸附气体。干泵无油污染,适合洁净环境;扩散泵通过油蒸气喷射带走气体,需配合冷阱使用。选择泵需考虑极限真空、抽速和气体类型。4. 真空在半导体制造中的应用芯片制造需10⁻⁷ Pa超高真空环境。光刻机通过真空避免空气散射紫外线;离子注入在真空中加速掺杂原子;分子束外延(MBE)逐层生长晶体。真空减少杂质污染,确保纳米级精度。一台EUV光刻机包含数十个真空腔室,真空稳定性直接影响5nm以下制程良率。选择真空计的原则有哪些?天津高质量真空计生产企业真空计的安装误...