氦检仪现已普遍应用于半导体设备检漏。半导体设备及材料需要检漏原因：1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。综上所述，氦检仪在半导体行业起着至关重要的作用。氦质谱检漏仪的灵敏度，通常指仪器的可检漏率。泰州智能氦质谱检漏仪
氦检仪在压力容器中的常用方法：喷氦法，喷氦法是常用，比较方便的检漏方法。检漏时，用连接在装有氦气的气瓶上的喷头向怀疑有漏泄的部位喷氦气，如果有氦气从漏孔中流入压力容器装置，则装置内的氦分压就会上升，氦氦检仪上就会显示有泄漏率。是否合格要看标准漏率值是定在多少，超过标准漏率值的可视为不合格。氦罩法，这种方法使用一个检漏罩（塑料薄膜等）把被检容器包起来，先排除罩内空气，然后充入氦气或氦气的混合气体，氦检仪与被检容器内部连接，当氦检仪有漏率显示时，说明有泄漏。这个漏率称为总漏率。总漏率为各个分漏率之和；总漏率不超标准值，则各个分漏率也不超标准值；总漏率超过标准值，则检查各个点的分漏率是否超过标准值。然后再对超过标准值的漏孔进行修补，直至达到合格标准为止。金华智能氦质谱检漏仪定制氦检仪喷氦法检测灵敏度高，可精确定位。
氦质谱检漏仪为什么会选择氦气作为主要的示漏气体？1、氦气的质量轻，易于穿过漏孔，进入系统时流动和扩散快，因此响应快，检漏灵敏度高。2、氦离子质荷比小，因此可以减小磁分析器偏转半径的尺寸和选用较弱一点的磁场。同时一阶氦离子的质荷比与一阶氢离子、二阶碳离子相差较大，利于离子分离，可以适当降低对分析器制造精度的要求，使质谱室中氦离子通过的各个缝隙，从而提高氦离子的传输率。3、氦在空气中及残余气体中的含量少，在材料出气中氦气也很少，因此本底压力小，检漏时本底信号小。
氦质谱检漏仪的的故障和处理：1、内部的泄漏，当检漏仪内部存在泄漏时，会对检漏工作造成较大干扰，容易造成误检、误判。各零部件接口处的密封部位。如放大器与质谱室、离子源与质谱室、分子泵与质谱室、标准漏孔与阀门组件、真空计与阀门组件等接口间的橡胶圈密封。采用喷氦法寻找漏点，更换密封件。2、本底信号不稳定，1）本底信号过高有可能是环境本底被污染，注意检查室内是否有氦气源在泄漏。将室内的门窗打开通风，降低环境本底。2）本底信号过高也有可能是因为质谱室被污染。检漏仪若经常检测含有油污、粉尘等杂质较多的被检件时，质谱室极易被污染，需返厂进行清洗，本底信号不稳定，检查电源电压是否稳定，氦质谱检漏仪应有可靠的接地。为尽量消除氦质谱检漏仪的本底噪声，需要针对性的采取措施。
氦检仪具有性能稳定、灵敏度高的特点。灵敏度、反应时间、清零时间、工作真空度、极限真空度及仪器入口处抽速是评价氦检仪的主要性能指标。检测气体使用氦气的主要原因如下：(1)对人体和自然环境没有毒害；(2)不能燃烧，作业安全；(3)惰性气体，和被检测对象不会发生化学反应；(4)分子直径和质量小，容易穿过微小缝隙，便于检漏；(5)通常环境下保持气体状态，不会堵住微漏孔；(6)真空腔体自身放出的气体中几乎不包含氦气；(7)氦气在空气中的存在量只为5ppm，容易定点查清漏气位置。由于氦气比空气轻很多，向真空腔体喷氦气检漏时要从上往下依次操作，否则不利于判定漏点所在。当腔体构造复杂，或漏率极小时，可针对重点部位用塑料袋套住，然后向塑料袋内部充入氦气，实现对特定重点部位的检漏。氦检仪为气体工业名词术语，用氦气或者氢气作示漏气体，以气体分析仪检测氦气而进行检漏的质谱仪。分体式氦质谱检漏仪定制
氦质谱检漏仪可以对具有内腔的微电子或半导体器件封装的气密性进行细检漏。泰州智能氦质谱检漏仪
氦质谱检漏仪在使用时需注意哪些问题？1、氦质谱检漏仪实际的检漏灵敏度比理论计算值低，一是由于所喷出的氦气流是散开的，故掺有一定数量的空气，使氦气的浓度有所降低。二是喷出的气流的方向不可能完全对准漏孔的方向，此外、在凹缺处所存在的空气会使得进入漏孔的氦气浓度降低。2、检漏次序：从被检件物体的上方至下方，由近处向远离检漏仪处逐点进行喷氦检查。3、检出的大漏孔要经修补后再去找小漏孔。4、当存在两个相距很近的可疑的漏孔点时，应先把一个点盖住，再对另一点进行喷氦。5、当喷在某一点时，如果，检漏仪上的显示有变化，其上升速度很慢且显示值不稳定表示邻近其它地方有很大漏孔。泰州智能氦质谱检漏仪
