中清航科的流片代理服务注重技术创新，每年投入营收的 15% 用于研发。其研发团队专注于流片工艺优化、数字化服务平台开发、新材料流片技术研究等领域，已申请发明专利 80 余项，其中 “一种基于人工智能的流片参数优化方法” 获得国家发明专利奖。通过持续创新，不断提升服务质量与技术水平，例如较新研发的流片良率预测模型，预测准确率达到 92%，能帮助客户提前识别潜在的良率风险。对于需要进行军民融合流片的客户，中清航科提供符合标准的流片代理服务。其建立了流片流程，严格遵守国家保密规定，与具备生产资质的晶圆厂合作，确保流片过程符合 GJB9001C 质量管理体系要求。在流片过程中，实施更严格的质量控制与追溯管理，每道工序都有详细的记录与签字确认，满足可追溯性要求。已成功代理多个芯片的流片项目，涵盖雷达、通信、导航等领域，产品通过了严格的鉴定。中清航科专业团队追责晶圆厂，年挽回损失超$300万。南通台积电 110nm流片代理
未来流片技术将向更先进制程、更高集成度发展，中清航科持续投入研发，构建前瞻性的流片代理能力。在 3D IC 领域，与晶圆厂合作开发 TSV 与混合键合流片方案，支持芯片堆叠的高精度对准，已成功代理多个 3D 堆叠芯片的流片项目，键合良率达到 99% 以上。针对量子芯片等前沿领域，组建专项技术团队，研究适合量子比特的特殊流片工艺，与科研机构合作推进量子芯片的流片验证。在智能制造方面，开发 AI 驱动的流片参数优化系统，通过机器学习预测工艺参数对芯片性能的影响，实现流片参数的自动优化，目前该系统在成熟制程的测试中，可使良率提升 8% - 12%。通过持续创新，中清航科致力于为客户提供面向未来的流片代理服务，助力半导体产业的技术突破与创新发展。杭州TSMC 12nm流片代理中清航科流片代理提供28nm/40nm工艺快速报价，5天内完成成本核算。
中清航科的流片代理服务注重客户教育，定期发布《流片技术白皮书》《半导体产业趋势报告》等专业资料。这些资料由行业编写，内容涵盖较新的流片技术、市场趋势、应用案例等，提供给客户与行业人士参考。同时举办线上研讨会与线下论坛，邀请行业大咖分享见解，为客户提供学习与交流的平台。去年发布专业资料 20 余份，举办活动 50 余场，累计参与人数超过 10 万人次，成为行业内重要的知识传播者。针对传感器芯片的流片需求，中清航科与传感器专业晶圆厂建立深度合作。其技术团队熟悉 MEMS 传感器、图像传感器、生物传感器等不同类型传感器的流片工艺，能为客户提供敏感元件设计、封装接口优化、测试方案设计等专业服务。通过引入专业的传感器测试设备，对流片后的传感器进行性能测试，如灵敏度、线性度、温漂等参数，测试精度达到行业水平。已成功代理多个工业传感器芯片的流片项目，产品的测量精度与稳定性均达到国际先进水平。
中清航科注重为客户提供持续的技术支持，即使流片完成后仍保留 1 年的技术服务期。客户在芯片测试或应用过程中遇到与流片相关的问题，技术团队会提供分析支持，如协助排查工艺导致的性能偏差、提供二次流片的优化建议等。去年某 AI 芯片客户量产时出现良率波动，其技术团队通过回溯流片数据，3 天内找到光刻参数偏差原因，帮助客户恢复正常生产。在流片成本透明化方面，中清航科实行 “阳光报价” 机制，所有费用明细清晰可查，包含晶圆代工费、掩膜版费、测试费等，无隐藏收费项目。客户可通过在线报价系统实时获取不同工艺节点、不同晶圆厂的参考报价，系统会根据客户需求自动生成成本构成分析。其定期发布的《流片成本白皮书》，还为行业提供客观的价格趋势参考。中清航科量产转流片服务，首万片晶圆缺陷率＜200DPW。
对于需要多工艺节点流片的客户，中清航科构建了跨节点协同服务体系。其技术团队熟悉不同工艺节点的特性差异，能为客户提供从低阶到高阶制程的平滑过渡方案，例如在同一产品系列中，帮助客户实现从 180nm 到 28nm 的逐步升级。通过建立统一的设计数据库，使不同节点的流片参数保持连贯性，减少重复验证工作，将跨节点流片的工艺适配周期缩短 40%。某物联网芯片客户通过该服务，在 12 个月内完成了三代产品的工艺升级，市场响应速度明显提升。中清航科代理硅光子流片，耦合损耗优化方案降低0.8dB。杭州TSMC 12nm流片代理
通过中清航科完成5次流片，享VIP厂线直通权限。南通台积电 110nm流片代理
流片后的数据分析与反馈对产品优化至关重要，中清航科为此开发了专业的流片数据分析平台。该平台可对接晶圆厂的测试数据系统，自动导入 CP 测试、FT 测试的原始数据，通过数据挖掘算法进行多维度分析，包括良率分布、参数分布、失效模式等，生成直观的可视化报告。针对低良率项目，技术团队会进行根因分析，区分设计问题与工艺问题，提供具体的优化建议，如调整光刻参数、优化版图设计等。平台还支持多批次数据对比，帮助客户跟踪良率变化趋势，识别持续改进点。某客户的射频芯片流片后良率只为 65%，中清航科通过数据分析发现是金属层刻蚀不均导致，提出优化刻蚀时间与功率的建议，二次流片良率提升至 89%。南通台积电 110nm流片代理
