流片与封装测试的衔接效率直接影响产品上市周期，中清航科推出 “流片 + 封测” 一站式代理服务，实现从晶圆生产到成品交付的无缝衔接。其整合长电科技、通富微电、日月光等前列封测厂资源，根据客户的芯片类型与应用场景，推荐比较好的封装方案，包括 DIP、SOP、QFP、BGA、SiP 等。在流程衔接上，建立标准化的交接机制，流片完成的晶圆无需客户经手，直接由晶圆厂转运至合作封测厂，同时共享测试数据与质量报告，省去客户中间协调环节，将封测周期缩短 7 - 10 天。针对先进封装需求，如 CoWoS、InFO 等，中清航科可协调晶圆厂与封测厂进行联合工艺开发，确保流片参数与封装工艺的兼容性，已成功代理多个 Chiplet 产品的 “流片 + 先进封装” 项目，良率达到 92% 以上。中清航科代理硅光子流片，耦合损耗优化方案降低0.8dB。舟山TSMC 40nm流片代理
流片代理服务的国际化人才团队是中清航科的重要支撑，其员工中 60% 具有海外留学或工作经历，能熟练使用英语、日语、韩语等多种语言，为国际客户提供无障碍服务。团队成员熟悉不同国家的商业文化与沟通习惯，能根据客户的文化背景调整沟通方式与服务策略，例如与日本客户合作时注重细节与流程规范，与美国客户合作时强调效率与创新。这种国际化服务能力使中清航科的海外客户占比逐年提升，目前已达到总客户数的 35%。针对毫米波芯片的流片需求，中清航科开发了专项流片方案。其与具备毫米波工艺能力的晶圆厂合作，熟悉 0.13μm GaAs、0.1μm GaN 等工艺节点，能为客户提供毫米波天线设计、功率放大器工艺参数优化等服务。通过引入毫米波近场扫描系统，对流片后的芯片进行三维辐射方向图测试，测试频率覆盖 30GHz-300GHz，测试精度达到行业水平。已成功代理多个毫米波雷达芯片的流片项目，产品的探测距离与分辨率均达到国际先进水平。扬州台积电 28nm流片代理中清航科提供流片后快速封样，3天交付工程样品。
中清航科的流片代理服务注重技术创新，每年投入营收的 15% 用于研发。其研发团队专注于流片工艺优化、数字化服务平台开发、新材料流片技术研究等领域，已申请发明专利 80 余项，其中 “一种基于人工智能的流片参数优化方法” 获得国家发明专利奖。通过持续创新，不断提升服务质量与技术水平，例如较新研发的流片良率预测模型，预测准确率达到 92%，能帮助客户提前识别潜在的良率风险。对于需要进行军民融合流片的客户，中清航科提供符合标准的流片代理服务。其建立了流片流程，严格遵守国家保密规定，与具备生产资质的晶圆厂合作，确保流片过程符合 GJB9001C 质量管理体系要求。在流片过程中，实施更严格的质量控制与追溯管理，每道工序都有详细的记录与签字确认，满足可追溯性要求。已成功代理多个芯片的流片项目，涵盖雷达、通信、导航等领域，产品通过了严格的鉴定。
面对芯片设计企业的快速迭代需求，中清航科建立了灵活的流片调整机制。客户在流片启动后如需修改设计参数，可在晶圆厂投片前 48 小时提出变更申请，技术团队会快速评估变更影响并给出可行性方案。对于紧急变更需求，可启动加急处理流程，确保变更指令及时传达至晶圆厂，去年成功处理 120 余次设计变更，平均响应时间只 6 小时。流片后的封装测试衔接是缩短产品上市周期的关键，中清航科整合了长电科技、通富微电等封测厂资源，提供 “流片 + 封测” 一站式服务。通过建立标准化的交接流程，流片完成的晶圆可直接转运至合作封测厂，省去客户中间协调环节，将封测周期缩短 5-7 天。其开发的智慧物流系统可实时追踪晶圆运输状态，确保产品安全可控。中清航科提供晶圆厂备选方案，突发断供72小时切换产线。
对于需要跨工艺节点流片的客户，中清航科提供全流程技术衔接支持。例如在 5G 芯片研发中，客户常需同时进行毫米波射频前端（16nm）与基带（28nm）的流片，其技术团队会统一协调不同晶圆厂的工艺参数，确保多芯片间的接口兼容性。通过建立统一的设计规则库与验证平台，使跨节点流片的系统集成效率提升 40%，缩短产品整体研发周期。知识产权保护是芯片设计企业的中心关切，中清航科构建了严格的 IP 保护体系。与客户签订保密协议后，所有设计文件通过加密传输系统进行交互，存储服务器采用银行级加密标准，访问权限实行 “双人双锁” 管理。在与晶圆厂的合作中，明确界定 IP 归属与使用范围，通过法律手段杜绝技术泄露风险，已连续 10 年保持 IP 零泄露记录。中清航科提供DFM审核，平均规避7类可制造性缺陷。嘉兴流片代理供应商家
中清航科流片代理含关税筹划，综合税费减少18%。舟山TSMC 40nm流片代理
流片后的数据分析与反馈对产品优化至关重要，中清航科为此开发了专业的流片数据分析平台。该平台可对接晶圆厂的测试数据系统，自动导入 CP 测试、FT 测试的原始数据，通过数据挖掘算法进行多维度分析，包括良率分布、参数分布、失效模式等，生成直观的可视化报告。针对低良率项目，技术团队会进行根因分析，区分设计问题与工艺问题，提供具体的优化建议，如调整光刻参数、优化版图设计等。平台还支持多批次数据对比，帮助客户跟踪良率变化趋势，识别持续改进点。某客户的射频芯片流片后良率只为 65%，中清航科通过数据分析发现是金属层刻蚀不均导致，提出优化刻蚀时间与功率的建议，二次流片良率提升至 89%。舟山TSMC 40nm流片代理
