双光子聚合基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 德国
  • 厂家
  • Nanoscribe
双光子聚合企业商机

在当前科技快速发展的时代,各种新技术层出不穷。其中,双光子聚合技术以其独特的优势和应用前景,正在引起越来越多的关注。双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程,它有着更多的应用前景,包括快速3D打印、光子晶体形成、高精度光子器件制造等领域。双光子聚合技术的优势:1. 高精度和高分辨率:双光子聚合技术采用光子作为加工单位,具有超高的精度和分辨率。与传统的加工技术相比,双光子聚合技术可以制造出更加精细、复杂的结构,从而实现更高级别的光学器件和制造工艺。2. 快速和高效:双光子聚合技术可以在短时间内完成大量材料的加工和制备。由于其高精度和高分辨率的特点,使得制造过程更加快速和高效。这不仅缩短了产品的研发周期,还能满足工业化大规模生产的需求。3. 高度灵活性和可扩展性:双光子聚合技术具有高度灵活性和可扩展性,可以在不同材料和表面上应用。这种技术不仅可以用于玻璃、塑料等常见材料的加工,还可以应用于半导体、生物医学等领域。这意味着双光子聚合技术的应用领域非常,可以为不同行业提供定制化的解决方案。双光子聚合技术是实现微纳尺度3D打印特别有效的技术。黑龙江Nanoscribe双光子聚合技术

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及比较广的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中,超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的特别好证明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。


湖南飞秒激光双光子聚合微纳光刻哪些领域会运用双光子聚合加工技术?

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事实上,双光子聚合加工是在2001年开始真正应用在微纳制造领域的,其先驱者是东京大阪大学的Kawata教授以及孙洪波教授。当时这个实验室在nature上发表的一篇工作,也就是传说中的纳米牛引起了极大的轰动:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,这篇文献中还进行了另外一个更厉害的工作,这两位教授做出了当时世界上特别小的弹簧振子,其加工分辨率达到了120nm,超越了衍射极限,同时还没有使用诸如近场加工之类的不太通用的解决方案,而是单纯的利用了材料的性质。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印,突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以特别广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施双光子聚合技术的更多知识,请致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe双光子灰度光刻系统QuantumX,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX,适用于制造微光学衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球头一次创建工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX,适用于制造微光学衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术,斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接打印在光纤上,构建了一款功能齐全的超薄像差校正光学相干断层扫描探头。这是迄今有报道的尺寸低值排名优先的自由曲面3D成像探头,包括导管鞘在内的直径只为0.457mm。Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点。湖南飞秒激光双光子聚合微纳光刻

双光子聚合技术是近年发展起来的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交联的一种新型的光聚合技术。黑龙江Nanoscribe双光子聚合技术

Nanoscribe独有的体素调谐技术2GL®可以在确保优越的打印质量的同时兼顾打印速度,实现自由曲面微光学元件通过3D打印精确对准到光纤或光子芯片的光学轴线上。NanoscribeQX平台打印系统配备光纤照明单元用于光纤芯检测,确保打印精细对准到光纤的光学轴线上。共焦检测模块用于3D基板拓扑构图,实现在芯片的表面和面上的精细打印对准。Nanoscribe灰度光刻3D打印技术3Dprintingby2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度**快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次,即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时,其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。2GL®作为市场上快的增材制造技术,非常适用于3D纳米和微纳加工,在满足优越打印质量的前提下,其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。黑龙江Nanoscribe双光子聚合技术

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