中清航科兆声波清洗技术结合纳米气泡喷淋，去除切割道深槽内的微颗粒。流体仿真设计使清洗液均匀覆盖15:1深宽比结构，残留物<5ppb，电镜检测达标率100%。中清航科推出刀片/激光器租赁服务：通过云平台监控耗材使用状态，按实际切割长度计费。客户CAPEX（资本支出）降低40%，并享受技术升级，实现轻资产运营。中清航科VirtualCut软件构建切割过程3D物理模型，输入材料参数即可预测崩边尺寸、应力分布。虚拟调试功能将新工艺验证周期从3周压缩至72小时，加速客户产品上市。中清航科绿色切割方案：冷却液循环利用率达95%，激光系统能耗降低30%（对比行业均值）。碳足迹追踪平台量化每片晶圆加工排放，助力客户达成ESG目标，已获ISO14064认证。采用中清航科激光隐形切割技术，晶圆分片效率提升40%以上。金华砷化镓晶圆切割蓝膜
针对小批量多品种的研发型生产需求，中清航科提供柔性化切割解决方案。其模块化设计的切割设备可在30分钟内完成不同规格晶圆的换型调整，配合云端工艺数据库，存储超过1000种标准工艺参数，工程师可快速调用并微调，大幅缩短新产品导入周期，为科研机构与初创企业提供灵活高效的加工支持。晶圆切割后的检测环节直接关系到后续封装的质量。中清航科将AI视觉检测技术与切割设备深度融合，通过深度学习算法自动识别切割面的微裂纹、缺口等缺陷，检测精度达0.5μm，检测速度提升至每秒300个Die，实现切割与检测的一体化流程，避免不良品流入下道工序造成的浪费。浙江sic晶圆切割刀片晶圆切割全流程追溯系统中清航科开发，实现单芯片级质量管理。
晶圆切割/裂片是芯片制造过程中的重要工序，属于先进封装(advancedpackaging)的后端工艺(back-end)之一，该工序可以将晶圆分割成单个芯片，用于随后的芯片键合。随着技术的不断发展，对高性能和更小型电子器件的需求增加，晶圆切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圆切割的重要性在于它能够在不损坏嵌入其中的精细结构和电路的情况下分离单个芯片，成功与否取决于分离出来的芯片的质量和产量，以及整个过程的效率。为了实现这些目标，目前已经开发了多种切割技术，每种技术都有其独特的优点和缺点。
在半导体设备国产化替代的浪潮中，中清航科始终坚持自主创新，中心技术100%自主可控。其晶圆切割设备的关键部件如激光发生器、精密导轨、控制系统等均实现国产化量产，不仅摆脱对进口部件的依赖，还将设备交付周期缩短至8周以内，较进口设备缩短50%，为客户抢占市场先机提供有力支持。展望未来，随着3nm及更先进制程的突破，晶圆切割将面临更小尺寸、更高精度的挑战。中清航科已启动下一代原子级精度切割技术的研发，计划通过量子点标记与纳米操控技术，实现10nm以下的切割精度，同时布局晶圆-封装一体化工艺，为半导体产业的持续发展提供前瞻性的技术解决方案，与全球客户共同迈向更微观的制造领域。切割路径智能优化系统中清航科研发，复杂芯片布局切割时间缩短35%。
中清航科动态线宽控制系统利用实时共焦传感器监测切割槽形貌，通过AI算法自动补偿刀具磨损导致的线宽偏差（精度±0.8μm）。该技术使12英寸晶圆切割道均匀性提升至97%，芯片产出量增加5.3%，年节省材料成本超$150万。针对消费电子量产需求，中清航科开发多光束并行切割引擎。6路紫外激光（波长355nm）通过衍射光学元件分束，同步切割效率提升400%，UPH突破300片（12英寸），单颗芯片加工成本下降至$0.003。先进制程芯片的低k介质层易在切割中剥落。中清航科采用局部真空吸附+低温氮气幕技术，在切割区形成-30℃微环境，结合纳米涂层刀具，介质层破损率降低至0.01ppm，通过3nm芯片可靠性验证。中清航科切割实验室开放合作，已助力30家企业工艺升级。南京sic晶圆切割蓝膜
12英寸晶圆切割中清航科解决方案突破产能瓶颈，良率99.3%。金华砷化镓晶圆切割蓝膜
针对高粘度晶圆切割液的回收处理，中清航科研发了离心式过滤净化系统。该系统通过三级过滤工艺，可去除切割液中99.9%的固体颗粒杂质，使切割液循环利用率提升至80%以上，不只降低耗材成本，还减少废液排放。同时配备浓度自动调节功能，确保切割液性能稳定，保障切割质量一致性。在晶圆切割设备的维护便捷性设计上，中清航科秉持“易维护”理念。设备关键部件采用模块化设计，更换激光头、切割刀片等中心组件只需15分钟，较传统设备缩短70%维护时间。同时配备维护指引系统，通过AR技术直观展示维护步骤，降低对专业维护人员的依赖，减少客户运维压力。金华砷化镓晶圆切割蓝膜
