中清航科开放6条全自动切割产线，支持从8英寸化合物半导体到12英寸逻辑晶圆的来料加工。云端订单系统实时追踪进度，平均交货周期48小时，良率承诺99.2%。先进封装RDL层切割易引发铜箔撕裂。中清航科应用超快飞秒激光（脉宽400fs）配合氦气保护，在铜-硅界面形成纳米级熔融区，剥离强度提升5倍。中清航科搭建全球较早切割工艺共享平台，收录3000+材料参数组合。客户输入晶圆类型/厚度/目标良率，自动生成比较好参数包，工艺开发周期缩短90%。复合材料晶圆切割选中清航科多工艺集成设备，兼容激光与刀片。宿迁12英寸半导体晶圆切割刀片
面向磁传感器制造，中清航科开发超导磁悬浮切割台。晶圆在强磁场（0.5T）下悬浮，消除机械接触应力，切割后磁畴结构畸变率<0.3%，灵敏度波动控制在±0.5%。中清航科电化学回收装置从切割废水中提取金/铜/锡等金属，纯度达99.95%。单条产线年回收贵金属价值超$80万，回收水符合SEMIF78标准，实现零废液排放。针对HJT电池脆弱电极层，中清航科采用热激光控制技术（LCT）。红外激光精确加热切割区至200℃，降低材料脆性，电池效率损失<0.1%，碎片率控制在0.2%以内。浙江碳化硅晶圆切割划片晶圆切割应急服务中清航科24小时响应，备件储备超2000种。
为提升芯片产出量，中清航科通过刀片动态平衡控制+激光辅助定位，将切割道宽度从50μm压缩至15μm。导槽设计减少材料浪费，使12英寸晶圆有效芯片数增加18%，明显降低单颗芯片制造成本。切割产生的亚微米级粉尘是电路短路的元凶。中清航科集成静电吸附除尘装置，在切割点10mm范围内形成负压场，配合离子风刀清理残留颗粒，洁净度达Class1标准（>0.3μm颗粒<1个/立方英尺）。中清航科设备内置AOI（自动光学检测）模块，采用多光谱成像技术实时识别崩边、微裂纹等缺陷。AI算法在0.5秒内完成芯片级判定，不良品自动标记，避免后续封装资源浪费，每年可为客户节省品质成本超百万。
中清航科在切割头集成声波传感器，通过频谱分析实时识别崩边、裂纹等缺陷（灵敏度1μm）。异常事件触发自动停机，避免批量损失，每年减少废片成本$2.5M。为提升CIS有效感光面积，中清航科将切割道压缩至8μm：激光隐形切割（SD）配合智能扩膜系统，崩边<3μm，使1/1.28英寸传感器边框缩减40%，暗电流降低至0.12nA/cm²。中清航科金刚石刀片再生技术：通过等离子体刻蚀去除表层磨损层，重新镀覆纳米金刚石颗粒。再生刀片寿命达新品90%，成本降低65%，已服务全球1200家客户。中清航科推出切割废料回收服务，晶圆利用率提升至99.1%。
晶圆切割作为半导体制造流程中的关键环节，直接影响芯片的良率与性能。中清航科凭借多年行业积淀，研发出高精度激光切割设备，可实现小切割道宽达20μm，满足5G芯片、车规级半导体等领域的加工需求。其搭载的智能视觉定位系统，能实时校准晶圆位置偏差，将切割精度控制在±1μm以内，为客户提升30%以上的生产效率。在半导体产业快速迭代的当下，晶圆材料呈现多元化趋势，从传统硅基到碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体，切割工艺面临更大挑战。中清航科针对性开发多材料适配切割方案，通过可调谐激光波长与动态功率控制技术，完美解决硬脆材料切割时的崩边问题，崩边尺寸可控制在5μm以下，助力第三代半导体器件的规模化生产。中清航科等离子切割技术处理氮化镓晶圆，热影响区减少60%。常州芯片晶圆切割划片厂
中清航科晶圆切割代工厂通过ISO14644洁净认证，量产经验足。宿迁12英寸半导体晶圆切割刀片
晶圆切割过程中产生的应力可能导致芯片可靠性下降，中清航科通过有限元分析软件模拟切割应力分布，优化激光扫描路径与能量输出模式，使切割后的晶圆残余应力降低40%。经第三方检测机构验证，采用该工艺的芯片在温度循环测试中表现优异，可靠性提升25%，特别适用于航天航空等应用领域。为帮助客户快速掌握先进切割技术，中清航科建立了完善的培训体系。其位于总部的实训基地配备全套切割设备与教学系统，可为客户提供理论培训、实操演练与工艺调试指导，培训内容涵盖设备操作、日常维护、工艺优化等方面，确保客户团队能在短时间内实现设备的高效运转。宿迁12英寸半导体晶圆切割刀片
