RPS远程等离子源采用独特的空间分离设计，将等离子体激发区与工艺处理区物理隔离。在激发腔内通过射频电源将工艺气体（如O2、CF4、N2等）电离形成高密度等离子体，而长寿命的活性自由基则通过输运系统进入反应腔室。这种设计使得RPS远程等离子源能够在不直接接触工件的情况下，实现表面清洗、刻蚀和活化等工艺。在半导体前端制造中，RPS远程等离子源特别适用于栅极氧化前的晶圆清洗，能有效去除有机残留和金属污染物，同时避免栅氧层损伤。其自由基浓度可稳定控制在1010-1012/cm³范围，确保工艺重复性优于±2%。RPS 通过将气体输送到装置中，利用电场或者磁场产生等离子体，然后将等离子体传输到需要处理的表面区域。海南远程等离子体源RPS石墨舟腔体清洗
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的RPS三维光学扫描设备，为模具修复提供了精细的数字化数据支撑，大幅提升修复效率与质量。模具在长期使用中易出现型腔磨损、裂纹等问题，传统修复依赖人工经验判断，精度难以保证，而RPS可快速扫描受损模具，生成高精度三维数据，与原始设计模型进行比对，自动识别损伤区域与损伤程度。RPS扫描的点云数据密度可达每平方毫米1000个点，能清晰呈现0.01mm级的细微磨损痕迹，为修复方案制定提供精确依据。在修复过程中，RPS可实时扫描修复区域，监控修复进度与尺寸精度，避免过度修复或修复不足。该RPS模具修复方案已应用于注塑模、压铸模等多种模具的修复场景，使模具修复周期缩短50%，修复后模具寿命恢复至新模的90%以上，成为模具维修领域的中心RPS工具。山东半导体设备RPS哪个好远程等离子体源RPS的主要优点在于它可以实现对表面的均匀处理，因此减少了对表面的热和化学损伤。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 三维光学扫描设备，实现了模具制造中设计与检测的一体化流程，提升模具生产效率与精度。在模具设计阶段，RPS 可扫描现有模具或样品，生成三维数据用于模具设计参考，缩短设计周期；在模具加工过程中，RPS 可实时扫描加工中的模具，检测关键尺寸，及时调整加工参数，避免加工误差。在模具验收阶段，RPS 通过多面扫描模具型腔、型芯等关键部位，生成详细的检测报告，确保模具质量符合要求。该 RPS 设计与检测一体化方案可与模具 CAD/CAM 软件无缝对接，实现数据的快速传输与共享。目前，RPS 已应用于注塑模、冲压模等多种模具的制造，成为模具行业提升竞争力的中心 RPS 技术工具。
在汽车制造业中，RPS（基准点系统）是保障零部件装配一致性的中心标准，东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 检测方案已广泛应用于行业。RPS 遵循 “3-2-1 定位原则”，通过 3 个主定位点和若干辅助定位点限制零部件 6 个自由度，确保设计、制造、检测全流程定位统一。晟鼎精密的 RPS 检测设备支持接触式与非接触式双重检测模式，接触式通过三坐标测量机获取 RPS 定位点实际坐标，非接触式则利用激光扫描快速采集三维数据，两种方式均能精细输出偏差报告。该 RPS 方案的检具定位元件制造精度达到零部件公差的 1/3~1/5，销钉间距公差≤±0.03mm，定位面平面度≤0.02mm。通过 RPS 系统检测，可有效避免车身间隙不均匀、零部件干涉等问题，目前已成功应用于车身骨架、底盘件、车门等关键零部件生产，成为汽车行业高精度检测的中心 RPS 技术支撑。晟鼎RPS有主动网络匹配技术:可对不同气体进行阻抗匹配，使得等离子腔室获得能量。
在材料科学的基础研究和新材料开发中，获得一个清洁、无污染的原始表面对于准确分析其本征物理化学性质至关重要。无论是进行XPS、AFM还是SIMS等表面分析技术，微量的表面吸附物都会严重干扰测试结果。RPS远程等离子源应用领域为此提供的解决方案。其能够在高真空或超高真空环境下，通过产生纯净的氢或氩自由基，对样品表面进行原位（in-situ）清洗。氢自由基能高效还原并去除金属表面的氧化物，而氩自由基能物理性地溅射掉表层的污染物，整个过程几乎不引入新的污染或造成晶格损伤。这为研究人员揭示材料的真实表面态、界面电子结构以及催化活性位点等本征特性提供了可能，是连接材料制备与性能表征的关键桥梁。在存储芯片制造中提升介质层可靠性。湖北半导体设备RPS电源
为功率模块封装提供优化的界面散热处理方案。海南远程等离子体源RPS石墨舟腔体清洗
在OLED和LCD显示面板的制造中，玻璃基板或聚酰亚胺薄膜基板的尺寸越来越大，对清洗和刻蚀工艺的均匀性提出了极高要求。RPS远程等离子源应用领域在这一场景下优势明显。由于其等离子体均匀性不受基板尺寸限制，活性自由基能够均匀地分布在整个大尺寸面板表面，实现无死角的彻底清洁。在OLED制造中，用于去除基板表面的微量有机物和颗粒，确保TFT背板和OLED发光层的质量；在柔性显示中，用于对PI基板进行表面活化，增强后续薄膜的附着力。此外，在显示面板的薄膜晶体管阵列制程中，RPS技术也用于氮化硅或非晶硅薄膜的低温、低损伤刻蚀，确保了数百万个TFT性能的高度一致，从而保障了显示画面的均匀性和低坏点率。海南远程等离子体源RPS石墨舟腔体清洗
