RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 基准点系统,是保障汽车零部件装配一致性的中心技术。在汽车生产过程中,不同批次、不同供应商的零部件需实现精细装配,RPS 通过统一的定位点标准,确保零部件在装配环节的定位统一。RPS 定位点由 3 个主定位点和若干辅助定位点组成,通过 “3-2-1 定位原则” 限制零部件的 6 个自由度,避免因定位误差导致的装配偏差。在总装车间,RPS 检测设备可快速验证零部件的定位精度,及时发现超差产品,避免不合格零部件流入装配环节。晟鼎精密的 RPS 系统可与汽车生产线上的自动化设备联动,实现零部件装配的自动化定位与检测,提升装配效率。通过 RPS 技术的应用,汽车车身间隙均匀性明显提升,零部件干涉问题大幅减少,成为汽车制造企业提升产品品质的中心 RPS 解决方案。RPS用于晶圆清洗、刻蚀和薄膜沉积工艺,去除光刻胶和残留物。湖南国内RPS射频电源

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RPS远程等离子源采用独特的空间分离设计,将等离子体激发区与工艺处理区物理隔离。在激发腔内通过射频电源将工艺气体(如O2、CF4、N2等)电离形成高密度等离子体,而长寿命的活性自由基则通过输运系统进入反应腔室。这种设计使得RPS远程等离子源能够在不直接接触工件的情况下,实现表面清洗、刻蚀和活化等工艺。在半导体前端制造中,RPS远程等离子源特别适用于栅极氧化前的晶圆清洗,能有效去除有机残留和金属污染物,同时避免栅氧层损伤。其自由基浓度可稳定控制在1010-1012/cm³范围,确保工艺重复性优于±2%。河南晟鼎RPS射频电源晟鼎RPS自研PEO表面处理工艺,增加PEO膜层使用寿命,降低维护成本。

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东莞市晟鼎精密仪器有限公司为客户提供 RPS 远程等离子体源的定制化工艺开发服务,满足个性化加工需求。针对不同客户的特定材料、加工要求,RPS 技术团队通过大量实验,优化工艺参数,开发专属工艺方案。在工艺开发过程中,RPS 团队与客户保持密切沟通,及时反馈实验结果,根据客户意见调整工艺方案;完成工艺开发后,为客户提供详细的工艺操作手册,并进行技术培训,确保客户能够熟练掌握。晟鼎精密建立了庞大的 RPS 工艺数据库,涵盖多种材料与加工场景,可快速为客户提供基础工艺方案并进行优化。该 RPS 定制化工艺开发服务已为多个行业的客户解决了特殊加工难题,成为客户信赖的 RPS 技术合作伙伴。

东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 三维光学扫描设备,凭借多维度技术突破成为精密测量领域的榜样产品。该 RPS 设备搭载双目 500 万像素工业相机,配合 3 组 9 个高分辨率镜头,可通过镜头切换实现 420×240mm² 至 90×52mm² 的多范围扫描,无需调节工作距离即可保证比较好扫描效果。RPS 采用蓝光窄带光源与格雷码、多频外差法双光栅模式,抗干扰能力强,即使在复杂环境下也能精细捕捉细节。在扫描效率上,RPS 单幅测量时间≤1.5 秒,结合多核多线程高速算法与 GPU 加速,数据三维重建速度大幅提升。RPS 支持标志点全自动拼接、特征拼接等多种拼接模式,拼接后自动报告精度,全局误差控制能力突出。该 RPS 设备可兼容 CATIA、Geomagic 等主流三维软件,数据输出格式丰富,广泛应用于智能装备、机器人、医疗设备等领域的精密测量需求。RPS包含电源和电离腔体两部分,不同的工艺气体流量对应匹配的电源功率。

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半导体制造对工艺洁净度和精度要求极高,任何微小的污染或损伤都可能导致器件失效。RPS远程等离子源通过其低损伤特性,在清洗和刻蚀步骤中发挥重要作用。例如,在先进节点芯片的制造中,RPS远程等离子源可用于去除光刻胶残留或蚀刻副产物,而不会对脆弱的晶体管结构造成影响。其均匀的等离子体分布确保了整个晶圆表面的处理一致性,从而减少参数波动和缺陷密度。通过集成RPS远程等离子源 into 生产线,制造商能够实现更高的工艺稳定性和产品良率,同时降低维护成本。RPS是一种用于产生等离子体的装置,它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。江西推荐RPS石墨舟处理

远程等离子体(RPS)对真空腔体进行微处理,达到去除腔体内部水残留气体,减少残余气体量目的。湖南国内RPS射频电源

RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器,它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁,使用工艺气体三氟化氮(NF3)/O2,在交变电场和磁场作用下,原材料气体会被解离,从而释放出自由基,活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料(SIO/SIN)或者残余气体(H2O、O2、H2、N2)等物质产生化学反应,聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室,提高处理腔室内部洁净度;利用原子的高活性强氧化特性,达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的,为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作,提高生产效率。湖南国内RPS射频电源

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