上海三代半导体烧结纳米银膏

聚峰烧结银膏的技术优势，在于纳米银颗粒的精细级配与分散工艺。产品精选粒径 20-50nm 的高纯银粉，搭配有机载体与分散剂，确保银粉在膏体中均匀分散、无团聚。烧结过程中，纳米银颗粒凭借高表面活性，在 220℃即可启动烧结，30 分钟内完成致密化成型，无需传统高温焊料所需的 350℃以上高温。烧结后形成的银层致密度高、孔隙率极低，热阻较传统焊料降低 60% 以上，能明显提升功率器件的散热效率。同时，低温烧结特性可避免芯片、基板因高温产生的热应力损伤，适配陶瓷基板、金属基板等多种封装基材，助力封装制程实现低温化升级。其低挥发性减少了在烧结过程中气体的产生，避免气孔形成，提升连接强度。上海三代半导体烧结纳米银膏

纳米银膏的低温烧结特性使其能兼容柔性塑料、超薄金属等柔性基板，避免高温对柔性基材的损伤，适配柔性电子、可穿戴设备等领域的封装需求。其可通过丝网印刷、点胶等工艺实现精细化图形化制备，线宽精度达 ±3μm，助力器件微型化、轻薄化设计。在折叠屏手机、柔性传感器等产品中，能实现弯曲、拉伸状态下的稳定导电与连接，保障柔性器件的功能完整性，为柔性电子产业的发展提供了关键的封装材料支撑，拓展了电子器件的应用形态与场景。导电银浆烧结银膏解决方案烧结银膏采用无铅无卤素配方，符合 RoHS 标准，是绿色电子制造优先选择材料。

烧结纳米银膏配合压力辅助烧结工艺，可将连接层的剪切强度提升至40MPa以上。压力辅助意味着在加热过程中同时施加垂直于界面的机械载荷，常用压力范围为5至20MPa。外部压力促进银颗粒之间更紧密的接触，挤压出烧结初期产生的残留溶剂和分解气体。烧结纳米银膏中的纳米银颗粒在压力作用下更容易发生塑性变形，填充微米银颗粒之间的空隙。形成的连接层不仅机械强度高，而且抗蠕变性能优于无压烧结方案。剪切强度测试采用推拉力机以固定速率推动芯片侧面，记录芯片从基板剥离时的峰值力除以面积。40MPa的数值意味着一个5mm×5mm的芯片能够承受1000牛顿以上的侧向推力。这种互连在振动频繁的汽车电子或风电变流器中尤为重要。烧结纳米银膏配合压力烧结时，芯片表面的金属化层通常需要镀银或金以匹配银-银界面扩散。

聚峰烧结银膏专为宽禁带半导体封装设计，其烧结后的连接层展现出极低的孔隙率。在碳化硅或氮化镓功率模块中，银膏通过压力烧结工艺将芯片与基板紧密结合。孔隙率直接影响热传导路径的完整性，低孔隙率意味着热量传递过程中的空穴阻碍减少。聚峰烧结银膏中的银颗粒在烧结过程中均匀收缩，形成连续致密的金属银层。该特性使得模块在高温工作条件下仍能维持稳定的物理接触，避免因空洞积聚导致的局部过热失效。与传统焊料相比，聚峰烧结银膏的连接层内部结构更均匀，边缘区域也不易出现剥离或裂纹。这一优势在厚铜基板封装中尤为明显，因为不同材料的热膨胀系数差异需要连接层具备较强的协调能力。聚峰烧结银膏的配方设计兼顾了烧结活性与印刷适应性，为高功率密度模块提供了可靠的互连基础。较传统焊锡膏，烧结银连接寿命更长，高温可靠性与抗电迁移能力突出。

烧结纳米银膏适配第三代半导体器件的封装需求，针对碳化硅、氮化镓等第三代半导体芯片的特性，优化银膏烧结温度与界面结合性能。该材料可实现芯片与基板的互连，同时满足大功率器件对高导电、高导热的双重要求，能够很快导出芯片工作产生的高热量，避免热积累导致的芯片性能下降。在新能源汽车电驱模块、光伏逆变器、工业电源等大功率应用场景中，烧结纳米银膏能适配第三代半导体的运行需求，助力大功率电子器件实现更效率、更稳定的工作状态。烧结纳米银膏是一种新型的电子封装材料，由纳米级银颗粒均匀分散于特定有机载体中构成。东莞通信基站烧结银膏

烧结银膏热导率超 200W/m・K，可大幅降低高功率芯片结温，提升散热效率。上海三代半导体烧结纳米银膏

烧结纳米银膏采用纳米制备技术，银粉粒径在纳米级区间，颗粒均匀性与分散性达到行业前列水平。在封装烧结过程中，纳米银颗粒可很快的完成界面融合，形成连续且致密的导电网络，烧结后银层电阻率处于较低水平，远优于传统微米级银膏产品。该材料适配芯片与基板的互连需求，能大幅降低芯片与基板间的接触电阻，减少信号传输损耗与能量浪费，尤其适配高密度、小间距的精密电子封装场景，为高性能电子器件的信号稳定传输与运行提供有力支撑。上海三代半导体烧结纳米银膏