EDI电除盐模块清洗及消毒模式
•直通逆流（低及高pH值都可）再循环（氧化剂）
•可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)
步骤
注意: 以下列出的流速为直通情况。再循环清洗及消毒过程在通常情况下都以相同流速进行。
•步骤 1. 氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 2.
a) 低pH值: 盐酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氢氧化钠NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化剂: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +过氧化氢H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
•按照说明书配制用于商业浓度的RO消毒溶液（阅读上面所提的清洗化学品规范要求）。总体来说，浓水为已用水按1：100的比例稀释过。
• (*按照步骤 2a或 2b 步骤 2c后不要求.)
氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 4.水冲洗: 将RO产水水质的水引入浓水管线环中直到产水电导率>0.02 MO或等 同于进水(至少为 2 L (0.5 gal))
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(3)浊度、污染指 数(SDI)的影响。
EDI组件产水通道内填充有离子交换树脂，过高的浊度、污染指 数会使通道堵塞，造成系统压差上升，产水量下降。
(4)硬度的影响。
如果IONPUREEDI模块中进水的残存硬度太高，会导致浓缩水通道的膜表面结垢，浓水流量下降，产水电阻率下降;影响产水水质，严重时会堵塞组件浓水和极水流道，导致组件因内部发热而毁坏。
(5) TOC(总有机碳)的影响。
进水中如果有机物含量过高，会造成树脂和选择透过性膜的有机污染，导致系统运行电压上升，产水水质下降。同时也容易在浓缩水通道形成有机胶体，堵塞通道。
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电子级超纯水系统 水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级） •预处理－反渗透－水箱－阳床－阴床－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象 •预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象 •预处理－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象 •预处理－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（***工艺） 应用场合 •半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路； •超纯材料和超纯化学试剂； •实验室和中试车间 •汽车、家电表面抛光处理； •其他高科技精微产品。
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