纳米压印相关图片
  • 大面积纳米压印国内用户,纳米压印
  • 大面积纳米压印国内用户,纳米压印
  • 大面积纳米压印国内用户,纳米压印
纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。


EVG的HERCULES ® NIL产品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系统达200毫米

对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案,具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术


HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案,适用于比较大200 mm的晶圆,是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES

NIL基于模块化平台,将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”,将裸露的晶圆装载到工具中,然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 EVG ® 720是自动SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。大面积纳米压印国内用户

大面积纳米压印国内用户,纳米压印

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用,例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板,可以实现亚10nm的分辨率,但是模板不能弯折,无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触,实现结构在非平面基底上的压印复制,但是由于弹性模板的杨氏模量较低,所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状,结合传统的纳米压印技术和软压印技术,中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法,该模板包含刚性结构层和弹性基底层。(来自网络,侵权请联系我们进行删除,谢谢!) EVG7200LA纳米压印有谁在用SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。

大面积纳米压印国内用户,纳米压印

UV纳米压印光刻系统

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统

■高精度对准台

■自动楔形误差补偿机制

■电动和程序控制的曝光间隙

■支持***的UV-LED技术

■**小化系统占地面积和设施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材

■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术

■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作

■盒带间自动处理以及半自动研发模式


■适用于所有市售压印材料的开放平台


纳米压印光刻设备-处理结果:

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源:EVG与SwissLitho

AG合作(欧盟项目SNM)

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源:EVG

3.高纵横比(7:1)的10 µm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm

资料来源:EVG

5.紫外线成型镜片300 µm

资料来源:EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 µm

资料来源:EVG

8.**小尺寸的光模块晶圆级封装

资料来源:EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源:EVG EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。

大面积纳米压印国内用户,纳米压印

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。

用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术,在100毫米范围内。

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名,它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。


EVG620 NT支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。海南纳米压印三维芯片应用

EVG ® 520 HE是热压印系统。大面积纳米压印国内用户

IQ Aligner®:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个**控制的Z轴,用于控制压印光刻胶的总厚度变化(TTV),并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能


紫外线压印_紫外线固化


印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后,将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

µ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料,物料转移,删除印章


大面积纳米压印国内用户

岱美仪器技术服务(上海)有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 的公司,是一家拥有雇员人数优异员工的企业。公司业务涵盖[ "半导体工艺设备", "半导体测量设备", "光刻机 键合机", "膜厚测量仪" ]等,价格合理,品质有保证。公司将不断增强企业重点竞争力,努力学习行业先进知识,遵守行业规范,植根于仪器仪表行业的发展。公司秉承“客户为尊、服务为荣、创意为先、技术为实”的经营理念,全力打造公司的重点竞争力。

与纳米压印相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责