EVG ® 7200 LA特征：
专有SmartNIL ®技术，提供了****的印迹形大面积
经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性
多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本
强大且精确可控的处理
与所有市售的压印材料兼容
EVG ® 7200 LA技术数据：
晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 µm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm²）
对准：可选的光学对准：≤±15 µm
自动分离：支持的
迷你环境和气候控制：可选的
工作印章制作：支持的
EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。掩模对准纳米压印国内用户
纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography；NIL)，现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导，南韩显示器面板企业LCD制程研发小组，未确认NIL设备实际图样形成能力，直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露，若引进相关设备，将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机，像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以压印机接触施加压力，印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光图样，不需再另外贴附偏光薄膜。虽然在面板制程中需增加NIL、蚀刻制程，但省落偏光膜贴附制程，可维持同样的生产成本。偏光膜会吸收部分光线降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光图样，将不会发生降低亮度的情况。通常面板分辨率越高，因配线较多，较难确保开口率(ApertureRatio)。氮化镓纳米压印国内用户EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。
HERCULES®NIL：完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸（分辨率取决于过程和模板）
■结合了预处理（清洁/涂布/烘烤/冷却）和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离，可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770：连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造，直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配，压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统
应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案，适用于第3代基材。
NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示：“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm，对于实现我们客户满足当今和未来**AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作，EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性。”在此之前，使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过，在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的，需要先进的自动化和工艺控制能力。EVG的SmartNIL技术得益于多年的研究、开发和实验，旨在满足纳米图案成形的需求，经过了现场验证，能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月，EVG推出了HERCULES®NIL300mm，将SmartNIL引入300-mm制造，满足各种设备和应用的生产需求，其中包括AR、MR和虚拟现实（VR）头戴显示设备的光学器件以及3D传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。集成到SmartNIL®UV-NIL系统的全模块化EVG®HERCULES®。EVG ® 770是分步重复纳米压印光刻系统，使用分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。氮化镓纳米压印国内用户
EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。掩模对准纳米压印国内用户
”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说，“通过与供应链的关键企业的合作，例如DELO，我们能够进一步提高效率，作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道。“通过合作，我们将提供自己独特的技术，将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中，EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆级光学元件的应用解决方案EVG的晶圆级光学器件解决方案为移动式消费电子产品提供多种新型的光学传感设备。主要的例子是：3D感应，飞行时间，结构光，生物特征身份认证，面部识别,虹膜扫描，光学指纹，频谱检测，环境感应与红外线成像。其它应用领域包括汽车照明，光地毯，平视显示器，车内感应，激光雷达，内窥镜照相机医学成像，眼科设备与手术机器人。EVG的晶圆级光学仪器解决方案得到公司的NILPhotonics解决方案支援中心的支持。DELO创新的多功能材料几乎可以在世界上每部手机上找到。掩模对准纳米压印国内用户
岱美仪器技术服务（上海）有限公司位于金高路2216弄35号6幢306-308室，是一家专业的磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 公司。致力于创造***的产品与服务，以诚信、敬业、进取为宗旨，以建EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB产品为目标，努力打造成为同行业中具有影响力的企业。我公司拥有强大的技术实力，多年来一直专注于磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 的发展和创新，打造高指标产品和服务。自公司成立以来，一直秉承“以质量求生存，以信誉求发展”的经营理念，始终坚持以客户的需求和满意为重点，为客户提供良好的半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪，从而使公司不断发展壮大。
