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光刻机基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620NT,EVG®6200NT,IQ Aligner,HERCULES
  • 是否定制
光刻机企业商机

EVG770自动UV-NIL纳米压印步进机,用于制作主图章。母模是晶圆大小的模板,里面完全装有微透镜模具,每个模具都采用分步重复的方法从一个透镜模板中复制。EVG从金属或玻璃制成的单镜头母版开始,提供了涵盖了制作母模的所有基本工艺步骤的工艺流程,具有****的镜片位置精度和**镜片制造所需的高镜片形状可重复性晶圆级相机模块。

IQ Aligner自动UV-NIL纳米压印系统,用于UV微透镜成型。软UV压印光刻技术是用于制造聚合物微透镜(WLO系统的关键要素)的高度并行技术。EVG从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始,提供了混合和整体式微透镜成型工艺,可以轻松地将其应用于工作图章和微透镜材料的各种材料组合。此外,EV Group提供合格的微透镜成型工艺,包括所有相关的材料专业知识。

EVG40 NT自动测量系统。支持非常高的分辨率和精度的垂直和横向测量,计量对于验证是否符合严格的工艺规范并立即优化集成的工艺参数至关重要。在WLO制造中,EVG的度量衡解决方案可用于关键尺寸(CD)测量和透镜叠层对准验证,以及许多其他应用。 EVG150光刻胶处理系统拥有:Ergo装载盒式工作站/ SMIF装载端口/ SECS / GEM / FOUP装载端口。芯片光刻机研发可以用吗

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EVG ® 120--光刻胶自动化处理系统

EVG ® 120是用于当洁净室空间有限,需要生产一种紧凑的,节省成本光刻胶处理系统。

新型EVG120通用和全自动光刻胶处理工具能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超紧凑设计,并带有新开发的化学柜,可用于外部存储化学品,同时提供更高的通量能力,针对大批量客户需求进行了优化,并准备在大批量生产(HVM)中使用EVG120为用户提供了一套详尽的好处,这是其他任何工具所无法比拟的,并保证了**/高的质量各个应用领域的标准,拥有成本却非常低。


晶圆片光刻机保修期多久我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。

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我们的研发实力。

EVG已经与研究机构合作超过35年,让我们深入了解他们的独特需求。我们专业的研发工具提供卓/越的技术和**/大的灵活性,使大学、研究机构和技术开发合作伙伴能够参与多个研究项目和应用项目。此外,研发设备与EVG的**技术平台无缝集成,这些平台涵盖从研发到小规模和大批量生产的整个制造链。研发和全/面生产系统之间的软件和程序兼容性使研究人员能够将其流程迁移到批量生产环境。以客户的需求为导向,研发才具有价值,也是我们不断前进的动力。

EVG ® 150光刻胶处理系统技术数据:

模块数:

工艺模块:6

烘烤/冷却模块:**多20个

工业自动化功能:

Ergo装载盒式工作站/ SMIF装载端口/ SECS / GEM / FOUP装载端口

智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)

用于过程和机器控制的集成分析功能

并行任务/排队任务处理功能

设备和过程性能跟/踪功能

智能处理功能

事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪

晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米


可用模块:

旋涂/ OmniSpray ® /开发

烘烤/冷却

晶圆处理选项:

单/双EE /边缘处理/晶圆翻转


弯曲/翘曲/薄晶圆处理


EVG键合机掩模对准系列产品,使用的是**/先进的工程工艺。

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EVG120光刻胶自动处理系统附加模块选项

预对准:光学/机械

ID读取器:条形码,字母数字,数据矩阵

系统控制:

操作系统:Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数/离线程序编辑器

灵活的流程定义/易于拖放的程序编程

并行处理多个作业/实时远程访问,诊断和故障排除

多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR


分配选项:

各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度

液体底漆/预湿/洗盘

去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR)

恒压分配系统/注射器分配系统

电阻分配泵具有流量监控功能

可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸


超音波


EVG光刻机关注未来市场趋势 - 例如光子学 、光学3D传感- 并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案。晶圆片光刻机保修期多久

新型的EVG120带有通用和全自动光刻胶处理工具,能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基片。芯片光刻机研发可以用吗

国统局数据显示,2019年上半年仪器仪表大行业规模以上企业4927个,营收规模4002亿元,营收同比增长7.57%;收入总额为361亿元,同比增长2.87%,比主营收入低4.70个百分点;中国的新型工业化进程,信息化和工业化融合的进一步加深,带动各个工业领域对于半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等产品的需求。仪器仪表应用领域宽泛,覆盖了磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务 等各方面,在国民经济建设各行各业的运行过程中承担着把关者和指导者的任务,仪器仪表制造行业可以分为通用仪表仪器制造、**仪器仪表制造、钟表与计时仪器制造、光学仪器制造和衡器制造。仪器仪表在工业发展中具有重要作用,这也使得仪器仪表得到快读发展。各行各业对仪器仪表的市场需求也在不断提升,贸易企业正在发展中寻求技术创新和质量提升。仪器仪表的质量、性能关系到工业安全,必须重视。芯片光刻机研发可以用吗

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