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轮廓仪基本参数
  • 产地
  • 中国
  • 品牌
  • 超纳/SUBNANO
  • 型号
  • NanoX-2000/3000,NanoX-8000
  • 是否定制
轮廓仪企业商机

NanoX-2000/3000

系列 3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光

垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗

糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加

工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。


使用范围广: 兼容多种测量和观察需求  

保护性: 非接触式光学轮廓仪

耐用性更强, 使用无损 

可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便  

仪器运用高性能内部抗震设计,不受外部环境影响测量的准确性。Nano X-3000轮廓仪用途是什么

Nano X-3000轮廓仪用途是什么,轮廓仪

轮廓仪的**团队

夏勇博士,江苏省双创人才


15年ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验


SuperSight Inc. CEO/共同创始人,太阳能在线检测设备

唐寿鸿博士,国家千人****


25年 ADE,KAL-Tencor半导体检测设备公司研发经验


KLA-Tencor ***研发总监,***图像处理、算法**

许衡博士,软件系统研发


10 年硅谷世界500强研发经验(BD Medical

Instrument)

光学测量、软件系统


岱美仪器与**组为您提供轮廓仪的技术支持,为您排忧解难。 粗糙度仪轮廓仪推荐产品轮廓仪与粗糙度仪不是同一种产品,轮廓仪主要功能是测量零件表面的轮廓形状。

Nano X-3000轮廓仪用途是什么,轮廓仪

    比较椭圆偏振仪和光谱反射仪光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。获取反射光谱指南入射光角度的不同造成两种技术在成本,复杂度,和测量能力上的不同。由于椭偏仪的光从一个角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和强度,使得椭偏仪对超薄和复杂的薄膜堆有较强的测量能力。然而,偏振分析意味着需要昂贵的精密移动光学仪器。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应(绝大多数薄膜都是旋转对称)。因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。从下面表格可以看出,光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的优先,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。而且具有快速,简便,成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。光谱反射率光谱椭圆偏振仪厚度测量范围1nm-1mm(非金属)-50nm(金属)*-(非金属)-50nm(金属)测量折射率的厚度要求>20nm(非金属)5nm-50nm(金属)>5nm(非金属)>。

    超纳轮廓仪的主设计简介:

中组部第十一批“****”****,美国KLA-Tencor(集成电路行业检测设备市场的**企业)***研发总监,干涉测量技术**美国上市公司ADE-Phaseift的总研发工程师,创造多项干涉测量数字化所需的关键算法,在光测领域发表23个美国专利和35篇学术论文3个研发的产品获得大奖,国家教育部***批公派研究生,83年留学美国。光学轮廓仪可广泛应用于各类精密工件表面质量要求极高的如:半导体、微机电、纳米材料、生物医疗、精密涂层、科研院所、航空航天等领域。可以说只要是微型范围内重点部位的纳米级粗糙度、轮廓等参数的测量,除了三维光学轮廓仪,没有其它的仪器设备可以达到其精度要求。(网络)。 轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用。

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1.5. 系统培训的注意事项

    如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册;

    数据采集功能的讲解:通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置;

    实际演示一一讲解;

    如何做好备份和恢复备份资料;

    当场演示各种报表的操作并进行操作解说;

    数据库文件应定时作备份,大变动时更应做好备份以防止系统重新安装时造成资料数据库的流失;

    在系统培训过程中如要输入一些临时数据应在培训结束后及时删除这些资料。

    备注:系统培训完成后应请顾客详细阅读软件操作手册,并留下公司“客户服务中心”的电话与个人名片,以方便顾客电话联系咨询。 自动聚焦范围 : ± 0.3mm。材料表面轮廓仪实际价格

粗糙度仪的功能是测量零件表面的磨加工/精车加工工序的表面加工质量。Nano X-3000轮廓仪用途是什么

轮廓仪的性能 

测量模式

移相干涉(PSI),白光垂直扫描干涉(VSI),单色光垂直扫描干涉(CSI)

样 品 台

150mm/200mm/300mm 样品台(可选配)

XY 平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,倾斜:±5°

可选手动/电动样品台

CCD 相机像素

标配:1280×960

视场范围

560×750um(10×物镜)

具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机

光学系统

同轴照明无限远干涉成像系统

光 源

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手动聚焦(可选电动聚焦)

Z 方向扫描范围 精密 PZT 扫描(可选择高精密机械扫描,拓展达 10mm )

纵向分辨率 <0.1nm

RMS 重复性* 0.005nm,1σ

台阶测量** 准确度 ≤0.75%;重复性 ≤0.1%,1σ

横向分辨率 ≥0.35um(100 倍物镜)

检测速度 ≤ 35um/sec , 与所选的 CCD  Nano X-3000轮廓仪用途是什么

岱美仪器技术服务(上海)有限公司位于金高路2216弄35号6幢306-308室,交通便利,环境优美,是一家贸易型企业。是一家其他有限责任公司企业,随着市场的发展和生产的需求,与多家企业合作研究,在原有产品的基础上经过不断改进,追求新型,在强化内部管理,完善结构调整的同时,良好的质量、合理的价格、完善的服务,在业界受到宽泛好评。公司拥有专业的技术团队,具有半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪等多项业务。岱美中国顺应时代发展和市场需求,通过**技术,力图保证高规格高质量的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。

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