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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

HERCULES ® NIL特征:

全自动UV-NIL压印和低力剥离

**多300毫米的基材

完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产**小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状,包括3D

适用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取决于过程和模板


HERCULES ® NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²

对准:≤±3微米

自动分离:支持的

前处理:提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制:可选的

工作印章制作:支持的


SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。广东纳米压印值得买

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       通过中心提供的试验生产线基础设施,WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求,并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能,商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识,到2019年,AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场,这是当今行业中的*低价位。 官方纳米压印美元价IQ Aligner®是EVG的可用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统。

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EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。

用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术,在100毫米范围内。

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名,它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件,**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境(半自动批量生产)的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,以及背面对准选项。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。


EVG ® 7200 LA特征:

专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容


EVG ® 7200 LA技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 µm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm²)

对准:可选的光学对准:≤±15 µm

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化,用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。

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EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统

分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作


EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**

大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

EVG770的主要功能包括精确的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 HERCULES®NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产。晶片纳米压印芯片堆叠应用

EVG开拓了这种非常规光刻技术,拥有多年技术,掌握了NIL,并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。广东纳米压印值得买

    具体说来就是,MOSFET能够有效地产生电流流动,因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平(硅中掺杂以带来或正或负的电荷),以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅(SiO2)衬底上,然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控,掺杂有时会泄到别的不需要的地方,那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域,并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手(包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等),开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通过电子束光刻工艺在表面上形成定制形状和塑形,从而带来更加“物理可控”的生产过程。(来自网络。广东纳米压印值得买

岱美仪器技术服务(上海)有限公司主营品牌有EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,发展规模团队不断壮大,该公司贸易型的公司。公司是一家其他有限责任公司企业,以诚信务实的创业精神、专业的管理团队、踏实的职工队伍,努力为广大用户提供***的产品。公司始终坚持客户需求优先的原则,致力于提供高质量的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。岱美中国顺应时代发展和市场需求,通过**技术,力图保证高规格高质量的半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪。

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