美国氰特光稳定剂Chiguard 5228

长效性紫外光稳定剂CYASORB UV-3346 ：N, N' -双(2,2,6,6-四甲基-4-呱啶基)-1,6-己二胺和2,4-二氯-6-(4-吗啉基)-1,3,5-三嗪的聚合产物 CAS：82451-48-7 使用范围： PE: 膜、扁丝、注塑和滚塑制品、片材、茂金属。PP: 膜、扁丝、纤维、注塑制品、TPO。聚缩醛、尼龙、PET、PBT、ASA、ABS、HIPS、PMMA和PUR。 应用范围： 聚乙稀薄膜、EVA、棚膜、聚丙烯纤维 聚烯烃等薄制品领域。 应用指引： 在推荐的用途内，根据基体树脂和加工条件的不同，添加量依具体用途而定。CYASORB UV-3346的典型用量范围：0.1%--0.5%之间。 安全卫生性： 已通过美国食品及药物总局（FDA）的批准。与光吸收剂和其他受阻胺强互配性的紫外线吸收剂。美国氰特光稳定剂Chiguard 5228

长效性紫外光稳定剂CYASORB THT4611 简介： CYASORB THT4611是一种复配的高效光稳定剂 性能指标： 热失重温度343℃，10%熔点：75-90℃，黄色颗粒状。 优势用途：高效的抗紫外性；低色污和低挥发性；耐萃取性； 良好的长期抗稳定性，长期耐紫外光老化；对材质表面无喷霜不起雾。 使用范围： 聚烯烃PE、PP； 聚烯烃热塑性弹性体TPO； 热塑性弹性体TPE/TPR：SBS，SEBS，SIS，SEPS，TPO，TPV，TPU，TPVC，TPEE，TPA，尼龙PA等； PE: 膜、扁丝、注塑和滚塑制品、片材、茂金属。PP: 膜、扁丝、纤维、注塑制品、TPO。聚缩醛、尼龙、PET、PBT、ASA、ABS、HIPS、PMMA和PUR。 应用范围： 聚乙稀薄膜、EVA、棚膜、聚丙烯纤维 聚烯烃等薄制品领域。 包 装：20Kg/箱代理光稳定剂Chimassorb 622对于光泽的降低，裂纹，气泡，脱层及颜色有很好的抑制作用的光稳定剂。

美国氰特光稳定剂3808PP5 产品形态： 白色小颗粒状 熔点： 135-159℃ 热失重温度T-10%： 266℃ 以传统770、944、783、791相比， 美国氰特光稳定剂产品特点： 1.以50%PP为载体的复配型光稳定剂,优异的对表面（光泽度，粉化，黄变）的稳定性. 2.弱碱性，可用于阻燃剂体系产品等呈显酸性环境领域。 3.强力推荐用于聚烯烃类耐候料（汽车适用料、家电适用料） 美国氰特光稳定剂3808PP5性能优势 1: 相容性非常好,无喷霜现象; 2：加工流动性好的同时、表现出低挥发性;低色污. 3：复配型光稳定剂协同效应 效果很好，性价比高; 4：市场应用成熟，国内改性厂家巨头 适合用于用汽车、家用PP料。

Chiguard 202 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202是高分子量的受阻胺光稳定剂(HALS)。它在聚合物中表现出优异的相容性和抗萃取性。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202综合了各种高分子量HALS的优点。它为聚合物提供较高的光/热稳定性,同时改善其辅助性质,如增强颜料的色度。 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202:嵌段齐聚的受阻胺光稳定剂 基本特性: 高分子量受阻胺光稳定剂Chiguard 202的特点之一是分子量分布非常窄,这使得在加工和使用中表现出一致的效果。 产品性状: 透明、淡黄色药片状颗粒 融 程:120 - 150℃ 闪点:未测试 比重(20℃):1.01 g/cm3 蒸气压(20℃):7E-10 Pa (外推)苯乙烯均聚和共聚物、聚烯烃、液体颜色浓缩物和其它有机物基体紫外光稳定剂。

Nylostab S-EED 是一种新颖的尼龙用多功能添加剂，在单一分子里含有多种有利的性质。由于分子结构独特，Nylostab S-EED能 够耐尼龙熔体的还原环境，可作为一种熔体稳定剂，也可作为熔体加工改性剂。通过应用Nylostab S-EED，熔体压力的高度稳定性使 得尼龙注塑制件、吹塑制件及挤出产品质量很好，在纤维纺丝的应用中断丝的比例很低。 尼龙6加工时的扭矩曲线（表现为挤出机马达的电流消耗） 图表1很清楚地阐明了Nylostab S-EED对尼龙6的稳定作用。在熔体加工时如果同时加入了其他的受阻胺(HALS)稳定剂时，没有这个效 果。 从图1可以看出，Nylostab S-EED可以改善注塑件的表观质量。含有Nylostab S-EED的制品表面更平滑些，注塑螺纹无缺陷。同样也发现，Nylostab S-EED可以改善吹注应用时的可加工性。一种用于塑料制品的聚合型高分子量受阻胺类光稳定剂。低碱性光稳定剂Chimassorb 622

一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂，（与尼龙分子识别而相容）。美国氰特光稳定剂Chiguard 5228

BASF受阻胺光稳定剂 受阻胺类的作用机理包括三种： 1.捕获自由基 2.分解过氧化物 3.猝灭单线态氧。 受阻胺类成分本身不吸收任何大于260 nm的光线，也不能猝灭激发态分子，但在氧存在下，受阻胺能被氧化生成相应的氮氧自由基，这种化合物相当稳定，它们能非常有效的捕获聚合物光氧化降解产生的活性自由基，而且在稳定过程中具有再生功能， 这种再生功能是其有别于其他稳定剂的较大特征。 主要牌号：Tinuvin®770、Uvinul®4050FF、Tinuvin®765、Uvinul®5050H、Tinuvin®622、Chimassorb®944、Chimassorb®2020等美国氰特光稳定剂Chiguard 5228

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