高温场视觉测温模型的建立是基于CCD传感器对铸坯表面温度场进行在线测量的前提。在分析辐射测温及CCD探测器基本工作原理的基础上，基于几何光学理论建立了窄带光谱辐射测温模型，为CCD辐射测温提供了理论依据。并结合连铸坯表面温度场分布特点，从温度测量范围、测量准确性以及发射率消除等因素上确定了灰度CCD进行连铸坯表面温度场测量方案。基于面阵CCD辐射测温模型，分析了测温灵敏度、温度测量范围与窄带滤光片中心波长、像方孔径角之间的关系。分析结果表明，灵敏度与像方孔径角成正相关，随窄带光谱中心波长先增大后减小；而温度测量范围与像方孔径角成负相关，随窄带光谱中心波长先减小后增大。同时考虑到波长对水雾的吸收特性以及本文选择的探测器响应波段等因素，黑体炉终选择的窄带滤光片中心波长为μm，带宽为10nm。基于几何成像的基本原理，建立了辐射测温变参数模型，在黑体炉上进行了标定试验研究，分析了曝光时间、光圈、焦距以及标定距离等参数对CCD灰度测量的影响。实际应用中，对实用黑体炉的评估是相当困难的。上海精密红外温度校准仪黑体炉
红外热像仪用于研发，工业检测与设备维护的应用范围愈来愈***，红外热像仪的需求也在逐年增加之中，在科研，医疗，电子建筑等各行各业中发挥着举足轻重的作用。红外热像仪有许多参数，依据现行的热像仪校准规范（JJF1187-2008）的要求，需要对外观、显示、示值误差、测温一致性进行校准。热成像仪示值误差和测温一致性校准可以用腔式黑体炉完成。当黑体辐射源的尺寸不能完全覆盖热像仪视场时，需要调整热像仪或黑体辐射源位置，使黑体辐射源中心分别成像于标记点，使辐射源中心分别成像于热像仪显示器的各个区域，需要调整并测量9次（JJF1187-2008热像仪校准规范.上海市黑体炉怎么用一般面源黑体炉的温度范围只能做到500摄氏度以下，管式黑体则可以比较容易做到2000度以上。
试验用锅发射率测试3.1测量仪器锅体材料是影响灶具热效率的重要因素之一，因此，本试验主要测量新、旧两版国标下铝制锅具材料的发射率，分别为旧国标下的普通白色铝锅和新国标下的黑色无光铝锅，以下分别简称“白锅”和“黑锅”。发射率测量仪器见图4，分别为日本某公司生产的FTIR-6100型傅里叶光谱分析仪和HIT-2型面源黑体炉。3.2发射率测量针对标准用锅的样品，使用HIT-2型黑体炉作为参考黑体辐射源，在120℃下，分别测量黑体辐射源、黑锅和白锅的辐射量，经过计算机进行傅里叶变换，获得黑锅和白锅在2.5~25μm红外波段的发射率，测量结果见图5。
黑体的主要功能是产生一定温度下的标准辐射。因此在温度计量中主要用于检定各种辐射温度计，如光学高温计、红外温度计、红外热像仪等。随着科学技术的发展，黑体的用途已经不局限于在温度计量方面的应用。在光学方面，已经普遍采用黑体作为标准辐射源和标准背景光源。在测量领域里，黑体已经用于测量材料的光谱发射、吸收和反射特性。在高能物理的研究中，黑体已经用作为产生中子源。不同的用途对黑体的要求是不一样的。在温度计量领域，主要是利用黑体辐射和温度的对应关系，因此要求黑体的发射率越高越好。要求黑体的辐射能量按照光谱分布（也就是黑体光谱辐射能量、也称为单色能量）都能符合普朗克定律，这样我们在检定或校准辐射温度计时，以黑体的温度（或标准辐射温度计）的示值，来修正辐射温度计的偏差。因此在选择黑体时通常是选择发射率较高的腔式黑体，同时也要注意黑体腔口直径，温度均匀性和辐射温度不确定度。在光学应用中，通常要求辐射源的辐射面积较大，但是温度不高，只关注辐射面的温度均匀性而不一定关注辐射能量与温度对应的准确性，因此选择面源黑体较多。 当***个黑体炉问世时，控制机箱都十分笨重，经过不断改进，重量**减轻，性能大幅提高。
对于测试和研究中所采用的黑体，是根据需要设计，种类繁多。用于材料光谱发射率测量的黑体，是一个界于腔式黑体和面源黑体之间的黑体，发射面只有Φ10mm。用于辐射温度仪器中定点校准用的黑体，是一个定温度的辐射能量很稳定的光源。在****系统使用的黑体中**小只有小手指大，因此称为指状黑体；为了模拟目标，在一个平面上分隔成多个不同温度区域的**面源黑体称为目标模拟器。等等。——简易黑体对于红外热像仪检测或校准时，特别是对于辐射率低，如光亮反射或低频率物体，或不明的物体的温度测量，可通过黑体漆或黑体胶带来确定其辐射率，从而达到准确测温的目的。 在温度计量领域，主要是利用黑体炉辐射和温度的对应关系，因此要求黑体的发射率越高越好。上海红外线标准黑体炉
因此不能笼统地以某一个黑体炉有效发射率值来评价腔体的好坏。上海精密红外温度校准仪黑体炉
由于是针对目标响应值相对大小关系的校正，这就使得一点校正法可以在目标响应值与校正测量值相近时的任何情况下都能较好地成像。例如，一种很常见的实现方式是在环境温度、FPA温度变化后，通过实时动态调节积分时间、全局偏置等参数，让目标响应值回到与校正测量时相近的范围内，则成像一般不成问题，但这样处理后将导致测温算法复杂化甚至根本无法实现测温功能。各厂家在一点校正法的工艺实现中，还有个普遍的谬误：用高、低温黑体炉作校正测量，但在应用中却是用的档片机构此时档片起到的是参考黑体的作用。如果用外档片则还与校正测量的情况比较接近，但内档片差得就很离谱了。上海精密红外温度校准仪黑体炉
