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XRD衍射仪基本参数
  • 品牌
  • 布鲁克
  • 型号
  • D8
XRD衍射仪企业商机

D8ADVANCEECO是市面上环保的X射线衍射仪,其应用范围、数据质量、灵活性和可升级性毫不打折扣。D8ADVANCEECO是功能齐全的D8ADVANCE版本,适用于所有X射线粉末衍射和散射应用。与D8ADVANCE完全兼容,它具有面向未来的所有灵活性。面对新应用,您随时都能对它轻松完成升级,从而适应未来实验室可能出现的任何X射线衍射和散射应用需求:相鉴定定量相分析微观结构分析结构测定和精修残余应力织构掠入射衍射(GID)X射线反射分析(XRR)小角X射线散射(SAXS)对分布函数(PDF)分析该X射线源有6kW的功率,其强度是标准陶瓷射线管5倍,在线焦点和点焦点应用中均具有出色的性能。上海点阵参数精确测量XRD衍射仪用户体验

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制剂中微量API的晶型检测引言药物制剂生产过程中除需添加各种辅料外,往往还需要经过溶解、研磨、干燥(温度)、压片等工艺过程,在此过程中API的晶型有可能发生改变,进而可能影响到药物的疗效。国内外FDA规定多晶型药物在研制、生产、贮存过程中必须保证其晶型的一致性,固体制剂中使用的晶型物质应该与API晶型一致。因此药物制剂中的晶型分析是非常重要的。由于辅料的存在对药物制剂中API的晶型分析增加了干扰,特别是API含量非常少的制剂样品,检测更加困难。XRPD是API晶型分析的有效手段之一,配合高性能的先进检测器,为制剂中微量API的晶型检测提供了有利工具。全新XRD衍射仪均价凭借RapidRSM技术,能在 短的时间内,测量大面积倒易空间。在DIFFRAC.LEPTOS中,进行倒易点阵转换和分析。

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对于需要探索材料极限的工业金属样品,通常需要进行残余应力和织构测量。通过消除样品表面的拉应力或引起压应力,可延长其功能寿命。这可通过热处理或喷丸处理等物理工艺来完成。构成块状样品的微晶的取向,决定了裂纹的生长方式。而通过在材料中形成特定的织构,可显着增强其特性。这两种技术在优化制造法(例如增材制造)领域也占有一席之地。由于具有出色的适应能力,使用D8 ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。

由于具有出色的适应能力,*使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是**用户,都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的:配置仪器时,免工具、免准直,同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不仅如此——布鲁克***提供基于NIST标样刚玉(SRM1976)的准直保证。目前,在峰位、强度和分辨率方面,市面上尚无其他粉末衍射仪的精度超过D8ADVANCE。根据应用需求,调节探测器的位置和方向,包括0°/ 90°免工具切换以及探测器位置可连续变化、支持自动对光。

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所有维度都非常好的数据质量不论在何种应用场合,它都是您的可选的探测器:高的计数率、动态范围和能量分辨率,峰位精度布鲁克提供基于NIST标样刚玉(SRM 1976c)整个角度范围内的准直保证,面向未来的多用途采用了开放式设计并具有不受约束的模块化特性的同时,将用户友好性、操作便利性以及安全操作性发挥得淋漓尽致,这就是布鲁克DAVINCI设计,布鲁克获得的TWIN-TWIN光路设计极大地简化了D8 ADVANCE的操作,使之适用于多种应用和样品类型。为便于用户使用,该系统可在4种不同的光束几何之间进行自动切换。该系统无需人工干预,即可在Bragg-Brentano粉末衍射几何和不良形状的样品、涂层和薄膜的平行光束几何以及它们之间进行切换,且无需人工干预,是在环境下和非环境下对包括粉末、块状物体、纤维、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)在内的所有类型的样品进行分析的理想选择。EIGER2 R 250K和500K是将Synchrotron性能带入实验室X射线衍射的2D检测器。进口XRD衍射仪

候选材料鉴别(PMI) 为常见,这是因为对其原子结构十分灵敏,而这无法通过元素分析技术实现。上海点阵参数精确测量XRD衍射仪用户体验

API多晶型分析引言2015版药典附录新增“9105多晶型药品的质量控制技术和方法指导原则”:指出固体药物及其制剂中粗在多晶型现象随时,应使用“优势药物晶型物质状态“为药物原料及其制剂晶型,以保证药品临床有效性、安全性与质量可控性。说明目前药物行业对晶型的重视。晶型,特别是API晶型对药物的功能有直接关心,同一API的不同晶型在溶解度、熔点、溶出度、生物有效性等方便可能会有不同。而表征API晶型的有效手段之一就是XRPD。上海点阵参数精确测量XRD衍射仪用户体验

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浙江全新XRD衍射仪 2024-12-05

超薄HfO2薄膜XRR测试引言随着晶体管节点技术的发展,薄膜厚度越来越薄。比如高-栅介电薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在该技术节点的a20范围内。超薄膜的均匀性是制备Hf基栅氧化物的主要工艺难题之一。为了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的测量技术。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户,都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的:配置仪器时,免工具、免准直,同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不止如此——布鲁克提供基于NIST标样...

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