东宇高纯氮气制氮机对比

制氮机工作原理：PSA变压吸附制氮原理 碳分子筛可以同时吸附空气中的氧和氮，其吸附量也随着压力的升高而升高，而且在同一压力下氧和氮的平衡吸附量无明显的差异。因而，凭压力的变化很难完成氧和氮的有效分离。如果进一步考虑吸附速度的话，就能将氧和氮的吸附特性有效地区分开来。氧分子直径比氮分子小，因而扩散速度比氮快数百倍，故碳分子筛吸附氧的速度也很快，吸附约1分钟就达到90%以上；而此时氮的吸附量有5%左右，所以此时吸附的大体上都是氧气，而剩下的大体上都是氮气。这样，如果将吸附时间控制在1分钟以内的话，就可以将氧和氮初步分离开来，也就是说，吸附和解吸是靠压力差来实现的，压力升高时吸附，压力下降时解吸。而区分氧和氮是靠两者被吸附的速度差，通过控制吸附时间来实现的，将时间控制的很短，氧已充分吸附，而氮还未来得及吸附，就停止了吸附过程。因而变压吸附制氮要有压力的变化，也要将时间控制在1分钟以内日本东宇致力于提供制氮机，欢迎您的来电！东宇高纯氮气制氮机对比

制氮机使用时间过长碳分子筛的质量就会变差，产出的氮气纯度就会低下，需要更换碳分子筛，纯度可以恢复。制氮机使用一定年限后需要维修保养的注意事项很多客户反映,制氮机使用一定年限后出现产气量不足、制氮机纯度下降、制氮机喷粉等现象更换碳分子筛。   碳分子筛使用过程中，如操作维护不当会造成中毒。如：前期空气净化未配备处理设备或所配设备带病运行，致使油、水杂质随空气直接进入吸附塔被碳分子筛吸附造成中毒，解析能力严重受损，制氮量和制氮纯度明显下降。另外碳分子筛达到一定使用年限后，其氮气纯度会明显下降，无法保证使用要求。遇到此类情况，就得考虑更换碳分子筛。   碳分子筛使用寿命每年以5%的产能递减(因为碳分子筛老化问题，不可避免)碳分子筛使用寿命厂家建议5-6年，具体也要看使用情况。东宇高纯氮气制氮机对比制氮机，就选日本东宇，用户的信赖之选，有需求可以来电咨询！

在制氮机的工作过程中，分子筛会因为气流的冲击摩擦形成一定的粉化，但是压紧装置在此时应该是自动压紧的，直到分子筛缺失报警。如果制氮机的压紧装置是老式的螺杆压紧，那么就是一次性的，一部分分子筛粉化后就会松动，粉化会越来越严重。始终是本公司一贯坚持的服务理念。   制氮机碳分子筛更换方法   1、碳分子筛是制氮设备的重要，为防止污染而失效，必须严格控制空压机排气含油量,并定期更换过滤器滤芯和除油器内活性炭。   2、定期检查压紧气缸压力表，若无压力或脱附过程压力下降时则说明气缸不能正常压紧碳分子筛，应及时排除故障，以防止碳分子筛未被压紧而窜动造成分子筛粉化。分子筛间隙重组或正常损耗发生碳位报时，应及时停机添加碳分子筛。   3、正在运行过程中，如发现消声器放空口有大量黑色粉尘喷出时，应及时停机查找原因，避免碳分子筛粉化加剧。   4、碳分子筛的储存、运输及装卸均不会对人体有害，填充碳分子筛时可戴护目镜、呼吸过滤器及用抽气扇，填充后应以肥皂洗净皮肤接触处   5、发生氮气纯度、碳位和吸附压力下降等故障时应及时查找原因并排除故障。

制氮机有什么特点？ 1、低，产品气≤ - 45℃，保证焊接质量； 2、氮气纯度可在99.99%～99.999%之间自由调节； 3、标准型，简单增容，如需增加制氮量，只需并联多台制氮机即可； 4、制氮效率高，压缩空气能耗低，节能，每立方米氮气能耗约0.42度； 5、可加装边框，使外观整洁美观，便于清洁管理，满足电子行业高清清洁要求。 四、使用氮气有哪些要求？ 1、无保护膜或电路板焊接铜垫，存放时间长或可靠性高者优先； 2、焊接昂贵的集成电路元件、小体积元件、细间距元件、倒装芯片和不可修复元件时； 3、使用高温锡膏或低固含量、低活性锡膏时； 4、OPS涂层PCB多次回流时，或OPS涂层PCB多次回流时。制氮机，就选日本东宇，用户的信赖之选，有需要可以联系我司哦！

制氮机是按变压吸附技术设计、制造的氮气制取设备。制氮机以品质进口碳分子筛（CMS）为吸附剂，采用常温下变压吸附原理（PSA）分离空气制取高纯度的氮气。通常使用两吸附塔并联，由进口PLC控制进口气动阀自动运行，交替进行加压吸附和解压再生，完成氮氧分离，获得所需高纯度的氮气。制氮机，是指以空气为原料，利用物理方法将其中的氧和氮分离而获得氮气的设备。工业上应用的制氮机，根据分类方法的不同，可以分为三种，即深冷空分法、分子筛空分法(PSA)和膜空分法日本东宇为您提供制氮机，期待您的光临！东宇化工制氮机工厂

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制氮机设备特点4-5条：（4）机电一体化设计实现自动化运行： 进口PLC控制全自动运行，氮气流量压力纯度可调并连续显示，可实现无人值守。 （5）运用范围广： 金属热处理过程的保护气，化学工业生产用气及各类储罐、管道的充氮净化，橡胶、塑料制品的生产用气，食品行业排氧保鲜包装，饮料行业净化和覆盖气，医药行业充氮包装及容器的充氮排氧，电子行业电子元件及半导体生产过程的保护气等。纯度、流量、压力稳定可调，满足不同客户的需要。 技术指标： 流量：5-1000Nm3/h 纯度：95%-99.9995% 温度：≤-40℃ 压力：≤0.8Mpa可调 东宇高纯氮气制氮机对比

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