企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

博洋股份拥有甲类、丙类的危化品生产和仓储**厂房,功能包括了液体稀释、固体溶解、液体和固体混配等工艺要求的定制研发类别Category危化品等级Hazardouschemicalsgrade设备材质Materialofequipment工艺TechnologyOEM定制加工OEM第三类Thethird(flammableliquilds)不锈钢Stainlesssteel溶解、稀释Dissolutionanddilution第五类Thefifth(oxidizingsubstanceandorganicperoxides)搪瓷Enamel固液配料Solid-liquidingredients第八类Theeight(correctives)衬塑Plasticlining固固混料Solid-solidmixing哪家剥离液质量比较好一点?池州哪家剥离液私人定做

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湿电子化学品位于电子信息产业偏中上游的材料领域。湿电子化学品上游是基 础化工产品,下游是电子信息产业(信息通讯、消费电子、家用电器、汽车电子、 LED、平板显示、太阳能电池、**等领域)。湿电子化学品的生产工艺主要采用物 理的提纯技术及混配技术,将工业级的化工原料提纯为超净高纯化学试剂,并按照 特定的配方混配为具有特定功能性的化学试剂。湿电子化学品行业是精细化工和电 子信息行业交叉的领域,其行业特色充分融入了两大行业的自身特点,具有品种多、 质量要求高、对环境洁净度要求苛刻、产品更新换代快、产品附加值高、资金投入 量大等特点,是化工领域相当有发展前景的领域之一。南京格林达剥离液配方技术龙腾光电用的哪家的剥离液?

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    技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生活水平,促进产业发展与经济增长,保障**安全等方法发挥着重要作用,微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。基于半导体制造工艺的光刻技术是**常用的手段之一。对于纳米孔的加工,常用的手段是先利用曝光负性光刻胶并显影后得到微纳尺度的柱状结构,再通过金属的沉积和溶胶实现图形反转从而得到所需要的纳米孔。然而传统的方法由于光刻过程中的散焦及临近效应等会造成曝光后的微纳结构侧壁呈现一定的角度(如正梯形截面),这会造成蒸发过程中的挂壁严重从而使lift-off困难。同时由于我们常用的高分辨的负胶如hsq,在去胶的过程中需要用到危险的氢氟酸,而氢氟酸常常会腐蚀石英,氧化硅等衬底从而影响器件性能,特别的,对于跨尺度高精度纳米结构的制备在加工效率和加工能力方面面临着很大的挑战。技术实现要素::为了克服上述技术问题,本发明公开了一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法。

剥离液是一种通用湿电子化学品,主要用于去除金属电镀或者蚀刻加工完成后的光刻胶和残留物质,同时防止对衬底层造成破坏。剥离液是集成电路、分立器件、显示面板、太阳能电池等生产湿法工艺制造的关键性电子化工材料,下游应用领域***,但整体应用需求较低,因此市场规模偏小。

剥离液应用在太阳能电池中,对于剥离液的洁净度要求较低,*需达到G1等级,下游客户主要要天合、韩华、通威等;应用到面板中,通常要达到G2、G3等级,且高世代线对于剥离液的要求要高于低世代线,下游客户有京东方、中星光电;在半导体中的应用可分等级,在8英寸及以下的晶圆制造中,对于剥离液的要求达到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等**产品要达到G5水平。 天马微电子用哪家剥离液更多?

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    所述抽真空气体修饰法包括如下步骤:将将衬底和光刻胶抗粘剂置于密闭空间中,对密闭空间抽真空至光刻胶抗粘层气化,保持1分钟以上,直接取出衬底。进一步的改进,所述衬底为硅、氧化硅、石英、玻璃、氮化硅、碳化硅、铌酸锂、金刚石、蓝宝石或ito制成。进一步的改进,所述步骤(2)对衬底修饰的试剂包括hmds和十三氟正辛基硅烷;对衬底修饰的试剂镀在衬底表面。进一步的改进,所述所述光刻胶包括pmma,zep,瑞红胶,az胶,纳米压印胶和光固化胶。进一步的改进,所述光刻胶厚度为1nm-100mm进一步的改进,所述光刻胶上加工出所需结构的轮廓的方法为电子束曝光,离子束曝光,聚焦离子束曝光,重离子曝光,x射线曝光,等离子体刻蚀,紫外光刻,极紫外光刻,激光直写或纳米压印。进一步的改进,所述黏贴层为pdms,紫外固化胶,热释放胶,高温胶带,普通胶带,pva,纤维素或ab胶。上述选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法制备的微纳结构用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。本发明的有益效果在于,解决了现有负性光刻胶加工效率低,难于去胶,去胶过程中损伤衬底,对于跨尺度结构的加工过程中加工精度和效率的矛盾等问题。剥离液的类别一般有哪些。南京格林达剥离液配方技术

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    添加剂中含有醇醚化合物、胺化合物、缓蚀剂以及润湿剂;s3:将步骤s1的剥离液废液与添加剂混合,重新制备剥离液新液,制备过程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻胶剥离液为纯有机溶剂体系,废液可通过蒸馏回收80-95%有效物,得出纯化液体,而在上述制备方式中,纯化液体所含的组分与添加剂所含的组分之间是具有相重复的,可以认为,添加剂是根据已知的剥离液新液的组分进行配制的,添加剂可以是对纯化液体与剥离液新液之间的组分的差别而进行的添加、补充,使得纯化液体和添加剂混合后,能够具有与剥离液新液相同的组分。那么,可以知道,在预先知道剥离液新液的组分的基础上,可以通过预先配制含有剥离液新液中的某些组分的添加剂,然后在制备回收的剥离液废液得出纯化液体时,可以将添加剂加入纯化液体中,再进行质量分数的调节。纯化液体是将剥离液废液进行加压、蒸馏,去除剥离液废液中的非剥离液新液的组分的物质,然后得出的纯化液体,纯化液体中所含的组分物质,都是剥离液新液所含有的组分物质。进一步技术方案中,所述的步骤1中得出的纯化液体中含有的酰胺化合物的质量分为:45%-60%;含有的醇醚化合物的质量分为:35%-50%。池州哪家剥离液私人定做

苏州博洋化学股份有限公司是以提供高纯双氧水,高纯异丙醇,蚀刻液,剥离液为主的股份有限公司,博洋化学是我国精细化学品技术的研究和标准制定的重要参与者和贡献者。公司承担并建设完成精细化学品多项重点项目,取得了明显的社会和经济效益。产品已销往多个国家和地区,被国内外众多企业和客户所认可。

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