电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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过硫酸铵溶液: (NH4)2S2O610克 过硫酸铵水90亳升 |
电解浸蚀。方法同铬酸水溶液的使用方法。 |
极快的显示不锈钢组织 |
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过氯酸及冰醋酸溶液: 冰醋酸 10份 过氯酸 1份 |
2分钟或以上,电压20~22伏,电流密度0.1安/厘米2,使用温度低于20。C。抛光时要时常搅溶液,在通风橱中进行,要注意温度,防止炸裂。配制溶液时,过氯酸须缓慢地加入冰醋酸中,温度低于15。C,要?搅动,以免局部温度升高。 |
适用于抛光钢和铁。 |
电解抛光腐蚀缺点,特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金,比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点,但它仍不能完全代替机械抛光,因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感,所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。含有夹杂物的金属材料,如果夹杂物被电解液浸蚀,则夹杂物有部分或全部被抛掉,这样就无法对夹杂物进行分析。如果夹杂物不被电解液浸蚀,则夹杂物保留下来在抛光面上形成突起。对于只有两相的金属材料,如果这两个相的电化学性相差很大,则电解抛光时会产生浮雕。苏州金相电解腐蚀厂家批发电解抛光腐蚀,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀。
晶间腐蚀检验方法:晶间腐蚀后有通常有两种方法检测,一种是弯曲法,也就是对折法,就是试样进行晶间腐蚀检验后在弯曲试验机上进行弯曲180°,用放大镜观察弯曲表面,根据表面是够有裂纹来判断是否有晶间腐蚀发生,另一种是金相法,根据晶间腐蚀后试样进行磨抛+化学腐蚀,通过金相显微镜观察腐蚀深度,通过晶间腐蚀深度来判断是否发生晶间腐蚀;其实还有第三种办法,就是有经验的师傅还可以通过听声法来判断,这个主观影响较大,不建议使用;金相试样横向和纵向都是允许的,因为是判断试样腐蚀的深度,所以横向还是纵向影响不大的。
晶间腐蚀仪器应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备,用于检验各种类型的不锈钢、铝合金等材料在特定的温度和腐蚀试剂下晶间腐蚀的状况,从而判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀,晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力逐渐减弱,力学性能恶化。由此可见,晶间腐蚀是一种很危险的腐蚀。本仪器是用于评价材料的晶间腐蚀性能的仪器。电解抛光腐蚀,温度随时间变化的曲线。
晶间腐蚀常用的试验方法:硫酸-硫酸铜-铜屑法。适用于检验几乎所有类型的不锈钢和某些镍基合金因碳、氮化物析出引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于活化-钝化区。试验结果采用弯曲试样放大镜下观察裂纹或金相法评定。此法腐蚀轻微,试验条件稳定,但判定裂纹需有-定经验;硝酸法。适用于检验不锈钢、镍基合金等因碳化物、o相析出或溶质偏析引起的晶间腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于钝化-过钝化区。试验结果采用腐蚀率评定。此法试验周期长;硝酸-氢氟酸法。适用于检验含钼奥氏体不锈钢因碳化物析出引起的晶问腐蚀。奥氏体不锈钢在此溶液中的腐蚀电位处于活化-钝化区。此法试验周期短,但腐蚀严重。试验结果须采用同种材料敏化和固溶试样的腐蚀率比值评定。低倍加热腐蚀消 除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。湖南低倍加热腐蚀操作简单
电解抛光腐蚀,利用电化学原理进行金相样品的制备。上海阳极覆膜腐蚀品牌好
晶间腐蚀操作主意事项,温度:溶液温度与沸腾状态:再各通道使用的时候我们会看到在设置相同的温度时候,有的通道会沸腾得厉害,有的基本上没有沸腾主要原因有1、温度传感器各通道有误差或者测量误差;加热器的功率有误差功率大的会沸腾得快一些;各通道烧瓶里的溶液体积有误差,溶液少的会沸腾得快。(冷凝水一定是在相同条件下)如果溶液温度一直稳到达不了设定温度但溶液处于沸腾状态的时候(温度一直保持在最高温度),我们可以手动去设置一下该通道温度值,应低于一直保持最高温度值0.5-1℃或者慢慢以0.5℃为单位减小(应先确保温度传感器测量位置没有问题)上海阳极覆膜腐蚀品牌好
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备,该设备工作电压、电流范围大,功能齐全,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快、重复性好等优点,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀,主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备,本仪器性能好,无噪声。低倍组织热酸蚀腐蚀酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温。昆山金属抛光腐蚀公司电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过...