电解抛光腐蚀安全规程:使用含高氯酸电解液时,必须通循环水冷却,配制温度低于15。C,使用温度应低于200C注意安全,防止燃烧;使用电压超过60V时,要注意安全,应先放好试样,再调电压到所需值,后进行电解抛光,结束后将电压调到零位再取试样;当电源接通后,直流档无论有无负载,要严防短路,尤其使用外电解浸蚀时更应注意;接通负载后(即抛光或腐蚀进行时),严禁转换电压调整器。每次抛光后,应关闭电源防止过热;抛光结束后,将电解液倒入其它容器中,用水清洗电解槽及冷却循环系统。电解抛光腐蚀,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。嘉兴金属抛光腐蚀制造厂商
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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铬酸水溶液: 三氧化铬10克 水100亳升 |
电解浸蚀,以试样为正极,不锈钢为负极,相距18~25亳米,电压6伏,浸蚀30~90秒 |
添铁素体晶界外,一切组织均能显示,渗碳体易浸蚀,奥氏体次之 |
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10%草酸电解液: 草酸 10克水 100亳升 |
电解时间0.7~1分钟 电流密度20~30安/厘米2 电解时间20~40秒 电流密度10~20安/厘米2 电解时间1.6~1.8分钟 电流密度10~20安/厘米2 |
显示奥氏体不锈钢晶和碳化物。 显示4Cr14Ni14W4Mo钢退火材的奥氏体和碳化物 显示提造钢退火或猝火组织,GCr15的碳化物。 |
低倍组织热酸蚀,样品要求:检验面距切割面尺寸:热锯切割时不小于20mm;冷锯切割时不小于10mm;火焰切割时不小于25mm检验面粗糙度:热酸腐蚀不大于1.6um;冷酸腐蚀不大于0.8um试样尺寸:厚度一般20mm~30mm;纵向试样的长度一般为边长或直径的1.5倍;钢板检验面的尺寸一般为长250mm,宽为板厚;测试内容:一般疏松、中心疏松、锭型偏析、斑点状偏析、白亮带、中心偏析、冒口偏析、皮下气泡、残余缩孔、翻皮、白点、轴心晶间裂缝、内部气泡、非金属夹杂物(目视可见)及夹渣、异金属夹杂。
电解抛光腐蚀,贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械联合抛光法, 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电: 10~15伏 温度: 常温 时间: 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
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硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电:0.8~1安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械抛光法,时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |
晶间腐蚀操作主意事项,冷水机设置操作说明:温度设置:按set件会出现设置的温度值,按向上下键进行增加或减少就能设定运行的温度了,然后按ret键保存。不保存修改无效。温度下限设置:同时按住set和向上键,显示0;按向上键将0改为6,在按set键出现F0;在按向上键将F0改F9在按set键就会出现默认设置的最低温度;在按向上下键修改温度值;修改完成后按ret键保存即可,不保存无。重要提示:控制装置不得放置在通风柜内部,因为使用酸液和水雾可能导致敏感的电子设备受损。放在外部也得与酸蚀槽保持一定距离,避免操作时有酸液飞溅到控制器上。晶间腐蚀,有冷凝水传感器检测,无水停机报警。宁波低倍组织热酸蚀腐蚀企业
电解抛光腐蚀,温度随时间变化的曲线。嘉兴金属抛光腐蚀制造厂商
电解抛光腐蚀缺点,电解抛光由于没有机械力的作用,所以没有变形层产生,也没有金属扰动层,能够显示试样材质的真实组织。由于抛光时试样是浸泡在电解液中,电解液对试样有浸蚀作用,有些试样抛光后就可直接观察组织,不必再进行组织显示。电解抛光特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金,比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点,但它仍不能完全代替机械抛光,因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感,所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。嘉兴金属抛光腐蚀制造厂商
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备,该设备工作电压、电流范围大,功能齐全,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快、重复性好等优点,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀,主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备,本仪器性能好,无噪声。低倍组织热酸蚀腐蚀酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温。昆山金属抛光腐蚀公司电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过...