电解抛光腐蚀,贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
氯化钾过饱和 过溶液 400亳升 盐酸 几滴 |
直流电电流密度0.07~0.09安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械联合抛光法, 时间2~3分钟 |
纯金的电解抛光和电解浸蚀。 |
硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流电: 10~15伏 温度: 常温 时间: 10~60秒 |
金基合金的电解浸蚀。
|
硫代硫酸钠 20克 水 400亳升 |
直流电:0.8~1安/厘米2 阳极:不锈钢 电解+机械抛光法,时间0.5~1.5分钟 |
银及其合金的电解抛光。调节电流密度可用于银基合金的电解浸蚀 |
晶间腐蚀操作主意事项,温度:溶液温度与沸腾状态:再各通道使用的时候我们会看到在设置相同的温度时候,有的通道会沸腾得厉害,有的基本上没有沸腾主要原因有1、温度传感器各通道有误差或者测量误差;加热器的功率有误差功率大的会沸腾得快一些;各通道烧瓶里的溶液体积有误差,溶液少的会沸腾得快。(冷凝水一定是在相同条件下)如果溶液温度一直稳到达不了设定温度但溶液处于沸腾状态的时候(温度一直保持在最高温度),我们可以手动去设置一下该通道温度值,应低于一直保持最高温度值0.5-1℃或者慢慢以0.5℃为单位减小(应先确保温度传感器测量位置没有问题)天津盐酸腐蚀操作简单电解抛光腐蚀,电压电流调节、显示精度小数点后两位。
电解抛光腐蚀, 贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
王水 |
交流电:6伏 另一电板:石墨 |
铂及其合金、铑及其合金的电解浸蚀。 |
稀王水: 盐酸 25亳升 硝酸 8.3亳升 水 65.7亳升 |
交流电:6~10伏 电流密度:1.5~2.0安/厘米2 时间:8~10分钟 另一电极:纯铂 |
铂、铱的电解浸蚀。 |
盐酸 20亳升 氯化钠 25无 水 65亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:1分钟 |
铂、铂钉、铂铱合金的电解浸蚀。 |
盐酸 20亳升 甘油 5亳升 水 70亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:30分钟 |
铱及铱铑合金的电解浸蚀。 |
电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
|
冰醋酸铬酸溶液: 冰醋酸 775亳升 铬酸酐 75克 铬酸钠 150克 |
10分钟以上,电压40~45伏,搅动溶液使其保持在30。C以下。作用较慢,但较安全。 |
抛光铜和铁效果很好。 |
|
醋酸及冰醋酸溶液: 醋酐 765亳升 过氯酸(65%)185亳升 水 50亳升 用电解法溶入铝0.5% |
使用电流密度4~6安/厘米),使用电压50伏,浸蚀时间4~5分钟。溶液配制后放置24小时后方可使用,使用温度应低于30。C,以免引起炸裂。 |
适用于抛光钢和铁以不含8%的 |
低倍组织热酸蚀,样品要求:检验面距切割面尺寸:热锯切割时不小于20mm;冷锯切割时不小于10mm;火焰切割时不小于25mm检验面粗糙度:热酸腐蚀不大于1.6um;冷酸腐蚀不大于0.8um试样尺寸:厚度一般20mm~30mm;纵向试样的长度一般为边长或直径的1.5倍;钢板检验面的尺寸一般为长250mm,宽为板厚;测试内容:一般疏松、中心疏松、锭型偏析、斑点状偏析、白亮带、中心偏析、冒口偏析、皮下气泡、残余缩孔、翻皮、白点、轴心晶间裂缝、内部气泡、非金属夹杂物(目视可见)及夹渣、异金属夹杂。晶间腐蚀,4工位单独控制工作,增加制样效率。试验设备腐蚀按钮操作
电解抛光腐蚀,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备。北京金相电解腐蚀按钮操作
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。北京金相电解腐蚀按钮操作
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备,该设备工作电压、电流范围大,功能齐全,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快、重复性好等优点,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀,主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备,本仪器性能好,无噪声。低倍组织热酸蚀腐蚀酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温。昆山金属抛光腐蚀公司电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过...