晶间腐蚀是什么?一种常见的局部腐蚀。腐蚀沿着金属或合金的晶粒边界或它的邻近区域发展,晶粒本身腐蚀很轻微,这种腐蚀便称为晶间腐蚀,这种腐蚀使晶粒间的结合力慢慢削弱,严重时可使机械强度完全丧失。例如遭受这种腐蚀的不锈钢,表面看起来还很光亮,但经不起轻轻敲击便破碎成细粒。由于晶间腐蚀不易检查,所以廷民设备的突然破十,它的危害性很大。不锈钢、镍基合金、铝合金、镁合金等都是晶间腐蚀敏感性高的材料。在受热情况下使用或焊接过程都会造成晶间腐蚀的问题。低倍组织热酸蚀腐蚀,温度控制精度误差±1℃。宁波电解腐蚀制样设备厂家
电解抛光腐蚀, 贵金属及其合金电解浸蚀剂和电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
王水 |
交流电:6伏 另一电板:石墨 |
铂及其合金、铑及其合金的电解浸蚀。 |
稀王水: 盐酸 25亳升 硝酸 8.3亳升 水 65.7亳升 |
交流电:6~10伏 电流密度:1.5~2.0安/厘米2 时间:8~10分钟 另一电极:纯铂 |
铂、铱的电解浸蚀。 |
盐酸 20亳升 氯化钠 25无 水 65亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:1分钟 |
铂、铂钉、铂铱合金的电解浸蚀。 |
盐酸 20亳升 甘油 5亳升 水 70亳升 |
交流电:6伏 另一电极:石墨 时间:30分钟 |
铱及铱铑合金的电解浸蚀。 |
晶间腐蚀操作主意事项,温度:溶液温度与沸腾状态:再各通道使用的时候我们会看到在设置相同的温度时候,有的通道会沸腾得厉害,有的基本上没有沸腾主要原因有1、温度传感器各通道有误差或者测量误差;加热器的功率有误差功率大的会沸腾得快一些;各通道烧瓶里的溶液体积有误差,溶液少的会沸腾得快。(冷凝水一定是在相同条件下)如果溶液温度一直稳到达不了设定温度但溶液处于沸腾状态的时候(温度一直保持在最高温度),我们可以手动去设置一下该通道温度值,应低于一直保持最高温度值0.5-1℃或者慢慢以0.5℃为单位减小(应先确保温度传感器测量位置没有问题)
电解抛光腐蚀,该电源是高稳定度的稳压稳流自动转换的高精度稳压电源。输出电压能够从零到标称值内任意选择, 而且在稳压状态时限流保护点也可任意设定。在稳流状态时,稳流输出电流在额定范围内连续可调。输出电压、输出电流指示为3位半LED数码显示。电源是由整流及滤波电路,辅助电源及基准电压电路,电压电流取样检测电路,比较放大电路,单片机控制电路以及调整电路等组成。当输出电压由于电源电压或负载电流变化引起变动时,则变动的信号经电压取样电路与基准电压相比较,其所得误差信号经比较放大后,由单片机控制系统控制调整电路使输出电压高速调整为给定值。从而达到高稳定输出的目的。晶间腐蚀,会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。
晶间腐蚀仪器应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备,用于检验各种类型的不锈钢、铝合金等材料在特定的温度和腐蚀试剂下晶间腐蚀的状况,从而判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀,晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力逐渐减弱,力学性能恶化。由此可见,晶间腐蚀是一种很危险的腐蚀。本仪器是用于评价材料的晶间腐蚀性能的仪器。低倍组织热酸蚀腐蚀消 除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。吉林低倍组织热酸蚀腐蚀哪个牌子好
晶间腐蚀的晶粒间结合力会减弱,力学性能恶化。宁波电解腐蚀制样设备厂家
晶间腐蚀,操作方法:启动水泵或者自来水阀,水能正常在冷凝器中循环流动,如果没有水循环是无法启动,并且会有报警提示。如果中途断水,也会终止实验,但会记录实验时间。设置好温度和时间就可以启动加热和定时。试样时间结束后会自动终止运行。试验方法,在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的差异加速显示晶间腐蚀。不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。宁波电解腐蚀制样设备厂家
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备,该设备工作电压、电流范围大,功能齐全,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快、重复性好等优点,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀,主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备,本仪器性能好,无噪声。低倍组织热酸蚀腐蚀酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温。昆山金属抛光腐蚀公司电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过...