电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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混合酸水溶液: 磷酸 90亳升 硝酸 8亳升 水 2亳升 |
使用冰溶液。 |
适用于抛光和浸蚀Fe—A1合金(A1含量至16%) |
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硝酸水溶液: 硝酸 50亳升 水 50亳升 |
室温,使用电压1.5伏,2分钟使用通风橱 |
显示奥氏体或铁素体不锈钢的晶界。 |
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盐酸酒精溶液: 盐酸 10亳升 无水酒精 90亳升 |
10~30秒 电压6伏 |
显示σ铁和铬钢及CrNi钢的一组织。 |
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硫酸水溶液: 硫酸 5亳升 水 95亳升 |
室温,使用电压, 电流密度0.1~0.5安/厘米2,浸蚀时间5~15秒。 |
适用于Fe-Cr-Ni合金。 |
晶间腐蚀,操作方法:启动水泵或者自来水阀,水能正常在冷凝器中循环流动,如果没有水循环是无法启动,并且会有报警提示。如果中途断水,也会终止实验,但会记录实验时间。设置好温度和时间就可以启动加热和定时。试样时间结束后会自动终止运行。试验方法,在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的差异加速显示晶间腐蚀。不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。宁波电解抛光腐蚀按钮操作晶间腐蚀,应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备。
晶间腐蚀操作主意事项,冷水机设置操作说明:温度设置:按set件会出现设置的温度值,按向上下键进行增加或减少就能设定运行的温度了,然后按ret键保存。不保存修改无效。温度下限设置:同时按住set和向上键,显示0;按向上键将0改为6,在按set键出现F0;在按向上键将F0改F9在按set键就会出现默认设置的最低温度;在按向上下键修改温度值;修改完成后按ret键保存即可,不保存无。重要提示:控制装置不得放置在通风柜内部,因为使用酸液和水雾可能导致敏感的电子设备受损。放在外部也得与酸蚀槽保持一定距离,避免操作时有酸液飞溅到控制器上。
晶间腐蚀,合金检测的要求不一样一般检测清洁度、晶粒大小、晶粒分布是否均匀、晶粒有无明显的堆积、是否有夹杂物等根据金相图谱检验:无过烧;分布均匀程度;晶粒大小我想也学习一下铝合金金相,各元素在显微镜下是表现什么状态。不过可以看看国标,里面只是告诉怎样判断: GB/T3246-82 铝及铝合金加工制品显微组织检验方法; GB/T3247-82 铝及铝合金加工制品低倍组织检验方法 ; GB/T10849-89 铸造铝硅合金变质; GB/T10850-89 铸造铝合金过烧;GB/T10851-89 铸造铝合金孔。晶间腐蚀,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀。
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。电解抛光腐蚀,搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀,样品表面环境一致。昆山晶间腐蚀厂家批发
低倍加热腐蚀根据《GB/T226-91钢的低倍组织及缺陷酸蚀检验法)对钢材进行低倍组织热酸蚀。昆山晶间腐蚀厂家批发
晶间腐蚀仪器应用于不锈钢的晶间腐蚀的设备,用于检验各种类型的不锈钢、铝合金等材料在特定的温度和腐蚀试剂下晶间腐蚀的状况,从而判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀,晶间腐蚀会破坏晶粒间的结合,大幅降低金属的机械强度。腐蚀发生后,金属和合金的表面虽然仍保持一定的金属光泽,看不出被破坏的迹象,但晶粒间结合力逐渐减弱,力学性能恶化。由此可见,晶间腐蚀是一种很危险的腐蚀。本仪器是用于评价材料的晶间腐蚀性能的仪器。昆山晶间腐蚀厂家批发
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备,该设备工作电压、电流范围大,功能齐全,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快、重复性好等优点,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀,主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备,本仪器性能好,无噪声。低倍组织热酸蚀腐蚀酸蚀槽采用特殊材料制作,耐酸耐高温。昆山金属抛光腐蚀公司电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过...