3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构，自此成为全球市场的高精度，微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机来制造包括标准折射微光学，自由光学元件，衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示，“将3D打印技术与用户友好的软件和创新材料相结合，导致可重复的精益流程”，使客户能够“克服当前的技术障碍”。Nanoscribe使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机，近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。增材制造轮在性能方面也表现出色。上海TPP增材制造无掩膜光刻
随着各行各业的发展及科技的进步，人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体，可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的QuantumX平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。高分辨率增材制造PPGT如需了解增材制造的信息，请咨询咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。
增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗称3D打印，融合了计算机辅助设计、材料加工与成型技术、以数字模型文件为基础，通过软件与数控系统将**的金属材料、非金属材料以及医用生物材料，按照挤压、烧结、熔融、光固化、喷射等方式逐层堆积，制造出实体物品的制造技术。相对于传统的、对原材料去除－切削、组装的加工模式不同，是一种“自下而上”通过材料累加的制造方法，从无到有。这使得过去受到传统制造方式的约束，而无法实现的复杂结构件制造变为可能。近二十年来，AM技术取得了快速的发展，“快速原型制造（RapidPrototyping）”、“三维打印(3DPrinting)”、“实体自由制造(SolidFree-formFabrication)”之类各异的叫法分别从不同侧面表达了这一技术的特点。
虽然半导体行业一直在使用3D打印技术，我们可能会有一个疑问，为什么我们没有听说，一个因素是竞争。如果全球只有四个庞大的大型公司，它们构成了光刻或制造机器的主要部分，那么这些公司并没有告诉外界关于他们应用3D打印技术的内幕，因为他们想确保的竞争优势。至少，对外界揭示其优化设备性能的技术，这种主观动机并不强。增材制造改善半导体工艺是多方面的，从轻量化，到随形冷却,再到结构一体化实现，根据3D科学谷的市场观察，增材制造使得半导体设备中的零件性能迈向了一个新的进化时代！在许多情况下，3D打印-增材制造可能使这些系统能够更接近理论上预期的工作环境，而不是在机器操作上做出妥协。3D打印带来的直接好处包括更高的精度、更高的生产能力、更快的周期时间，甚至使得每台机器每周生产更多的晶圆。某些情况下，还将看到整个晶片的成像质量更高。这将意味着更少的浪费和更高质量的产品。激光增材制造将推动制造业向数字化、智能化方向发展。
Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。布鲁塞尔自由大学的光子学研究小组（B-PHOT）的科学家们正在通过使用Nanoscribe双光子聚合技术（2PP）将光波导漏斗3D打印到光纤末端上来攻克将具有不同模场几何形状的两个元件之间的光束进行高效和稳健耦合这个难题。这些锥形光束漏斗可调整SMF的模式场，以匹配光子芯片上光波导模式场。Nanoscribe的2PP技术将可调整模场的锥形体作为阶跃折射率光波导光束。增材制造为创新设计提供了更多可能性。湖北TPP增材制造Quantum X shape
Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨增材制造技术的运用。上海TPP增材制造无掩膜光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高上海TPP增材制造无掩膜光刻
