汽车和航空航天:配备了UMC样品台的D8D的一大优势就是可以对大型机械零件进行残余应力和结构分析以及残余奥氏体或高温合金表征。半导体与微电子:从过程开发到质量控制,D8D可以对亚毫米至300mm大小的样品进行结构表征。制药业筛选:新结构测定以及多晶筛选是药物开发的关键步骤,对此,D8D具有高通量筛选功能。储能/电池:使用D8D,您将能在原位循环条件下测试电池材料,直接了当的获取不断变化的储能材料的晶体结构和相组方面的信息。从过程开发到质量控制,D8 DISCOVER可以对亚毫米至300mm大小的样品进行结构表征。广州物相定量分析XRD衍射仪推荐咨询
所有维度都非常好的数据质量不论在何种应用场合,它都是您的可选的探测器:高的计数率、动态范围和能量分辨率,峰位精度布鲁克提供基于NIST标样刚玉(SRM1976c)整个角度范围内的准直保证,面向未来的多用途采用了开放式设计并具有不受约束的模块化特性的同时,将用户友好性、操作便利性以及安全操作性发挥得淋漓尽致,这就是布鲁克DAVINCI设计,布鲁克获得的TWIN-TWIN光路设计极大地简化了D8ADVANCE的操作,使之适用于多种应用和样品类型。为便于用户使用,该系统可在4种不同的光束几何之间进行自动切换。该系统无需人工干预,即可在Bragg-Brentano粉末衍射几何和不良形状的样品、涂层和薄膜的平行光束几何以及它们之间进行切换,且无需人工干预,是在环境下和非环境下对包括粉末、块状物体、纤维、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)在内的所有类型的样品进行分析的理想选择。辽宁BRUKERXRD衍射仪在DIFFRAC.WIZARD中配置温度曲线并将其与测量同不,然后可以在DIFFRAC.EVA中显示结果。
D2PHASER—数据质量D2PHASER所具备的数据质量和数据采集速度远超目前人们对台式XRD系统的认知。得益于出色的分辨率、低角度和低背景,该仪器是从相识别、定量相分析到晶体结构分析的所有粉末衍射应用的理想解决方案。不仅如此——只有布鲁克AXS才能在整个角度范围内,保证实现仪器对准(精度等于或优于±0.02°2θ)。加上遵循着严格的仪器验证协议,它可为所有应用提供准确数据。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。
D8DISCOVER是旗舰款多功能X射线衍射仪,带有诸多前沿技术组件。它专为在环境条件下和非环境条件下,对从粉末、非晶和多晶材料到外延多层薄膜等各种材料进行结构表征而设计。应用范围:1.定性相分析和定量相分析、结构测定和精修、微应变和微晶尺寸分析2.X射线反射法、掠入射衍射(GID)、面内衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI应力分析、晶体取向分析3.残余应力分析、织构和极图、微区X射线衍射、广角X射线散射(WAXS)4.总散射分析:Bragg衍射、对分布函数(PDF)、小角X射线散射(SAXS)D8 DISCOVER 特点:UMC样品台可对重达5 kg的样品进行扫描、大区域映射300mm的样品、高通量筛选支持三个孔板。
对于需要探索材料极限的工业金属样品,通常需要进行残余应力和织构测量。通过消除样品表面的拉应力或引起压应力,可延长其功能寿命。这可通过热处理或喷丸处理等物理工艺来完成。构成块状样品的微晶的取向,决定了裂纹的生长方式。而通过在材料中形成特定的织构,可显着增强其特性。这两种技术在优化制造法(例如增材制造)领域也占有一席之地。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。D8测角仪巨有市场超前地精确度,为布鲁克独有的准直保证奠定了基础。湖南XRD衍射仪哪里好
EIGER2 R 250K和500K是将Synchrotron性能带入实验室X射线衍射的2D检测器。广州物相定量分析XRD衍射仪推荐咨询
残余应力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr辐射进行测量,对钢构件的残余应力进行分析。使用了2D检测器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,测定小区域结构特性。通过积分2D图像,进行1D扫描,来进行定性相分析和微观结构分析。定性相分析:候选材料鉴别(PMI)为常见,这是因为其对原子结构十分灵敏,而这无法通过元素分析技术实现。高通量筛选(HTS):在DIFFRAC.EVA中,进行半定量分析,以现实孔板上不同相的浓度。非环境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置温度曲线并将其与测量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中显示结果。小角X射线散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,对EIGER2R500K通过2D模式手机的NISTSRM80119nm金纳米颗粒进行粒度分析。广州物相定量分析XRD衍射仪推荐咨询
超薄HfO2薄膜XRR测试引言随着晶体管节点技术的发展,薄膜厚度越来越薄。比如高-栅介电薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在该技术节点的a20范围内。超薄膜的均匀性是制备Hf基栅氧化物的主要工艺难题之一。为了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的测量技术。由于具有出色的适应能力,使用D8ADVANCE,您就可对所有类型的样品进行测量:从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。无论是新手用户还是专业用户,都可简单快捷、不出错地对配置进行更改。这都是通过布鲁克独特的DAVINCI设计实现的:配置仪器时,免工具、免准直,同时还受到自动化的实时组件识别与验证的支持。不止如此——布鲁克提供基于NIST标样...