增材制造对于中国制造而言非常需要，因为中国企业的制造能力往往很强，但是产品的开发能力严重不足，而增材制造可以为我们补足这个短板，它可以先把我们的设计利用很短的流程进行迭代，作出样机、评价、分析，确定了设计之后再进行生产。增材制造近几年发展非常快，年增长率几乎在百分之二十几到百分之四十几。其中，FDM尤其迎合了创客的需要和教育的需要，发展非常快。SLA在产品开发中发挥了重要作用。对大型金属结构件来说，用丝材进行熔化堆积可能是更好的方法，它的能源可以是激光的，也可以是电子束的，也可以是电弧的，就像传统的电焊一样。这个技术已经可以做到尺寸大于2米、5米，甚至已经做到8米。我们实验室已经做到2米，正在做5米、6米的装备。还可以把许多传统制造技术结合用于3D打印。用层层堆积的概念，例如铸造，可以进行一层层薄层铸造来形成3D打印新的技术。我们这边有做到，在每一层铸造中采取锻打的办法，来提高它的强度，增加结构材料的致密度，来提高它的性能。我们也做了很多堆焊的实验，认为是大型结构件高效的制造方法，可以达到每小时5公斤甚至10公斤。激光增材制造可以实现材料的精细控制和定制化生产。北京MEMS增材制造设备
Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商，2019年6月25日，南极熊从外媒获悉，该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件，其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beers定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制，QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性，我们的客户正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品，在科学研究中得到了较广的应用，并在哈佛大学纳米系统中心，加州理工学院，伦敦帝国理工学院，苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。北京MEMS增材制造设备想要了解增材制造和传统减材制造的区别，请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。
3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节，兼顾高精度、高性能、高柔性，可以快速制造结构十分复杂的零件，为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域，Nanoscribe表示，其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程，克服了长期的设计限制，并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。换句话说，PhotonicProfessionalGT系列与您的平均3D打印机不同，因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合，据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法，高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。3D打印机还缩短了设计迭代阶段，允许用户在“短短几天”内将想法转化为功能原型。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级增材制造和传统减材制造的区别你知道吗？想要了解请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维。
虽然半导体行业一直在使用3D打印技术，我们可能会有一个疑问，为什么我们没有听说，一个因素是竞争。如果全球只有四个庞大的大型公司，它们构成了光刻或制造机器的主要部分，那么这些公司并没有告诉外界关于他们应用3D打印技术的内幕，因为他们想确保的竞争优势。至少，对外界揭示其优化设备性能的技术，这种主观动机并不强。增材制造改善半导体工艺是多方面的，从轻量化，到随形冷却,再到结构一体化实现，根据3D科学谷的市场观察，增材制造使得半导体设备中的零件性能迈向了一个新的进化时代！在许多情况下，3D打印-增材制造可能使这些系统能够更接近理论上预期的工作环境，而不是在机器操作上做出妥协。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您了解增材制造工艺的分类。北京微流道增材制造Quantum X
Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨增材制造技术与产业的发展及前景分析。北京MEMS增材制造设备
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高北京MEMS增材制造设备
