EDI超纯水设备几大性能优势。连续再生优势:连续再生替代了间歇式再生,这就不再需要备用离子交换设备。每个模块都可以单独进行化学清洗,剩余的模块可以承担短期的高流量。启动/操作简单:与混床的间歇式再生相比,不再需要再生操作;EDI超纯水设备操作简单,所需伐门少,同时也无须操作者花费很大精力;操作只需简单的分析和控制。模块更换方便:模块的一般寿命高于3-5年;备用模块储存方便。外面的铝板能良好的保护模块、管道和食品不受损坏。更换EDI超纯水设备模块简单、快捷。产水纯度更高:在进水低于40us/cm时,产水一般超过10~15MΩ.cm(25℃),不受产水量波动的影响。回收率更高:如果水的硬度以CaCo3计小于1ppm时,回收率可达到90-95%;C室废水的浓度约为300-400us/cm,排出时接近中性。该部分水可进入前级RO系统再使用;如果水的硬度超过1ppm的CaCo3会在C室产生结垢,从而影响工作。在这种情况下,进入EDI超纯水设备之前的工艺要进行调整以降低硬度。硬度较高的水源建议采用软化器。占地面积小:EDI超纯水设备系统与混床相比在相同流量处理能力的条件下占地面积要小的多,约为1/10。这种为客户着想的设计是通过省去巨大的再生储存和废水中和系统而得以实现的。 电子超纯水标准是什么?扬州超纯水设备电话
半导体、电子行业是目前世界上要求非常高标准的超纯水设备用户。超纯水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术进度。同时半导体、电子工业的迅速发展促进了超纯水制造技术装备的发展。目前使用很多的制水工艺:(RO)反渗透+(EDI)电去离子工艺。(RO)反渗透+混床工艺。产水符合电子工业用水(水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,12MΩ*cm和Ω*cm四级)。电子超纯水设备应用范围。半导体工业用超纯水、彩色显像管用高纯水、集成电路、精细化工、实验室。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、Ω.cm,以区分不同水质。 扬州超纯水设备电话液晶面板超纯水设备系列。
超纯水设备和纯水设备有什么区别,你知道吗?超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。纯水设备,它采用的是主要是反渗透膜技术。它的工作原理是对水施加一定的压力,使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜,而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜,从而使渗透过的纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开;反渗透膜上的孔径只有0.0001微米,而病毒的直径一般有0.02-0.4微米,普通细菌的直径有0.4-1微米。
硕科环保生产的超纯水设备,凭借其可靠的品质,在业界树立了良好的口碑。该设备采用先进的反渗透技术,有效去除水中的溶解盐、重金属、有机物等杂质,确保水质达到超纯级别。设备设计精良,结构紧凑,操作简便。预处理系统采用精密过滤器,有效拦截颗粒物、悬浮物等杂质,保护反渗透膜不受损伤。反渗透膜组件具有高脱盐率,能够去除水中的离子和有机物,确保水质纯度。后处理系统采用紫外线消毒和去离子技术,确保水质安全稳定。硕科环保的超纯水设备适用于各种需要高纯度水的地方,如实验室、制药、电子、食品等行业。在实验室中,超纯水设备可满足各种实验和分析测试的需求,如色谱分析、质谱分析、光谱分析等。在制药和医疗器械制造中,超纯水设备用于制备注射用水、灭菌水、洗涤剂等,保障药品和医疗器械的安全性和有效性。在电子行业中,超纯水设备用于清洗和冷却集成电路板、半导体器件等,提高产品的性能和可靠性。此外,硕科环保的超纯水设备还具有节能环保的优点。设备采用先进的节能技术,降低能耗,减少水资源浪费。同时,设备采用环保材料和零排放设计,确保对环境的影响降至很低。总之,硕科环保生产的超纯水设备以其可靠的质量和节能环保的优点。 超纯水设备的应用场景有哪些?
纯水设备在芯片生产过程中扮演着至关重要的角色,其质量直接影响到芯片的生产质量。面对芯片紧缺的局势,超纯水设备的技术改进和应用成为了缓解这一问题的关键因素之一。同时,硕科环保工程设备(苏州)有限公司作为纯水设备领域的专业厂商,也致力于提供高质量的超纯水设备,为芯片产业的发展贡献力量。超纯水设备在芯片生产过程中具有不可替代的作用,其技术改进和应用对于缓解芯片紧缺局势具有重要意义。而硕科环保工程设备(苏州)有限公司作为纯水设备领域的专业厂商,将继续为芯片产业的发展贡献自己的力量。超纯水设备有什么技术特点?扬州超纯水设备电话
超纯水设备在工业生产中发挥着不可或缺的作用。扬州超纯水设备电话
半导体芯片超纯水设备。半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水,基板晶圆片检测清洗用水,中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗,后段检测封装清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生长用水,中段主要在曝光、显影、去光阻清洗用水,后段检测封装用水。同时,半导体行业对TOC的要求较高。设备优点:采用反渗透作为预处理再配上离子交换其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还有一定破坏性。 扬州超纯水设备电话
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