技术领域:本发明涉及一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法,可用于微纳制造,光学领域,电学,生物领域,mems领域,nems领域。技术背景:微纳制造技术是衡量一个国家制造水平的重要标志,对提高人们的生活水平,促进产业发展与经济增长,保障**安全等方法发挥着重要作用,微纳制造技术是微传感器、微执行器、微结构和功能微纳系统制造的基本手段和重要基础。基于半导体制造工艺的光刻技术是**常用的手段之一。对于纳米孔的加工,常用的手段是先利用曝光负性光刻胶并显影后得到微纳尺度的柱状结构,再通过金属的沉积和溶胶实现图形反转从而得到所需要的纳米孔。然而传统的方法由于光刻过程中的散焦及临近效应等会造成曝光后的微纳结构侧壁呈现一定的角度(如正梯形截面),这会造成蒸发过程中的挂壁严重从而使lift-off困难。同时由于我们常用的高分辨的负胶如hsq,在去胶的过程中需要用到危险的氢氟酸,而氢氟酸常常会腐蚀石英,氧化硅等衬底从而影响器件性能,特别的,对于跨尺度高精度纳米结构的制备在加工效率和加工能力方面面临着很大的挑战。 龙腾光电用的哪家的剥离液?嘉兴市面上哪家剥离液配方技术

所述功能切换口3外部并联有高纯水输入管线1和沉淀剂输入管线2。所述二级过滤罐13的底部设有废液出口20。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。本实施例中,所述一级过滤罐16和二级过滤罐13的结构相同,以一级过滤罐16为例,由外壳1601、悬设于外壳1601内的过滤筒、扣装于过滤筒顶部的压盖1602组成。所述压盖1602中心设有对应进料管路15的通孔。所述过滤筒由均匀布设多孔1606的支撑筒体1605、设于支撑筒体1605内表面的金属滤网1604、设于金属滤网1604表面的纤维滤布1603组成。所述支撑筒体1605的上沿伸出外壳1601顶部并利用水平翻边支撑于外壳1601上表面,所述金属滤网1604的上沿设有与支撑筒体1605的水平翻边扣合的定位翻边。所述支撑筒体1605的底面为向筒体内侧凹陷的锥面1607,增加了过滤面积,提高了过滤效率。所述搅拌釜10设有ph计(图中省略),用于检测溶液ph值。搅拌釜10由釜体8、设于釜体8顶部的搅拌电机4、与搅拌电机4连接的搅拌杆11、设于搅拌杆11末端的搅拌桨12组成,所述搅拌桨12为u字形,釜体8外表面设有调温水套9。工作过程:1、先向搅拌釜10内投入光刻胶废剥离液,再向釜内输入高纯水,两者在搅拌釜10内搅拌均匀。合肥中芯国际用剥离液报价华星光电用的哪家的剥离液?

所述过滤器包括多个并列排布的子过滤器,所述道包括多个子管道,每一所述子管道与一子过滤器连通,且所述多个子管道与当前级腔室对应的存储箱连通。在一些实施例中,所述第二管道包括公共子管道及多个第二子管道,每一所述第二子管道与一子过滤器连通,每一所述第二子管道与所述公共子管道连通,所述公共子管道与所述下一级腔室连通。在一些实施例中,所述阀门开关设置在每一所述子管道上。在一些实施例中,所述阀门开关设置在每一所述第二子管道上。在一些实施例中,所述阀门开关设置在每一所述子管道及每一所述第二子管道上。在一些实施例中,所述第二管道包括多个第三子管道,每一所述第三子管道与一子过滤器连通,且每一所述第三子管道与所述下一级腔室连通。在一些实施例中,所述阀门开关设置在每一所述第三子管道上。本申请实施例还提供一种剥离液机台的工作方法,包括:将多级腔室顺序排列,按照处于剥离制程的剥离基板的传送方向逐级向剥离基板提供剥离液;将来自于当前级腔室经历剥离制程的剥离液收集和存储于当前级腔室相应的存储箱中,所述剥离液中夹杂有薄膜碎屑;使用当前级腔室相应的过滤器过滤来自当前级腔室的剥离液并将过滤后的剥离液传输至下一级腔室。
本申请涉及半导体工艺技术领域,具体涉及一种剥离液机台及其工作方法。背景技术:剥离(lift-off)工艺通常用于薄膜晶体管(thinfilmtransistor)制程中的光罩缩减,lift-off先形成光阻并图案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同时,沉积在光阻上的膜层也被剥离,从而完成膜层的图形化,通过该制程可以实现两次光刻合并为一次以达到光罩缩减的目的。现有技术中,由于光阻上沉积了薄膜(该薄膜材料可以为金属,ito(氧化铟锡)等用于制备tft的膜层),在剥离光阻的同时薄膜碎屑被带入剥离液(stripper)中,大量的薄膜碎屑将会导致剥离液机台中的过滤器(filter)堵塞,从而导致机台无法使用,并且需要停止所有剥离液机台的工作,待将filter清理后再次启动,降低了生产效率。技术实现要素:本申请实施例提供一种剥离液机台及其工作方法,可以提高生产效率。本申请实施例提供一种剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上设置有阀门开关。在一些实施例中。专业配方,博洋剥离液是您的明智之选。

能够除去抗蚀剂。用本发明剥离液处理施加有抗蚀剂的基材的条件没有特别限定,例如,可以举出在设为10~80℃的本发明剥离液中浸渍基材1~60分钟左右的条件、将设为10~80℃的本发明剥离液向基材喷雾1~60分钟左右的条件。需要说明的是,浸渍时,可以摇动基材,或对本发明剥离液施加超声波。抗蚀剂的种类没有特别限定,可以是例如干膜抗蚀剂、液体抗蚀剂等中的任一种。干膜抗蚀剂的种类也没有特别限定,例如推荐碱可溶型的干膜抗蚀剂。作为这样的碱可溶型的干膜抗蚀剂,例如,可以举出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式会社制)等。施加抗蚀剂的基材没有特别限定,例如,可以举出印刷布线板、半导体基板、平板显示器、引线框中使用的各种金属、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本发明剥离液能够从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂,因此能够在包括除去这样的抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器、引线框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推荐包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板的制造方法,特别推荐基于半加成法的印刷布线板的制造方法。本发明剥离液能够除去的线/间距(l/s)没有特别限定。ITO剥离液的配方是什么?合肥市面上哪家剥离液什么价格
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能够增强亲水性,使得剥离液亲水性良好,能快速高效地剥离溶解光刻胶。润湿剂含有羟基,为聚乙二醇、甘油中的任意一种。下面通过具体实施例对本申请作进一步详细说明。以下实施例对本申请进行进一步说明,不应理解为对本申请的限制。表一:两种不同组分的剥离液配方一和配方二所采用的基础组分基本相同,不同的是配方二中加入有润湿剂,上述所描述的润湿剂是用于增强亲水性的,滴液与产品表面间的夹角为接触角,接触角可用来衡量润湿程度,水滴角测试仪可测量接触角,从润湿角度考虑,接触角<90°,且接触角越小润湿效果越好加入润湿剂后的配方二所制得的剥离液,在滴落在高世代面板后,通过水滴角测试仪测接触角,检测图如图1所示,三次测试的接触角如下表二:上述两种不同组分的剥离液作接触角测试接触角配方一配方二测试一,加入润湿剂后的配方二所制得的剥离液,其滴落在高世代面板后,其接触角比未加入润湿剂的配方一的剥离液润湿效果更好;请参阅图2所示,将配方一所制得的剥离液以及配方二所制得的剥离液进行光刻胶剥离,图2中的阴影圆点为浸泡时间t1后光刻胶残留,明显地,可以看出配方二中t1时间后光刻胶残留量小,而配方一中产品边缘处光刻胶的残留量大。嘉兴市面上哪家剥离液配方技术