RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

晟鼎远程等离子体电源RPS的应用类型:1.CVD腔室清洁①清洁HDP-CVD腔(使用F原子)②清洁PECVD腔(使用F原子)③清洁Low-kCVD腔(使用O原子、F原子)④清洁WCVD腔(使用F原子)2.表面处理、反应性刻蚀和等离子体辅助沉积①通过反应替代 (biao面氧化)进行表面改性②辅助PECVD③使用预活化氧气和氮气辅助低压反应性溅射沉积④使用预活化氧气和氮气进行反应性蒸发沉积⑤等离子体增强原子层沉积(PEALD)3.刻蚀:①灰化(除去表面上的碳类化合物);②使用反应性含氧气体粒子处理光刻胶。为纳米压印模板提供深度清洁。湖南远程等离子电源RPS

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东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 远程等离子体源,针对第三代半导体(GaN、SiC)的加工特性进行了专项优化,成为该领域的中心加工设备。第三代半导体材料硬度高、脆性大,传统加工方式易产生表面损伤,RPS 通过中性自由基反应实现低损伤加工,避免表面微裂纹的产生。RPS 可精细控制工艺参数,适配 GaN、SiC 等材料的刻蚀与清洁需求,在保证加工精度的同时,比较大限度保护材料原有性能。在第三代半导体器件制造中,RPS 的高选择性刻蚀能力可实现不同材料层的精细分离,高深宽比加工能力满足器件微型化需求。该 RPS 设备运行稳定,工艺重复性强,可满足第三代半导体量产需求,目前已应用于功率器件、射频器件等产品的制造,为第三代半导体产业发展提供了关键的 RPS 技术支撑。浙江国内RPS电源使用工艺气体三氟化氮(NF3)/O2,在交变电场和磁场作用下,原材料气体会被解离,从而释放出自由基。

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东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术,在智能交通领域的多个场景中得到应用,推动交通智能化发展。在城市交通管理中,RPS 可实时监测车辆位置与行驶状态,为交通流量调控提供数据支撑,缓解交通拥堵;在高速公路场景中,RPS 可实现车辆的精细定位与防撞预警,提升行车安全。RPS 定位技术与交通信号控制系统联动,可根据车辆流量自动调整信号灯时长,优化交通通行效率;在共享出行领域,RPS 可精细定位共享车辆位置,方便用户查找与归还。该 RPS 智能交通解决方案定位精度高、抗干扰能力强,可适应复杂的交通环境;通过与大数据、人工智能技术融合,不断提升交通管理的智能化水平。目前,RPS 定位技术已应用于多个智能交通项目,成为交通领域智能化升级的重要 RPS 技术。

东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术,为工业物联网提供了精细的数据采集支撑,助力工业智能化升级。在工业生产场景中,RPS 可实时定位生产设备、物料、人员的位置信息,将数据上传至工业物联网平台,实现生产过程的可视化管理。RPS 定位数据与生产数据融合分析,可优化生产流程,提高生产效率;通过监测设备位置与状态,可实现设备的预防性维护,减少故障停机时间。RPS 定位系统具备低功耗、广覆盖的特点,可适应工业车间的复杂环境;支持多设备同时定位,满足大规模工业场景的应用需求。该 RPS 工业物联网解决方案已应用于智能工厂、智能制造园区等场景,成为工业物联网数据采集的中心 RPS 技术工具。在传感器制造中实现敏感薄膜的均匀沉积。

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RPS远程等离子源在先进封装中的解决方案针对2.5D/3D封装中的硅通孔(TSV)工艺,RPS远程等离子源提供了完整的清洗方案。在深硅刻蚀后,采用SF6/O2远程等离子体去除侧壁钝化层,同时保持铜导线的完整性。在芯片堆叠键合前,通过H2/N2远程等离子体处理,将晶圆表面氧含量降至0.5at%以下,明显 改善了铜-铜键合强度。某封测厂应用数据显示,RPS远程等离子源将TSV结构的接触电阻波动范围从±15%收窄至±5%。RPS远程等离子源在MEMS器件释放工艺中的突破MEMS器件无偿 层释放是制造过程中的关键挑战。RPS远程等离子源采用交替脉冲模式,先通过CF4/O2远程等离子体刻蚀氧化硅无偿 层,再采用H2/N2远程等离子体钝化结构层。这种时序控制将结构粘附发生率从传统工艺的12%降至0.5%以下。在惯性传感器制造中,RPS远程等离子源实现了200:1的高深宽比结构释放,确保了微机械结构的运动自由度。在文化遗产保护中实现文物无损清洁。浙江国内RPS电源

用于太赫兹器件的超精密清洗。湖南远程等离子电源RPS

RPS远程等离子源在量子计算器件中的前沿应用在超导量子比特制造中,RPS远程等离子源通过O2/Ar远程等离子体去除表面磁噪声源,将量子比特退相干时间延长至100μs以上。在约瑟夫森结制备中,采用H2/N2远程等离子体精确控制势垒层厚度,将结电阻均匀性控制在±2%以内。实验结果显示,经RPS远程等离子源处理的量子芯片,保真度提升至99.95%。RPS远程等离子源在先进传感器制造中的精度突破在MEMS压力传感器制造中,RPS远程等离子源通过XeF2远程等离子体释放硅膜结构,将残余应力控制在10MPa以内。在红外探测器制造中,采用SF6/O2远程等离子体刻蚀悬臂梁结构,将热响应时间缩短至5ms。实测数据表明,采用RPS远程等离子源制造的传感器,精度等级达到0.01%FS,温度漂移<0.005%/℃。湖南远程等离子电源RPS

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