企业商机
紫外线吸收剂基本参数
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  • CHITEC
  • 型号
  • 紫外线吸收剂
紫外线吸收剂企业商机

TINIVIN144与在‘建议用量’一栏里所建议的紫外光吸收剂配合使用后,会使涂料的耐候性有明显的提高.协同作用会使涂料更好地发挥作用,对于失光、开裂、起泡、脱落和变色均有很好的,光稳定剂TINIVIN144亦可抑制在高温烘烤过程中所引起的树脂黄变。该光稳定剂可加于双层体系汽车漆中的中涂和罩光漆中,根据我们的经验,将光稳定剂加于较上一层涂层中能起到*的保护效果。对于粉末涂料,光稳定剂TINIVIN144能起到使粉末涂料摩擦带电的作用,该性能可带来如下好处:·提高摩擦静电喷涂中上粉率,减少粉末的回收量·提高粉末涂料和工件之间的附着力。·提高喷涂中对工件的‘包敷性’。光稳定剂TINIVIN144可能会和涂料体系中的酸性成分如:酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用,请加以测试。清漆和单层金属漆:0.5-1%tinuvin144+1-3%tinuin1130或tinuvin384或tinuvin928或tinuvin400 德国巴斯夫UV-123光稳定剂BASFTinuvin123受阻胺光稳定剂BASFUV-123光稳定剂分子结构化学名称:紫外线吸收剂 ,就选上海璞展实业有限公司,让您满意,期待您的光临!广东索尔维紫外线吸收剂Hostavin VSU

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紫外线吸收剂TINUVIN1577为三嗪类紫外线吸收剂,能够吸收280-380纳米紫外光线。具有相容性好、挥发性低、持效性长、迁移性低、热稳定性好、吸收效率高等特点,兼有紫外线吸收效能持久、不与金属催化剂反应等特性。适用于聚酯、聚醚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚醚胺、聚苯乙烯、丙烯酸共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸丁二酯、苯乙烯-丙烯腈树脂,特别适用于PC、PA、PET、PMMA膜材、片材、板材。一般用量为0.1-0.5%。外观浅黄色粉末分子量425.5含量≥99.0%熔点147-151℃闪点344.2°C密度@20℃1.15g/cm3灰份≤0.1%挥发份≤0.3%透光率460nm≥95%500nm≥97%辽宁聚碳酸酯紫外线吸收剂Hostavin VSU紫外线吸收剂 上海璞展实业有限公司获得众多用户的认可。

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在聚合物中,尤其是在PP纤维中使用德国巴斯夫BASF受阻胺类光稳定剂CHIMASSORB119FL的好处是光稳定效果高。它与多种聚合物相容并容易分散。德国巴斯夫BASF中性受阻胺紫外光稳定剂CHIMASSORB119FL在填充PP厚制品,特别是含碳黑的制品中表现出独特的长效热稳定效果。所以,当含硫的稳定剂由于有味道而不宜使用时,推荐在汽车用暖风机罩等制品中使用德国巴斯夫BASF中性受阻胺紫外光稳定剂CHIMASSORB119FL。德国巴斯夫BASF受阻胺类光稳定剂CHIMASSORB119FL可以增强许多有机颜料的色度,所以可用于PP纤维中。它与其它光稳定剂复配,产生具有协效作用的混合物(如Tinuvin111)。

NylostabS-EED尼龙用多功能助剂一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂,(与尼龙分子识别而相容)。>改善尼龙熔融加工性能在尼龙中添加Nylostab可以提高其熔融加工性>增强长期热稳定性和光稳定性,这种高度相容、持久有效的添加剂可以赋予尼龙极大地稳定作用,这是其他传统光稳定系统所不能提供的。将NylostabS-EED与oxalanilideUV吸收剂结合使用可以明显提高尼龙的抗UV能力。>增强可染性NylostabS-EED因具有碱性基团及相互作用,在复合金属染料或非金属酸性染料的染色过程中可以增强染料亲和力。从而使染色更稳定、经济、生态相容,可深度染色(S-EED)。>例如可以稳定尼龙的熔体压力、使加工过程平稳、纤维纺丝时减少断丝。容易操作作为一种结晶型化合物,S-EED在高分子熔融加工或聚合过程中,可以按传统喂料方法和定量给料技术应用加料。紫外线吸收剂 ,就选上海璞展实业有限公司,让您满意,有想法可以来我司咨询!

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LED支架PCT材料用非磷非硫长期耐热抗氧剂Chiguard228解决了由于粘贴灯珠,磷系抗氧剂会腐蚀灯珠镀银,硫系抗氧剂会引起胶水中毒问题。Chiguard228与酚类搭配完美解决了不能使用磷系抗氧剂和硫系抗氧剂的限制。中性受阻胺紫外光稳定剂Chiguard228是一种非聚合型高分子量的受阻胺类类光稳定剂。其相较于其他受阻胺类光稳定剂优点明显,可以增强着色聚烯烃制品的色度。由于它的大分子结构,它适用于所有要求低挥发性和高抗迁移性的领域。由于一般受阻胺类光稳定剂偏碱性,在酸性体系(如溴系阻燃体系中)会产生相互对抗作用。则Chiguard228是偏中性的紫外线吸收剂,解决了这一点。中性受阻胺紫外光稳定剂Chiguard228还是一种有效的抗氧剂,可较好改善聚烯烃的长效热稳定性。广东索尔维紫外线吸收剂Hostavin VSU

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