在汽车制造业中，RPS（基准点系统）是保障零部件装配一致性的中心标准，东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 检测方案已广泛应用于行业。RPS 遵循 “3-2-1 定位原则”，通过 3 个主定位点和若干辅助定位点限制零部件 6 个自由度，确保设计、制造、检测全流程定位统一。晟鼎精密的 RPS 检测设备支持接触式与非接触式双重检测模式，接触式通过三坐标测量机获取 RPS 定位点实际坐标，非接触式则利用激光扫描快速采集三维数据，两种方式均能精细输出偏差报告。该 RPS 方案的检具定位元件制造精度达到零部件公差的 1/3~1/5，销钉间距公差≤±0.03mm，定位面平面度≤0.02mm。通过 RPS 系统检测，可有效避免车身间隙不均匀、零部件干涉等问题，目前已成功应用于车身骨架、底盘件、车门等关键零部件生产，成为汽车行业高精度检测的中心 RPS 技术支撑。远程等离子体源（Remote Plasma Source，RPS）作为一种先进的表面处理技术，正逐渐展现其独特的价值。重庆半导体设备RPS石英舟腔体清洗
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术，为工业物联网提供了精细的数据采集支撑，助力工业智能化升级。在工业生产场景中，RPS 可实时定位生产设备、物料、人员的位置信息，将数据上传至工业物联网平台，实现生产过程的可视化管理。RPS 定位数据与生产数据融合分析，可优化生产流程，提高生产效率；通过监测设备位置与状态，可实现设备的预防性维护，减少故障停机时间。RPS 定位系统具备低功耗、广覆盖的特点，可适应工业车间的复杂环境；支持多设备同时定位，满足大规模工业场景的应用需求。该 RPS 工业物联网解决方案已应用于智能工厂、智能制造园区等场景，成为工业物联网数据采集的中心 RPS 技术工具。江苏远程等离子体源RPS腔室清洗该技术通过远程等离子体分离原理避免器件表面损伤。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 三维光学扫描设备，为文物保护提供了先进的数字化解决方案。文物保护对检测设备的精度与安全性要求极高，RPS 采用非接触式扫描方式，不会对文物造成任何损伤，可安全用于各类文物的数字化采集。RPS 设备的高分辨率扫描能力可精细捕捉文物的纹理、细节与尺寸信息，生成高精度三维数字模型，为文物修复、复制提供准确数据。在文物展览中，RPS 生成的三维数字模型可用于虚拟展览，让观众通过数字终端近距离欣赏文物细节；在文物研究中，研究人员可通过数字模型进行多角度分析，无需接触文物原件。该 RPS 文物数字化方案已应用于多家博物馆与文物保护机构，为文化遗产的传承与保护提供了有力的 RPS 技术支持。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司推出的 RPS 远程等离子源，是半导体先进制程中的关键中心设备。RPS 采用电感耦合等离子体技术，通过单独腔室生成高密度等离子体，经远程传输区筛选后，只让中性自由基进入主工艺腔，从根源避免离子轰击对晶圆的物理损伤。在 5nm 以下节点芯片制造中，RPS 展现出优越的工艺适配性，无论是 FinFET 还是 GAA 晶体管加工，都能精细控制侧壁粗糙度与晶格缺陷。RPS 支持 Ar、O₂、NF₃等多种工艺气体配比调节，可实现 SiO₂与 SiN 的刻蚀选择比超过 100:1，满足高深宽比通孔的均匀加工需求。晟鼎精密的 RPS 设备在 300mm 晶圆处理中，能将刻蚀均匀性控制在 ±2% 以内，长时间运行稳定性强，为半导体量产提供可靠保障，成为逻辑芯片、存储器件制造中的推荐 RPS 解决方案。在射频滤波器制造中实现压电薄膜的精确刻蚀。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司制定的 RPS 检具设计规范，成为汽车行业高精度检测的重要参考标准。RPS 检具设计严格遵循定位一致性原则，确保检具的 RPS 定位结构与零部件在车身上的装配定位完全一致，包括定位销孔位置、定位面形状等关键参数。在精度匹配上，RPS 检具定位元件的制造精度高于零部件公差要求，例如零部件孔位公差为 ±0.2mm 时，RPS 检具销钉公差控制在 ±0.05mm 以内。RPS 检具具备快速装夹、稳定支撑的特点，通过机械锁紧装置固定零部件，避免人为操作导致的检测误差。为保障检测可靠性，RPS 检具需定期通过三坐标测量机进行校准，销钉间距公差需维持在≤±0.03mm，定位面平面度≤0.02mm。该 RPS 检具设计方案已应用于多家主流车企，有效提升了零部件检测效率与准确性，成为汽车制造质量控制的中心 RPS 工具。用于光伏PERC电池的背钝化层沉积前表面活化。海南远程等离子电源RPS技术指导
RPS是一种用于产生等离子体的装置，它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。重庆半导体设备RPS石英舟腔体清洗
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 远程等离子体源，通过灵活的参数调控实现多场景工艺适配。RPS 设备可调节射频功率、气体配比、反应时间等关键参数，针对不同材料与加工需求定制工艺方案。在半导体刻蚀工艺中，RPS 通过优化 CF₄/O₂气体配比，实现 SiO₂与 SiN 的高选择性刻蚀；在工艺腔体清洁中，RPS 调节 NF3/O2 比例，确保污染物彻底去除且不损伤腔室表面。RPS 配备智能控制系统，可实时监测等离子体密度、自由基浓度等关键指标，根据反馈自动调整参数，维持工艺稳定性。通过大量实验数据积累，晟鼎精密建立了完善的 RPS 工艺参数数据库，客户可快速调用适配方案。该 RPS 设备的参数调控精度高、响应速度快，能够满足半导体、电子制造等领域的复杂工艺需求，成为高精度加工的中心 RPS 装备。重庆半导体设备RPS石英舟腔体清洗
