单细胞分选需要复杂的流体动力学控制结构,传统光刻难以实现多尺度结构集成。Polos 光刻机的分层曝光功能,在同一片芯片上制备出 5μm 窄缝的细胞捕获区与 50μm 宽的废液通道,通道高度误差控制在 ±2% 以内。某细胞生物学实验室利用该芯片,将单细胞分选通量提升至 1000 个 / 秒,分选纯度达 98%,较传统流式细胞仪体积缩小 90%。该技术已应用于循环tumor细胞检测,使稀有细胞捕获效率提升 3 倍,相关设备进入临床验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。未来技术储备:持续研发光束整形与多材料兼容工艺,lead微纳制造前沿。吉林POLOSBEAM-XL光刻机分辨率1.5微米

某智能机器人实验室采用 Polos 光刻机制造了磁控微纳机器人。其激光直写技术在镍钛合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋桨结构,机器人在旋转磁场下的推进速度达 50μm/s,转向精度小于 5°。通过自定义三维运动轨迹,该机器人在微流控芯片中成功实现了单个红细胞的捕获与转运,操作成功率从传统方法的 40% 提升至 85%。其轻量化设计(质量 < 1μg)还支持在活细胞表面进行纳米级手术,相关成果入选《Science Robotics》年度创新技术。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。安徽德国POLOS桌面无掩模光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米多材料兼容性:同步加工陶瓷 / PDMS / 金属,微流控芯片集成电极与通道一步成型。

在制备用于柔性显示的纳米压印模板时,Polos 光刻机的亚微米级定位精度(±50nm)确保了图案的均匀复制。某光电实验室使用该设备,在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透镜阵列,模板的图案保真度达 99.8%,边缘缺陷率低于 0.1%。基于此模板生产的柔性 OLED 背光模组,亮度均匀性提升至 98%,厚度减至 50μm,成功应用于下一代折叠屏手机,相关技术已授权给三家面板制造商。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。
某生物物理实验室利用 Polos 光刻机开发了基于压阻效应的细胞力传感器。其激光直写技术在硅基底上制造出 5μm 厚的悬臂梁结构,传感器的力分辨率达 10pN,较传统 AFM 提升 10 倍。通过在悬臂梁表面刻制 100nm 的微柱阵列,实现了单个心肌细胞收缩力的实时监测,力信号信噪比提升 60%。该传感器被用于心脏纤维化机制研究,成功捕捉到心肌细胞在病理状态下的力学变化,相关数据为心肌修复药物开发提供了关键依据。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。材料科学:超疏水表面纳米图案化,接触角 165°,防腐蚀性能增强 10 倍。

某revolution生物医学研究机构致力于开发快速、precise的疾病诊断技术。在研发一种用于早期tumor筛查的微流体诊断芯片时,采用了德国 Polos 光刻机。利用其无掩模激光光刻技术,科研团队成功制造出拥有复杂微通道网络的芯片。这些微通道能精确控制生物样本与检测试剂的混合及反应过程,极大提高了检测的灵敏度和准确性。以往使用传统光刻技术制备此类芯片,不only周期长,且精度难以保证。而 Polos 光刻机使制备周期缩短了近三分之一,助力该机构在tumor早期诊断研究上取得重大突破,相关成果已发表在国际authority医学期刊上。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。空间友好设计:占地面积小于 1.2㎡,小型实验室也能部署高精度光刻系统。陕西桌面无掩模光刻机让你随意进行纳米图案化
快速自动对焦:闭环对焦系统1秒完成,多层半自动对准提升实验效率。吉林POLOSBEAM-XL光刻机分辨率1.5微米
低成本桌面化光刻:SPS POLOS µ的科研普惠!Polos系列在微流体领域实现复杂3D流道结构的快速成型。例如,中科院理化所利用类似技术制备跨尺度微盘阵列,研究细胞浸润行为,为组织工程提供新策略3。Polos的高精度与灵活性支持仿生结构批量生产,推动医疗诊断芯片研发,如tumor筛查与药物递送系统的微型化64。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。吉林POLOSBEAM-XL光刻机分辨率1.5微米
BeamXL:中尺寸器件的加工升级,BeamXL型号针对中尺寸器件需求升级,将加工幅面扩大至更大规格,支持一次性成型中等尺寸微结构,无需多次拼接。其保留了Beam系列的core优势,分辨率仍可达0.8μm,同时提升了扫描速度与激光功率稳定性。在太阳能电池栅线加工中,该设备可一次性完成5英寸基板的精细栅线刻制,使电池转换效率提升3%,为光伏领域的小批量研发提供高效解决方案。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌,以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计,产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列,分辨率达 0.3-23μm,适...