陕西德国POLOS光刻机可以自动聚焦波长

POLOSµ：多基材兼容的通用型设备，POLOSµ桌面光刻机以2-23μm可调分辨率与广谱基材兼容性立足市场，支持硅、金属、塑料等多种材质加工，maximum适配4英寸晶圆。其接近式曝光模式结合1%光强均匀性，确保图案边缘清晰度，配合SFTprint控制软件，可直接导入CAD文件实现自动剂量测试。在微流体芯片制作中，它能precise刻制1-100μm微通道，为器官芯片的血管网络建模提供关键技术支撑。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​纳 / 微机械：亚微米级结构加工，微型齿轮精度达 ±50nm，推动微机电系统创新。陕西德国POLOS光刻机可以自动聚焦波长

在航空航天科研中，某科研团队致力于研发用于环境监测和侦察的微型飞行器。其中，制造轻量化且高性能的微机械部件是关键。德国 Polos 光刻机凭借无掩模激光光刻技术，助力团队制造出尺寸precise、质量轻盈的微型齿轮、机翼骨架等微机械结构。例如，利用该光刻机制造的微型齿轮，齿距精度达到纳米级别，极大提高了飞行器动力传输系统的效率和稳定性。基于此，科研团队成功试飞了一款新型微型飞行器，其续航时间和飞行灵活性远超同类产品，为未来微型飞行器在复杂环境下的应用奠定了坚实基础。陕西BEAM-XL光刻机光源波长405微米实时观测系统：120 FPS高清摄像头搭配20x尼康物镜，实现加工过程动态监控。

微纳卫星对部件重量与精度要求苛刻，传统加工难以兼顾。Polos 光刻机在硅基材料上实现了 50nm 深度的微沟槽加工，为某航天团队制造出轻量化星载惯性导航陀螺结构。通过自定义螺旋型振动梁图案，陀螺的零偏稳定性提升至 0.01°/h，较商用产品性能翻倍。该技术还被用于微推进器喷嘴阵列加工，使卫星姿态调整精度达到亚毫牛级，助力我国低轨卫星星座建设取得关键突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

Beam系列：紧凑型无掩模解决方案，PolosBeam系列以“桌面级尺寸，工业级性能”著称，其中Beam-6型号支持5英寸晶圆加工，曝光面积较基础款提升25%。其core优势在于可快速更换的光束引擎，采用压电驱动扫描技术，单次写入400μm区域，配合闭环对焦系统，1秒内即可完成precise对焦。该系列设备重量only260kg，占地面积不足0.4㎡，让中小型企业无需改造厂房即可引入微纳加工能力。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。无掩模技术优势：摒弃传统掩模，图案设计实时调整，研发成本直降 70%。

光束引擎技术：速度与精度的平衡，Polosoriginal creation的可更换光束引擎是其core技术亮点，采用UV激光形成精密光斑，通过压电驱动的精密工作台实现高速扫描。Beam系列设备单次写入400μm区域，配合晶圆分步移动与图案拼接技术，可在5英寸晶圆上实现无缝加工。这种“小光斑+快扫描”的组合，既保证了0.3μm的高精度，又将单块晶圆曝光时间控制在数十分钟内，兼顾科研精度与生产效率。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。德国 SPS Polos：深耕微纳加工 35 年，专注半导体与生命科学领域，全球布局 6 大技术中心，服务 500 + 科研机构。陕西BEAM-XL光刻机光源波长405微米

科研成果转化：中科院利用同类技术制备跨尺度微盘阵列，研究细胞浸润机制。陕西德国POLOS光刻机可以自动聚焦波长

Polos-BESM支持GDS文件直接导入和多层曝光叠加，简化射频器件（如IDC电容器）制造流程。研究团队利用类似设备成功制备高频电路元件，验证了其在5G通信和物联网硬件中的潜力。其高重复性（0.1 µm）确保科研成果的可转化性，助力国产芯片产业链突破技术封锁56。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。陕西德国POLOS光刻机可以自动聚焦波长