在微流体研究领域,德国 Polos 光刻机系列凭借独特优势脱颖而出。其无掩模激光光刻技术,打破传统光刻的局限,无需掩模就能实现高精度图案制作。这使得科研人员在构建微通道网络时,可根据实验需求自由设计,快速完成从图纸到实体的转化。以药物传输研究为例,利用 Polos 光刻机,能制造出尺寸precise、结构复杂的微通道,模拟人体环境,让药物在微小空间内可控流动,much提升药物传输效率研究的准确性。同时,在细胞培养实验中,该光刻机制作的微流体芯片,为细胞提供稳定且适宜的生长环境,助力细胞生物学研究取得新突破。小空间大作为的 Polos 光刻机,正推动微流体研究不断向前。材料科学:超疏水表面纳米图案化,接触角 165°,防腐蚀性能增强 10 倍。天津POLOSBEAM-XL光刻机可以自动聚焦波长

针对植入式医疗设备的长期安全性问题,某生物电子实验室利用 Polos 光刻机在聚乳酸()基底上制备可降解电极。其无掩模技术避免了传统掩模污染,使电极的金属残留量低于 0.01μg/mm²,生物相容性测试显示细胞存活率达 99%。通过自定义螺旋状天线图案,开发出的可降解心率监测器,在体内降解周期可控制在 3-12 个月,信号传输稳定性较同类产品提升 50%,相关技术已进入临床前生物相容性评价阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。浙江桌面无掩模光刻机光刻胶broad兼容:支持AZ5214E、SU-8等材料,优化参数降低侧壁粗糙度。

德国Polos-BESM系列光刻机采用无掩模激光直写技术,突破传统光刻对物理掩膜的依赖,支持用户通过软件直接输入任意图案进行快速曝光。其亚微米分辨率(most小线宽0.8 µm)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圆上实现高精度微纳结构加工18。系统体积紧凑,only占桌面空间,搭配闭环自动对焦(1秒完成)和半自动多层对准功能,大幅提升实验室原型开发效率,适用于微流体芯片设计、电子元件制造等领域。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。
Polos光刻机与德国Lab14集团、弗劳恩霍夫研究所等机构合作,推动光子集成与半导体封装技术发展。例如,Quantum X align系统的高对准精度(100 nm)为光通信芯片提供可靠解决方案,彰显德国精密制造与全球产业链整合的优势。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。无掩模技术优势:摒弃传统掩模,图案设计实时调整,研发成本直降 70%。

在构建肝脏芯片的血管化网络时,某生物工程团队使用 Polos 光刻机实现了跨尺度结构制备。其无掩模技术在 200μm 的主血管与 5μm 的blood capillary间precise衔接,血管内皮细胞贴壁率达 95%,较传统光刻提升 30%。通过输入 CT 扫描的真实肝脏血管数据,芯片成功模拟门静脉与肝窦的血流梯度,使肝细胞功能维持时间从 7 天延长至 21 天。该技术为药物肝毒性测试提供了接近体内环境的模型,某制药公司使用后将候选药物筛选周期缩短 40%,相关成果登上《Lab on a Chip》封面。纳 / 微机械:亚微米级结构加工,微型齿轮精度达 ±50nm,推动微机电系统创新。陕西BEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸
低成本科研普惠:桌面化设计减少投入,无掩膜工艺降低中小型实验室门槛。天津POLOSBEAM-XL光刻机可以自动聚焦波长
一家专注于再生医学的科研公司在组织工程支架的研究上,使用德国 Polos 光刻机取得remarkable成果。组织工程支架需要具备特定的三维结构,以促进细胞的生长和组织的修复。Polos 光刻机能够根据预先设计的三维模型,在生物可降解材料上精确制造出复杂的孔隙结构和表面图案。通过该光刻机制造的支架,在动物实验中表现出优异的细胞黏附和组织生长引导能力。与传统制造方法相比,使用 Polos 光刻机生产的支架,细胞在其上的增殖速度提高了 50%,为组织工程和再生医学的临床应用提供了有力支持。天津POLOSBEAM-XL光刻机可以自动聚焦波长
BeamXL:中尺寸器件的加工升级,BeamXL型号针对中尺寸器件需求升级,将加工幅面扩大至更大规格,支持一次性成型中等尺寸微结构,无需多次拼接。其保留了Beam系列的core优势,分辨率仍可达0.8μm,同时提升了扫描速度与激光功率稳定性。在太阳能电池栅线加工中,该设备可一次性完成5英寸基板的精细栅线刻制,使电池转换效率提升3%,为光伏领域的小批量研发提供高效解决方案。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌,以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计,产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列,分辨率达 0.3-23μm,适...