重庆德国桌面无掩模光刻机

上海有机化学研究所通过光刻技术制备多组分纳米纤维，实现了功能材料的精确组装。类似地，Polos系列设备可支持此类结构的可控加工，为新能源器件（如柔性电池）和智能材料提供技术基础3。设备的高重复性（0.1 µm）确保了科研成果的可转化性。掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化，无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下，将该技术带到了桌面上，进一步提升了其优势。无掩模技术优势：摒弃传统掩模，图案实时调整，研发成本降低 70%，小批量生产经济性突出。重庆德国桌面无掩模光刻机

在制备用于柔性显示的纳米压印模板时，Polos 光刻机的亚微米级定位精度（±50nm）确保了图案的均匀复制。某光电实验室使用该设备，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透镜阵列，模板的图案保真度达 99.8%，边缘缺陷率低于 0.1%。基于此模板生产的柔性 OLED 背光模组，亮度均匀性提升至 98%，厚度减至 50μm，成功应用于下一代折叠屏手机，相关技术已授权给三家面板制造商。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。辽宁德国BEAM光刻机可以自动聚焦波长工业4.0协同创新：与弗劳恩霍夫ILT合作优化激光能量分布，提升制造精度。

针对碳化硅（SiC）功率模块的栅极刻蚀难题，Polos 光刻机的激光直写技术实现了 20nm 的边缘粗糙度控制，较传统光刻胶工艺提升 5 倍。某新能源汽车芯片厂商利用该设备，将 SiC MOSFET 的导通电阻降低 15%，开关损耗减少 20%，推动车载逆变器效率突破 99%。其灵活的图案编辑功能支持快速验证新型栅极结构，使器件研发周期从 12 周压缩至 4 周，助力我国在第三代半导体领域实现弯道超车。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

在微流控芯片集成领域，某微机电系统实验室利用 Polos 光刻机的多材料同步曝光技术，在同一块 PDMS 芯片上直接制备出金属电极驱动的气动泵阀结构。其微泵通道宽度可控制在 20μm，流量调节精度达 ±1%，响应时间小于 50ms。通过软件输入不同图案，可在 10 分钟内完成从连续流到脉冲流的模式切换。该芯片被用于单细胞代谢分析，实现了单个tumor细胞葡萄糖摄取率的实时监测，检测灵敏度较传统方法提升 3 倍，相关设备已进入临床前验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。环保低能耗设计：固态光源能耗较传统设备降低30%，符合绿色实验室标准。

在航空航天科研中，某科研团队致力于研发用于环境监测和侦察的微型飞行器。其中，制造轻量化且高性能的微机械部件是关键。德国 Polos 光刻机凭借无掩模激光光刻技术，助力团队制造出尺寸precise、质量轻盈的微型齿轮、机翼骨架等微机械结构。例如，利用该光刻机制造的微型齿轮，齿距精度达到纳米级别，极大提高了飞行器动力传输系统的效率和稳定性。基于此，科研团队成功试飞了一款新型微型飞行器，其续航时间和飞行灵活性远超同类产品，为未来微型飞行器在复杂环境下的应用奠定了坚实基础。Polos-BESM 光刻机：无掩模激光技术，成本降低 50%，任意图案轻松输入，适配实验室微纳加工。安徽BEAM-XL光刻机让你随意进行纳米图案化

微型传感器量产：80 µm开环谐振器加工能力，推动工业级MEMS传感器升级。重庆德国桌面无掩模光刻机

微纳卫星对部件重量与精度要求苛刻，传统加工难以兼顾。Polos 光刻机在硅基材料上实现了 50nm 深度的微沟槽加工，为某航天团队制造出轻量化星载惯性导航陀螺结构。通过自定义螺旋型振动梁图案，陀螺的零偏稳定性提升至 0.01°/h，较商用产品性能翻倍。该技术还被用于微推进器喷嘴阵列加工，使卫星姿态调整精度达到亚毫牛级，助力我国低轨卫星星座建设取得关键突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。重庆德国桌面无掩模光刻机