东莞市晟鼎精密仪器有限公司研发的 RPS 远程等离子源 SPR-08，为半导体设备工艺腔体清洁提供原子级解决方案。该 RPS 设备基于电感耦合等离子体技术，通过交变电场和磁场作用解离 NF3/O2 等工艺气体，释放出高活性自由基，与工艺腔室内沉积的 SIO/SIN 污染材料及 H2O、O2 等残余气体发生化学反应，聚合为气态分子后经真空泵组抽出。RPS 的中心优势在于实现等离子体生成区与主工艺腔的物理隔离，避免离子轰击造成的腔室损伤，同时保证清洁彻底性。在 5nm 以下先进制程中，RPS 清洁技术可有效去除光刻胶残留与微小污染物，确保腔室洁净度满足高精度加工要求。RPS 设备操作便捷，维护简单，运行稳定性强，可适配不同规格半导体工艺腔体，目前已成为半导体制造企业提升产能与产品良率的关键 RPS 设备。用于太空电子器件的抗辐射处理。福建pecvd腔室远程等离子源RPS等离子源处理cvd腔室
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 快速模具技术，依托全球化的生产与物流网络，为全球客户提供高效服务。RPS 在中国拥有 5 家自有工厂，并与 9 家质优合作伙伴建立合作关系，生产基地位于深圳、东莞等精密制造中心城市，可快速响应全球客户订单。在物流方面，RPS 与顺丰、DHL、Fedex 等前端物流企业合作，确保产品快速、安全地运往全球各地。针对国际客户，RPS 提供多语言技术支持与售后服务，帮助客户解决使用过程中的问题；通过 ERP 系统，全球客户可实时查询订单进度，掌握生产动态。该 RPS 全球化服务方案已服务于多个国家和地区的客户，成为国际市场上具有竞争力的快速模具 RPS 品牌。海南半导体RPS腔室远程等离子源用于磁性存储器件的精密图形化刻蚀工艺。
RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升：功率器件（如GaN或SiC半导体）对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法，去除表面氧化物和金属杂质，而不引入缺陷。其均匀的处理确保了整个晶圆上的电性能一致性。在高温工艺中，RPS远程等离子源还能用于钝化层沉积前的表面准备。随着电动汽车和可再生能源的普及，RPS远程等离子源帮助提高功率器件的可靠性和寿命。纳米材料（如石墨烯或量子点）对表面污染极为敏感。RPS远程等离子源可用于制备超洁净基板，或对纳米结构进行精确修饰。其可控的化学特性允许选择性去除特定材料，而不损坏底层结构。在催化研究中，RPS远程等离子源还能活化纳米颗粒表面，增强其反应性。通过提供原子级清洁环境，RPS远程等离子源推动了纳米科技的前沿研究。
RPS远程等离子源与5G技术发展的关联5G设备需要高频PCB和射频组件，其性能受表面清洁度影响极大。RPS远程等离子源可用于去除钻孔残留或氧化物，确保信号完整性。在陶瓷基板处理中，它能清洁通孔，提升金属化质量。其精确控制避免了介质损伤，保持了组件的高频特性。随着5G网络扩张，RPS远程等离子源支持了更小、更高效设备的制造。PS远程等离子源在食品安全包装中的创新PVDC等阻隔涂层用于食品包装以延长保质期，但沉积腔室的污染会影响涂层质量。RPS远程等离子源通过定期清洁，确保涂层均匀性和附着力。其非接触式过程避免了化学残留，符合食品安全标准。此外，RPS远程等离子源还能用于表面活化，提升印刷或层压效果。在可持续包装趋势下，该技术帮助制造商实现高性能和环保目标。在汽车电子中确保恶劣环境下可靠性。
RPS远程等离子源在航空航天领域的应用：航空航天组件常使用高温合金或复合材料，其制造过程需要高精度清洁。RPS远程等离子源能够去除油脂、氧化物或其他污染物，确保涂层或粘接的可靠性。在涡轮叶片涂层沉积前，使用RPS远程等离子源进行表面处理，可以提升涂层的附着力和耐久性。其低损伤特性保护了精密部件，避免了疲劳寿命的降低。随着航空航天标准日益严格，RPS远程等离子源成为确保组件性能的关键技术。金属部件的腐蚀常始于表面污染物或缺陷。RPS远程等离子源可用于清洁和活化金属表面，提升防护涂层（如油漆或电镀）的附着力。其均匀的处理确保了整个表面的一致性，避免了局部腐蚀。在汽车或海洋工程中，采用RPS远程等离子源预处理部件，可以明显 延长其使用寿命。此外，其环保过程减少了化学清洗剂的使用，降低了环境 impact。在半导体前道制程中确保栅极界面质量。广东半导体RPS工厂直销
远程等离子体源以其高效、无损伤的处理效果，在半导体制造中发挥着越来越重要的作用。福建pecvd腔室远程等离子源RPS等离子源处理cvd腔室
远程等离子源，是一种基于变压器电感耦合等离子体技术的duli式自由基发生器（RPS），可以有效的解离输入气体。产生清洗或蚀刻所需的自由基(氟、氧原子等)，这些自由基通过腔室压差传输，远程等离子体内的电场保持在较低的水平，避免电荷可能损坏敏感的晶圆结构，利用自由基的强氧化特性，达到腔室清洗(Chamber Clean)或制程（On-Wafer PROCESS）的目的。该产品设计具有先进的HA或PEO涂层plasma block，先进的功率自适应模式，满足多种镀膜和刻蚀工艺需求，小体积的同时最大功率可达10kw。福建pecvd腔室远程等离子源RPS等离子源处理cvd腔室
